基板処理装置
【課題】真空搬送室に、基板を処理するための複数の処理室を接続した基板処理装置において、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑制する技術を提供すること。
【解決手段】真空雰囲気に維持された真空搬送室１３の周囲に、基板に対して真空処理が行なわれる複数の処理室３０を設ける。前記処理室３０は容器本体３１の上部開口を蓋体３２で開閉するように構成されている。蓋体開閉機構６を、複数の処理室３０の各々の蓋体３２の開閉位置を通りながら前記真空搬送室１３の外周に沿って移動するように設ける。前記蓋体３２には被保持部５が設けられており、蓋体開閉機構６に設けられた蓋体保持機構７を前記開閉位置にて上昇させることにより、処理室３０から蓋体３２を持ち上げる。
【解決手段】真空雰囲気に維持された真空搬送室１３の周囲に、基板に対して真空処理が行なわれる複数の処理室３０を設ける。前記処理室３０は容器本体３１の上部開口を蓋体３２で開閉するように構成されている。蓋体開閉機構６を、複数の処理室３０の各々の蓋体３２の開閉位置を通りながら前記真空搬送室１３の外周に沿って移動するように設ける。前記蓋体３２には被保持部５が設けられており、蓋体開閉機構６に設けられた蓋体保持機構７を前記開閉位置にて上昇させることにより、処理室３０から蓋体３２を持ち上げる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空搬送室に、基板を処理するための複数の処理室を接続した基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばＦＰＤ（Flａt Panel Display）の製造工程において、真空搬送室の周囲に複数の処理室を設け、搬送室内に設けられた搬送アームにより真空搬送室と処理室との間で、ガラス基板等の基板の受け渡しを行う基板処理装置が知られている。被処理体である基板に対し、前記処理室にて行われる処理としては、エッチングやアッシング、成膜等の処理が挙げられる。
【０００３】
前記処理室は、例えば基板が載置されると共に上部が開口する容器本体と、当該容器本体の開口部を開閉可能な蓋体とにより構成され、処理室内のメンテナンスや、蓋体のメンテナンス時には、蓋体を容器本体から取り外すことができるようになっている。蓋体には、処理ガスを供給するガスシャワーヘッドが設けられ、蓋体のメンテナンス作業の一つとしてガスシャワーヘッドの部品の交換等がある。
【０００４】
この蓋体の開閉動作については特許文献1に提案されている。この構成では、処理室毎に設けられた蓋体の開閉機構により容器本体から蓋体を上昇させた後、蓋体を容器本体から外れた位置までスライドさせる。次いで蓋体を下降させてから反転させることが行われている。この手法では、蓋体を処理室への基板の搬送方向と直交する方向にスライド移動させることにより、蓋体の開閉動作に必要な面積を小さくすることができる。
【０００５】
しかしながら、ＦＰＤ基板は大型であるため、処理室も平面形状における一辺の大きさが、例えば夫々３ｍ、３．５ｍもの大型の角筒型容器となる。従って処理室毎に蓋体を開閉及び反転させる機構とスペースが必要な構成では、処理室が増加すると蓋体を反転するスペースを確保しにくくなり、スペースを確保しようとすると、装置がさらに大型化する懸念がある。また処理室毎に蓋体の開閉機構が設けられているので、処理室が増加すると装置の製造コストの高騰化を招くおそれもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−６７２１８号公報（図1、図１９参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような事情の下になされたものであり、真空搬送室に、基板を処理するための複数の処理室を接続した基板処理装置において、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑制する技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このため本発明の基板処理装置は、基板搬送機構が設けられ、真空雰囲気に維持される真空搬送室と、
この真空搬送室の側面に接続された予備真空室と、
前記真空搬送室の側面に前記予備真空室とは周方向に離れて接続され、かつ互いに周方向に配置されると共に、各々容器本体の上に蓋体を設けて構成され、基板を処理するための複数の処理室と、
前記真空搬送室の周方向に沿って伸びるように設けられたガイド部材と、
このガイド部材に沿ってガイドされる移動体と、
この移動体の移動により前記処理室の上方を通るように当該移動体に設けられ、前記容器本体に対して蓋体を着脱するために蓋体を保持して昇降させる蓋体保持機構と、
前記移動体を前記ガイド部材に沿って移動させるための駆動部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、前記蓋体には、横方向に伸び、下方に空間が形成された係止部分を含む被保持部が設けられ、前記蓋体保持機構には、前記ガイド部材に沿って移動しながら前記係止部分の下方側の空間に進入し、その後上昇して前記係止部分を下方側から押し上げることにより蓋体を持ち上げる保持部が設けられるように構成してもよい。
【００１０】
さらに、前記ガイド部材は、前記真空搬送室の上に設けられるか、または前記真空搬送室と処理室との間に設けられた内側ガイド部材と、前記処理室に対して真空搬送室とは反対側に設けられた外側ガイド部材と、を備えるように構成してもよい。
【００１１】
さらにまた、前記真空搬送室は平面形状が多角形に形成され、前記真空搬送室の側面のうち、その外方側にメンテナンス領域を確保するための側面を除く他の側面に、夫々前記予備真空室と処理室とが接続されるように構成してもよい。この際、前記メンテナンス領域には、前記蓋体保持機構から受け渡された蓋体を保持して反転させる蓋体反転機構を設けてもよい。さらにまた、前記真空搬送室は六つの側面を有し、該側面に一つの前記予備真空室と四つの処理室が接続されるように構成してもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、真空搬送室の周囲に沿って配置された複数の処理室に対し、蓋体を保持して着脱（開閉）するための蓋体保持機構を共通化している。そしてこの蓋体保持機構を、処理室の並びに沿って処理室の上方領域を移動できるように構成しているため、蓋体の着脱時に真空処理室の横方向のスペースが不要となる。このため装置の大型化が抑えられ、設置面積（フットプリント）の増大を抑えることができる
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る基板処理装置の実施の形態を示す斜視図である。
【図２】前記基板処理装置の内部を示す横断平面図である。
【図３】前記基板処理装置に設けられた処理室の一例を示す断面図である。
【図４】前記基板処理装置の一部を示す平面図である。
【図５】前記基板処理装置の一部を示す側面図である。
【図６】前記基板処理装置の一部を示す側面図である。
【図７】前記基板処理装置の作用を説明するための側面図である。
【図８】前記基板処理装置の作用を説明するための側面図である。
【図９】前記基板処理装置の他の実施の形態を示す平面図である。
【図１０】前記基板処理装置の他の実施の形態を示す側面図である。
【図１１】前記基板処理装置のさらに他の実施の形態を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の基板処理装置の一実施の形態について、ＦＰＤ基板に対して処理を行う場合について説明する。行う処理としては、例えばエッチング処理とする。図1は、この基板処理装置１の概観を示す斜視図、図２はその内部を示す横断平面図である。図中１Ａ，１Ｂは、外部から、多数のＦＰＤ基板（以下「基板」という）Ｓを収容したキャリアＣ１，Ｃ２を載置するためのキャリア載置部である。これらキャリア載置部１Ａ，１Ｂは、例えば昇降機構１１によりキャリアＣ１，Ｃ２を昇降するように構成され、一方のキャリアＣ１には未処理基板Ｓ１が収容され、他方のキャリアＣ２には処理済みの基板Ｓ２が収容されるようになっている。
【００１５】
また、キャリア載置部１Ａ，１Ｂの奥側には、予備真空室をなすロードロック室１２と真空搬送室１３とが設けられている。さらに、キャリア載置部１Ａ，１Ｂの間には、前記２つのキャリアＣ１，Ｃ２と、ロードロック室１２との間で基板Ｓの受け渡しを行うための基板搬送手段２１が支持台１４上に設けられている。この基板搬送手段２１は例えば上下に設けられた２本のアーム２２と、これらを進退自在、及び回転自在に支持する基台２３と、を備えている。前記ロードロック室１２は、雰囲気が真空雰囲気と常圧雰囲気との間で切り替えられるように構成され、その内部には図２に示すように、基板Ｓを支持するためのバッファラック１５が配設されている。図中１６はポジショナーである。
【００１６】
前記真空搬送室１３は平面形状が多角形状、例えば正六角形状に構成され、その側面には、前記ロードロック室１２とは周方向に離れて接続されかつ互いに周方向に配置される複数個の処理室３０が配設されている。この例では、真空搬送室１３の内の４つの辺に対応する側面に夫々４個の処理室３０が気密に接続されている。
【００１７】
また、真空搬送室１３の残りの２つの辺の一方に対応する側面には、前記ロードロック室１２が気密に接続され、他方に対応する側面の外方側にはメンテナンス領域Ｍが確保されており、このメンテナンス領域Ｍに蓋体反転機構４が設けられている。この例では、ロードロック室１２と蓋体反転機構４とは互いに対向するように設けられている。
【００１８】
前記真空搬送室１３は真空雰囲気に維持されるように構成され、その内部には、図２に示すように、基板搬送機構２５が配設されている。そして、この基板搬送機構２５により、前記ロードロック室１２及び４つの処理室３０との間で基板Ｓが搬送されるようになっている。
【００１９】
また、前記ロードロック室１２と真空搬送室１３との間、真空搬送室１３と処理室３０との間、及びロードロック室１２と外側の大気雰囲気とを連通する開口部には、これらの間を気密にシールし、かつ開閉可能に構成されたゲートバルブＧＶが夫々介挿されている。
【００２０】
次に、図３を参照して前記処理室３０について簡単に説明する。この処理室３０は、例えば平面形状が四角形状に構成され、天井部が開口する容器本体３１と、この容器本体３１の天井開口部を開閉するように設けられた蓋体３２と、を備えている。前記蓋体３２は、後述する蓋体開閉機構６により容器本体３１に対して着脱自在に構成されている。前記基板Ｓは、例えば一辺が２．２ｍ、他辺が２．５ｍ程度の大きさの角型基板であり、前記処理室３０は、水平断面の一辺が３ｍ、他辺が３．５ｍ程度の大きさに設定されている。
【００２１】
前記容器本体３１の内部には、その底面の上に絶縁部材３３ａを介して、基板Ｓを載置するための載置台３３が配置されている。また容器本体３１には排気路３４ａを介して、例えば真空ポンプ３４よりなる真空排気手段が接続されている。一方、処理室３０内の上方には、載置台３３と対向するように、上部電極をなすシャワーヘッドであるガス供給部３５が、蓋体３２の内部に突出する支持部３６ａにより支持されるように設けられている。図中３６ｂは絶縁部材、３５ａはガス吐出孔、３７ａはガス供給管、３７はガス供給系、３８ａは給電棒、３８ｂは整合器、３８は高周波電源である。
【００２２】
このような処理室３０では、高周波電源３８からガス供給部３５に高周波電力を印加することにより、基板Ｓの上方側の空間に処理ガスのプラズマが形成され、これにより基板Ｓに対するエッチング処理が進行することになる。なお図３以外の図においては、図示の便宜上、整合器３８ｂや高周波電源３８、ガス供給系３７等については省略してある。
【００２３】
ここで、基板Ｓの処理動作について簡単に説明する。先ず、基板搬送手段２１により、未処理基板Ｓ１を収容した一方のキャリアＣ１から基板Ｓ１をロードロック室１２に搬入する。ロードロック室１２内においては、バッファラック１５により基板Ｓ１を保持し、基板搬送手段２１のアーム２２が退避した後、ロードロック室１２内を排気して、内部を所定の真空度まで減圧する。真空引き終了後、ポジショナー１６により基板Ｓ１の位置合わせを行なう。
【００２４】
この後、ロードロック室１２と真空搬送室１３との間のゲートバルブＧＶを開き、基板搬送機構２５により基板Ｓ１を受け取り、前記ゲートバルＧＶを閉じる。次いで真空搬送室１３と所定の処理室３０の間のゲートバルブＧＶを開いて、前記基板Ｓ１を基板搬送機構２５により当該処理室３０に搬入し、前記ゲートバルブＧＶを閉じる。
【００２５】
そして、処理室３０では、既述のように、基板Ｓ１の上の空間にプラズマを形成することにより、当該基板Ｓ１に対するエッチング処理を進行させる。このエッチング処理終了後、基板搬送機構２５により処理済み基板Ｓ２を受け取り、ロードロック室１２に搬送し、次いで、前記基板Ｓ２は、搬送手段２１により、処理済み基板用のキャリアＣ２に搬送される。これにより一枚の基板における処理が終了するが、この処理を未処理基板用のキャリアＣ１に搭載された全ての基板Ｓ１に対して行う。
【００２６】
続いて処理室３０についてさらに説明を続ける。前記蓋体３２の上面中央には、図１〜図５に示すように、被保持部５が設けられている。図５は、図２におけるＡ−Ａ線側から見た側面図である。前記被保持部５は、互いに背中合わせに配置された一対の鉤型部材５１，５１からなる。これら鉤型部材５１，５１の各垂直部分は、当該処理室３０が接続される真空搬送室１３の一辺に平行であって、前記一辺と直交する方向における蓋体３２の中央部に対して対称に互いに離間して配置されている。鉤型部材５１，５１の各水平部分は互いに反対に伸び出しており、後述の蓋体保持機構７により保持される係止部分５０をなしている。この例では、４つの処理室３０は互いに同じ形状に構成され、各処理室３０の蓋体３２の上面には、互いに同じ位置に夫々同じ形状の被保持部５が形成されている。
【００２７】
さらにまた、この基板処理装置には、前記被保持部５と係合して、蓋体３２を開閉するための蓋体開閉機構６が、前記真空搬送室１３の外周に沿って移動するように設けられている。この蓋体開閉機構６は、門型形状の移動体６１を備えている。そして、この基板処理装置は、前記真空搬送室１３の周方向に沿って伸びるように設けられたガイド部材を備えており、前記移動体６１はこのガイド部材に沿ってガイドされながら移動するように構成されている。この例では、真空搬送室１３の上面に内側ガイド部材をなす内側レール６２が設けられ、この内側レール６２と各処理室３０を介して一定の間隔で対向するように外側ガイド部材をなす外側レール６３が設けられている。ここで図５に示すように、処理室３０、真空搬送室１３は、夫々支持台３０ａ，１３ａにおり支持され，外側ガイドレール６３は、真空搬送室１３の周囲に間隔を開けて設けられた支柱６３ａにより支持されている。
【００２８】
この例では、真空搬送室１３は平面形状が正六角形状であるため、前記内側レール６２及び外側レール６３は夫々、真空搬送室１３の中心に対して、ロードロック室１２に臨む領域を除く同心円状に設けられている。こうして、前記蓋体開閉機構６は、真空搬送室１３における４つの側面に設けられた処理室３０に対して、互いに同じ位置関係で移動することになる。
【００２９】
前記内側レール６２は、真空搬送室１３の上面における外周近傍領域に設けられており、内側レール６２の内側領域における真空搬送室１３の上面には、メンテナンス用の開口部１７が設けられている。この開口部１７は蓋体を有し、通常は真空搬送室１３の内部を真空に保つために閉じられている。メンテナンス時は、この開口部１７から真空搬送室１３内の基板搬送機構２５を取り出すことができるように、開口部１７は当該基板搬送機構２５よりも大きく構成されている。
【００３０】
前記移動体６１は、その一端側が前記内側レール６２に沿ってガイドされ、その他端側が前記外側レール６３に沿ってガイドされるように構成されている。この例では、移動体６１は、図１及び図５に示すように、真空搬送室１３から外方に向けて水平に伸びる水平部材６４と、この水平部材６４から真空搬送室１３に設けられた内側レール６２に向って下方側に伸びる内側足部６５と、水平部材６４から処理室３０の外側に設けられた外側レール６３に向って下方側に伸びる外側足部６６と、を備えている。
【００３１】
前記内側足部６５の下端側には、複数個の車輪６７Ａが蓋体開閉機構６の移動方向に沿って設けられており、これら車輪６７Ａは内側移動モータ６８Ａにより駆動されるように構成されている。また、前記外側足部６６の下端側には、複数個の車輪６７Ｂが前記移動方向に沿って設けられており、これら車輪６７Ｂは外側移動モータ６８Ｂにより駆動されるように構成されている。図６に示すように、この例では車輪６７Ａと車輪６７Ｂとして２個の車輪が設けられている。これら内側移動モータ６８Ａ及び外側移動モータ６８Ｂは、蓋体開閉機構６が、各処理室３０における各々の蓋体３２の開閉位置を通りながら、真空搬送室１３の外周に沿って移動するように駆動が制御されている。この例では、車輪６７Ａ，６８Ｂと移動モータ６７Ｂ，６８Ｂと、により、前記移動体６１を前記ガイド部材に沿って移動させるための駆動部が構成されている。
【００３２】
そしてまた、この基板処理装置１には、前記移動体６１の移動により前記処理室３０の上方を通るように当該移動体６１に設けられ、前記容器本体３１に対して蓋体３２を着脱するために蓋体３２を保持して昇降させる蓋体保持機構７が設けられている。この蓋体保持機構７は、前記ガイドレール６に沿って移動しながら前記係止部分５０の下方側の空間に進入し、その後上昇して前記係止部分５０を下方側から押し上げることにより蓋体３２を持ち上げる保持部７０を備えている。この保持部７０は、互いに向い合わせに配置された一対の鉤型部材７１，７１からなる。これら鉤型部材７１，７１の各垂直部分は、保持部７０が係止部分５０の下方側の空間に進入する開閉位置では、被保持部５の鉤型部材５１，５１と平行であって、当該鉤型部材５１，５１の外側に位置するように配置されている。また鉤型部材７１，７１の各水平部分７０ａは、互いに内側に伸び出すように構成されている。
【００３３】
これら鉤型部材７１，７１は、昇降機構をなすジャッキ機構７２，７２により昇降自在に設けられている。このジャッキ機構７２は、ネジ山が刻設された昇降軸７３と、この昇降軸７３に螺合するネジ山が内面に形成されたネジ部本体７４と、を備えており、昇降軸７３の下端に鉤型部材７１，７１の上端が夫々接続されている。図中７５は昇降モータ、７６は減速機であり、２つのネジ部本体７４は、カップリング７７により、共通の減速機７６を介して昇降モータ７５に接続されている。図中７８は、ネジ部本体７４、昇降モータ７５や減速機７６の支持台である。このようなジャッキ機構７２では、昇降モータ７５により減速機７６、カップリング７７を介してネジ部本体７４を回転させると、回転方向によってネジ部本体７４の内部において昇降軸７３が図示しないガイド機構に沿って昇降するようになっている。図５中７８ａ，６４ａは、夫々支持台７８、水平部材６４に形成された開口部である。
【００３４】
こうして、蓋体保持機構７は、蓋体開閉機構６が前記開閉位置にあるときに、水平部分７０ａが被保持部５の係止部分５０の下方側に位置する下降位置と、前記係止部分５０を下方側から押し上げることにより蓋体３２を持ち上げる上昇位置との間で昇降自在に構成されることになる。
【００３５】
また、蓋体開閉機構６は、蓋体保持機構７を前記下降位置にした状態で蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の周囲に沿って移動させると、蓋体開閉機構６は処理室３０の被保持部５と干渉せずに移動し、各処理室３０における開閉位置では、被保持部５の係止部分５０の下方側に蓋体保持機構７の水平部分７０ａが位置することになる。
【００３６】
これにより、各処理室３０における開閉位置において、蓋体保持機構７を上昇させれば、係止部分５０が蓋体保持機構７により持ち上げられて蓋体３２が開く。一方、蓋体開閉機構６は、前記上昇位置にて蓋体３２を保持した状態で、蓋体３２が他の処理室３０の上を通過するように移動する。このため、前記上昇位置は、持ち上げられた蓋体３２が他の処理室３０の被保持部５等に干渉しないで移動できる高さに設定されている。
【００３７】
蓋体保持機構７にて保持された蓋体３２は、前記開閉位置にて蓋体保持機構７を下降させることにより、容器本体３１の開口部を塞ぐように容器本体３１に受け渡される。そして、蓋体開閉機構６は、蓋体保持機構７をこの受け渡し位置から前記下降位置までさらに下降させてから移動を再開する。
【００３８】
なお、処理室３０が内側レール６１と外側レール６２との間に介在する構成であれば、処理室３０の大きさは互いに異なるように構成してもよい。この場合には、蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の周方向に移動させたとき、蓋体保持機構７が前記下降位置にあるときには、当該蓋体保持機構７と各処理室３０の被保持部５とが干渉せず、蓋体開閉機構６を各処理室３０における開閉位置に位置させて、蓋体保持機構７を上昇させたときに被保持部５が持ち上げられるように、各処理室３０の被保持部５及び蓋体開閉機構６を構成する。このような構成であれば、蓋体保持機構７を前記下降位置に配置すれば、蓋体開閉機構６により全ての処理室３０の被保持部５と干渉せずに、蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の外周に沿って移動でき、全ての処理室３０の蓋体３２の開閉を行うことができる。
【００３９】
前記蓋体反転機構４は、前記蓋体保持機構７から受け渡された蓋体３２を保持して反転させるように構成され、例えば図１及び図８に示すように、蓋体３２が保持される枠体４１と、この枠体４１を水平な回転軸に沿って回転させる回転駆動部４２と、を備えている。この回転駆動部４２は、駆動モータ４３と、減速機４４と、軸受４５と、を備えており、これらは支持台４６により支持されている。前記枠体４１は、蓋体３２を保持する蓋体開閉機構６が蓋体載置位置に移動し、この位置から蓋体３２を下降させたときに、当該蓋体３２の周囲を保持するように構成されている。
【００４０】
さらに、上述の実施の形態では、蓋体反転機構４の上方側位置が蓋体開閉機構６の待機位置となっている。そして、この例では、真空搬送室１３を挟んでロードロック室１２と対向する位置に蓋体反転機構４が設けられているので、ロードロック室１２と蓋体反転機構４との間には、蓋体反転機構４の両側に夫々２個の処理室３０が設けられている。従って、説明の便宜上、蓋体反転機構４からロードロック室１２に向う方向を蓋体開閉機構６の進行方向として説明する。
【００４１】
上述の実施の形態では、図４及び図５に示すように、蓋体開閉機構６を処理室３０毎に開閉位置にて停止させるための停止位置を検出する位置センサが設けられている。この例では、前記位置センサは光センサよりなり、例えば発光部が処理室３０の外面に設けられると共に、受光部が外側レール６２の外方における前記発光部に対応する位置に設けられている。
【００４２】
例えば光センサは、各処理室３０毎に第１の光センサ８１と第２の光センサ８２と、が用意されている。第１の光センサ８１は、前記開閉位置に蓋体開閉機構６が位置したときに、蓋体開閉機構６の進行方向における移動体６１の一端側（前方側）で光センサ８１の光軸Ｌを遮断する位置に設けられている。また、第２の光センサ８２は、蓋体開閉機構６の進行方向における第１の光センサ６４の手前側に設けられている。図中８１Ａ，８２Ａは発光部、８１Ｂ，８２Ｂは受光部である。これら光センサ８１，８２からの検出信号は、後述する制御部１００に出力され、制御部１００では当該検出信号に基づいて、蓋体開閉機構６の移動モータ６７Ｂ，６８Ｂに減速指令や、停止指令を出力するように構成されている。
【００４３】
この基板処理装置には、例えばコンピュータからなる制御部１００が設けられている。この制御部１００は、プログラム、メモリ、ＣＰＵからなるデータ処理部を備えており、前記プログラムには制御部１００から、処理室３０や搬送系、蓋体開閉機構６等に制御信号を送り、予め定めたステップを進行させることで、基板Ｓに対する処理、例えばエッチング処理や、蓋体３２の開閉動作や、蓋体３２の反転動作が実施されるように命令（各ステップ）が組み込まれている。このプログラムは、コンピュータ記憶媒体例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、ＭＯ（光磁気ディスク）等の記憶部に格納されて制御部１００にインストールされる。
【００４４】
また、制御部１００では、作業者からの指令に基づいて、蓋体開閉機構６を蓋体反転機構４の上方側の待機位置から蓋体３２を開放しようとする処理室３０に向けて移動させたり、蓋体３２を保持した蓋体開閉機構６を前記待機位置まで移動させたり、蓋体開閉機構６を蓋体反転機構４に載置させるといった指令を移動モータ６７Ｂ，６８Ｂや、昇降モータ６５に出力する。
【００４５】
ここで、制御部１００では、前記移動モータ６７Ｂ，６８Ｂのエンコーダにより、蓋体開閉機構６を処理室３０における各々の蓋体３２の開閉位置に停止させるときの、移動モータ６８Ａ，６８Ｂの概ねの停止位置については把握しているが、この実施の形態においては、既述の光センサ８の検出値に基づいて、蓋体開閉機構６を前記開閉位置において高精度にて停止させるようにしている。
【００４６】
例えば前記光センサ８１，８２は、蓋体開閉機構６が前記待機位置にあるときには、第１の光センサ８１の光軸と第２の光センサ８２の光軸とがいずれも遮断されないＯＮ状態であり、このＯＮ信号が制御部１００に出力される。そして、蓋体開閉機構６が待機位置から蓋体３２を開閉しようとする処理室３０に移動するときには、先ず第２の光センサ８２の光軸が移動体６１の前記一端側により遮断されＯＦＦ状態となるため、第２の光センサ８２からＯＦＦ信号が制御部１００に出力される。制御部１００ではこのＯＦＦ信号に基づいて、蓋体開閉機構６の移動モータ６８Ａ，６８Ｂに減速指令を出力し、ここからは蓋体開閉機構６は速度を落としてゆっくり移動する。
【００４７】
そして、第１の光センサ８１の光軸が移動体６１の前記一端側により遮断されＯＦＦ状態となると、第１の光センサ８１からＯＦＦ信号が制御部１００に出力される。制御部１００ではこのＯＦＦ信号に基づいて、蓋体開閉機構６の移動モータ６８Ａ，６８Ｂに停止指令を出力し、蓋体開閉機構６を停止させる。これにより蓋体開閉機構６は各処理室３０における前記開閉位置にて正確に停止することになる。
【００４８】
このような基板処理装置１では、通常時は、蓋体開閉機構６を蓋体反転機構４の上方側の待機位置にて待機させた状態で、基板Ｓに対して既述のエッチング処理が行われる。そして、蓋体３２や処理室３０のメンテナンス時に蓋体３２を開放するときには、蓋体保持機構７を下降位置に位置させた状態にて、蓋体開閉機構６を待機位置から対象となる処理室３０に向けて移動させる。このとき、待機位置と、前記対象となる処理室３０との間に他の処理室３０がある場合には、蓋体保持機構７の水平部分７０ａは、当該処理室３０の被保持部５の係止部分５０の下方側を通過して行く。
【００４９】
そして、既述の手法にて、蓋体開閉機構６を前記対象となる処理室３０の開閉位置にて停止させる（図７（ａ）参照）。この開閉位置では、既述のように、蓋体開閉機構６の蓋体保持機構７の水平部分７０ａは、前記対象となる処理室３０の被保持部５の係止部分５０の下方側に位置している。次いで、図７（ｂ）に示すように、蓋体保持機構７を上昇させることにより、係止部分５０を水平部分７０ａにて押し上げるようにして、当該処理室３０から蓋体３２を持ち上げる。
【００５０】
こうして、蓋体開閉機構６にて蓋体３２を保持した状態で、蓋体開閉機構６は前記蓋体反転機構４に向って移動する。次いで、図８（ａ）に示すように、当該蓋体反転機構４の上方側の蓋体載置位置にて停止し、そこから下降して蓋体３２を枠体４１に受け渡す。そして、蓋体保持機構７はさらに下降位置まで下降して、蓋体保持機構７の水平部分７０ａを、蓋体３２の被保持部５の係止部分５０の下方側に位置させてから、蓋体開閉機構６を、蓋体３２の反転動作に干渉しない位置まで移動させる。
一方、蓋体反転機構４では、図８（ｂ）に示すように、枠体４１により蓋体３２を保持した状態で、回転駆動部４２により、当該枠体４１を水平軸周りに回転させ、蓋体３２を反転させる。蓋体３２の裏面には、ガス供給部３５等が取り付けられており、蓋体３２を反転させ、当該ガス供給部３５を上に向けた状態でメンテナンスが行われる。
【００５１】
また、蓋体保持機構７を上昇位置に位置させた状態にて、蓋体開閉機構６を待機位置から対象となる処理室３０に向けて移動させることもできる。この場合は、対象となる処理室３０の開閉位置手前にて、蓋体保持機構７を下降位置に下げたのち、蓋体開閉機構６を開閉位置に移動させる。
【００５２】
上述の実施の形態では、蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の外周に沿って移動するように設けると共に、この蓋体開閉機構６に設けられた蓋体保持機構７により、複数の処理室３０の蓋体３２を各々持ち上げるように構成している。そして、この蓋体保持機構７を、処理室３０の並びに沿って処理室３０の上方領域を移動できるように構成しているため、蓋体３２の着脱時に処理室３０の横方向のスペースが不要となる。このため装置の大型化が抑えられ、設置面積（フットプリント）の増大を抑えることができる。
【００５３】
また、共通の蓋体開閉機構６により全ての処理室３０の蓋体３２を着脱することができるので、処理室３０毎に蓋体３２の開閉機構を設ける構成に比べて、処理室３０の小型化を図ることができ、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑えることができる。
【００５４】
さらに、蓋体開閉機構６は処理室３０の上方側に設けられているので、処理室３０の周囲に蓋体開閉機構を設ける構成に比べて小型化を図ることができる。また、複数の処理室３０に対して共通の蓋体開閉機構６を設ければよいことから、製造コスト的にも有利である。さらにまた、処理室３０毎に蓋体３２のメンテナンス領域を確保する必要がなく、複数の処理室３０に対して共通のメンテナンス領域を確保すればよいので、この観点からも装置の大型化を抑えることができる。
【００５５】
さらにまた、蓋体開閉機構６を門型形状に構成する場合には、その一端側が内側レール６２に沿って移動し、他端側が外側レール６４に沿って移動する。このため、荷重が分散されるので、蓋体保持機構７により持ち上げた蓋体３２を安定した状態で移動することができる。既述のように、処理室３０はかなり大型であり、蓋体３２も１００００ｋｇ程度もの重量があることから、荷重を分散した状態で移動することは、メリットが大きい。
【００５６】
さらにまた、蓋体開閉機構６は処理室３０とは別個に設けられ、内側レール６２、外側レール６３についても処理室３０や真空搬送室１３の構成に合わせて後から設置することができる。従って既存の基板処理装置に組み合わせて設けることができ、利用価値が高い。
【００５７】
さらにまた、蓋体開閉機構６は真空搬送室１３の外周に沿って移動自在に設けられており、通常は処理室３０とは別の待機領域に位置している。このため、当該蓋体開閉機構６を設けても、処理室３０と真空搬送室１３との間のゲートバルブＧＶの近傍には障害物が存在せず、メンテナンスを妨げることがない。また、内側レール６２を、真空搬送室１３の外周近傍に設けることにより、真空搬送室１３の天井部に既述の開口部１７を形成するスペースを確保することができる。このため、必要な際には、真空搬送室１３の基板搬送機構２５を当該開口部１７から取り出して、メンテナンスできるという利点がある。
【００５８】
この例においては、内側レール６２は、真空搬送室１３の天板上に直接設けるようにしたが、支持板上に内側レール６２を設け、この支持板を真空搬送室１３の天板上に設置するようにしてもよい。このような構成では、別の領域にて内側レール６２を作製しておき、後から真空搬送室１３に設置できるという利点がある。また、真空搬送室１３の天板上に内側レール６２を支える支柱を設け、この上に内側レール６２を設けるようにしてもよい。
【００５９】
続いて、本発明の他の実施の形態について、図９〜図１１を用いて説明する。この実施の形態が上述の実施の形態と異なる点は、内側ガイド部材をなす内側レール９１を処理室３０と真空搬送室１３との間に設け、さらに内側レール９１及び外側レール９２を真空搬送室１３の全周に設けたことである。内側レール９１及び外側レール９２を真空搬送室１３の全周に設けたことにより、例えばロードロック室１２の上部を処理室３０の被保持部５と同様な被保持部を備えた蓋体にすることにより、ロードロック室１２の蓋体の開閉も蓋体開閉機構６により行うことができるようになる。
【００６０】
前記内側レール９１は、処理室３０と真空搬送室１３との間のゲートバルブＧＶの上方側に、真空搬送室１３の中心に対して同心円状に設けられている。そして、ゲートバルブＧＶが存在しない領域に設けられた支柱９３により、内側レール９１が支持されるように構成されている。また、外側レール９２は、処理室３０における真空搬送室１３と反対側に、真空搬送室１３の中心に対して同心円状に、支柱９４により支持される状態で設けられている。
【００６１】
図１０に示す例は、内側レール９１及び外側レール９２を処理室３０の上面よりも低い位置に設けた構成であり、図１１に示す例は、内側レール９１及び外側レール９２を処理室３０の上面よりも高い位置に設けた構成である。その他の構成については、上述の実施の形態と同様である。
【００６２】
これらの例においても、蓋体開閉機構６は内側レール９１及び外側レール９２上を、真空搬送室１３の外周に沿って移動するので、上述の実施の形態と同様に、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑制することができる。また、内側レール９１がゲートバルブＧＶの上方側に設けられることにより、真空搬送室１３の周囲全体に設けることができる。このため、蓋体開閉機構６が真空搬送室１３の周囲を周回移動できるため、移動制御が容易となる。
【００６３】
さらに、上述の実施の形態と同様に、蓋体開閉機構６を門型形状に構成しているので、荷重を分散した状態で蓋体３２を安定した状態で移動することができ、内側レール９１、外側レール９２、蓋体開閉機構６は、既存の基板処理装置に対して後から設置することが可能である。さらにまた、内側レール９１は、真空搬送室１３の外側に設けているので、真空搬送室１３の天井部に既述の開口部１７を形成することができ、メンテナンスが便利になる。
【００６４】
以上において、内側レールは、真空搬送室１３の周囲に設けられた支柱により支持される状態で、真空搬送室１３の天井部に設けるように構成してもよい。また、処理室３０が小型である等、蓋体３２の重さが軽量である場合には、蓋体開閉機構６は門型形状に限らず、真空搬送室１３側又は真空搬送室１３と反対側のいずれか一方から処理室３０に伸びるように構成し、片側のみで支持するように構成してもよい。この場合には、ガイド部材は、真空搬送室１３側又は真空搬送室１３と反対側のいずれか一方に設けられる。
【００６５】
さらに、複数の蓋体開閉機構６を、共通のガイド部材に沿って移動させるように設けるようにしてもよい。さらにまた、真空搬送室１３の平面形状は正多角形状に限らず、複数の処理室も互いに同じ形状に構成する場合に限らない。また、搬送室に１３に接続される処理室３０の個数は、２個以上であればいくつでもよく、必ずしも蓋体３２の蓋体反転機構４を設ける必要はない。さらに、蓋体反転機構４を設ける場合についても、真空搬送室１３の周囲における処理室３０と蓋体反転機構４の配列については適宜選択できる。さらにまた、移動体をガイド部材に沿って移動させるための駆動部は、ガイド部材に沿ってモータにより移動するスライダであってもよい。さらに、蓋体保持機構７を昇降させる昇降機構についても、鉤型部材７１ａ，７１ａの上端に可動体を設け、この可動体に対して、ネジ山が形成された昇降軸が回転して、前記可動体を昇降軸に沿って昇降させるように構成してもよい。
【００６６】
さらに、蓋体３２に設けられる被保持部５は蓋体保持機構７が昇降して被保持部５を持ち上げる構成であれば、その形状については限定されず、蓋体３２の側面に設けるようにしてもよい。また蓋体３２に必ずしも被保持部５は設ける必要はなく、蓋体保持機構７の下端に磁石を設け、この磁石により蓋体を吸着保持して持ち上げるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６７】
Ｓ ＦＰＤ基板
１３ 搬送室
３０ 処理室
３１ 容器本体
３２ 蓋体
４ 蓋体反転機構
５ 被保持部
５０ 係止部分
６ 蓋体開閉機構
６２，９１ 内側レール
６３，９２ 外側レール
６７Ａ，６７Ｂ 車輪
６８Ａ，６８Ｂ 移動モータ
７ 蓋体保持部
７０ 水平部分
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空搬送室に、基板を処理するための複数の処理室を接続した基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばＦＰＤ（Flａt Panel Display）の製造工程において、真空搬送室の周囲に複数の処理室を設け、搬送室内に設けられた搬送アームにより真空搬送室と処理室との間で、ガラス基板等の基板の受け渡しを行う基板処理装置が知られている。被処理体である基板に対し、前記処理室にて行われる処理としては、エッチングやアッシング、成膜等の処理が挙げられる。
【０００３】
前記処理室は、例えば基板が載置されると共に上部が開口する容器本体と、当該容器本体の開口部を開閉可能な蓋体とにより構成され、処理室内のメンテナンスや、蓋体のメンテナンス時には、蓋体を容器本体から取り外すことができるようになっている。蓋体には、処理ガスを供給するガスシャワーヘッドが設けられ、蓋体のメンテナンス作業の一つとしてガスシャワーヘッドの部品の交換等がある。
【０００４】
この蓋体の開閉動作については特許文献1に提案されている。この構成では、処理室毎に設けられた蓋体の開閉機構により容器本体から蓋体を上昇させた後、蓋体を容器本体から外れた位置までスライドさせる。次いで蓋体を下降させてから反転させることが行われている。この手法では、蓋体を処理室への基板の搬送方向と直交する方向にスライド移動させることにより、蓋体の開閉動作に必要な面積を小さくすることができる。
【０００５】
しかしながら、ＦＰＤ基板は大型であるため、処理室も平面形状における一辺の大きさが、例えば夫々３ｍ、３．５ｍもの大型の角筒型容器となる。従って処理室毎に蓋体を開閉及び反転させる機構とスペースが必要な構成では、処理室が増加すると蓋体を反転するスペースを確保しにくくなり、スペースを確保しようとすると、装置がさらに大型化する懸念がある。また処理室毎に蓋体の開閉機構が設けられているので、処理室が増加すると装置の製造コストの高騰化を招くおそれもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−６７２１８号公報（図1、図１９参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような事情の下になされたものであり、真空搬送室に、基板を処理するための複数の処理室を接続した基板処理装置において、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑制する技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このため本発明の基板処理装置は、基板搬送機構が設けられ、真空雰囲気に維持される真空搬送室と、
この真空搬送室の側面に接続された予備真空室と、
前記真空搬送室の側面に前記予備真空室とは周方向に離れて接続され、かつ互いに周方向に配置されると共に、各々容器本体の上に蓋体を設けて構成され、基板を処理するための複数の処理室と、
前記真空搬送室の周方向に沿って伸びるように設けられたガイド部材と、
このガイド部材に沿ってガイドされる移動体と、
この移動体の移動により前記処理室の上方を通るように当該移動体に設けられ、前記容器本体に対して蓋体を着脱するために蓋体を保持して昇降させる蓋体保持機構と、
前記移動体を前記ガイド部材に沿って移動させるための駆動部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、前記蓋体には、横方向に伸び、下方に空間が形成された係止部分を含む被保持部が設けられ、前記蓋体保持機構には、前記ガイド部材に沿って移動しながら前記係止部分の下方側の空間に進入し、その後上昇して前記係止部分を下方側から押し上げることにより蓋体を持ち上げる保持部が設けられるように構成してもよい。
【００１０】
さらに、前記ガイド部材は、前記真空搬送室の上に設けられるか、または前記真空搬送室と処理室との間に設けられた内側ガイド部材と、前記処理室に対して真空搬送室とは反対側に設けられた外側ガイド部材と、を備えるように構成してもよい。
【００１１】
さらにまた、前記真空搬送室は平面形状が多角形に形成され、前記真空搬送室の側面のうち、その外方側にメンテナンス領域を確保するための側面を除く他の側面に、夫々前記予備真空室と処理室とが接続されるように構成してもよい。この際、前記メンテナンス領域には、前記蓋体保持機構から受け渡された蓋体を保持して反転させる蓋体反転機構を設けてもよい。さらにまた、前記真空搬送室は六つの側面を有し、該側面に一つの前記予備真空室と四つの処理室が接続されるように構成してもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、真空搬送室の周囲に沿って配置された複数の処理室に対し、蓋体を保持して着脱（開閉）するための蓋体保持機構を共通化している。そしてこの蓋体保持機構を、処理室の並びに沿って処理室の上方領域を移動できるように構成しているため、蓋体の着脱時に真空処理室の横方向のスペースが不要となる。このため装置の大型化が抑えられ、設置面積（フットプリント）の増大を抑えることができる
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る基板処理装置の実施の形態を示す斜視図である。
【図２】前記基板処理装置の内部を示す横断平面図である。
【図３】前記基板処理装置に設けられた処理室の一例を示す断面図である。
【図４】前記基板処理装置の一部を示す平面図である。
【図５】前記基板処理装置の一部を示す側面図である。
【図６】前記基板処理装置の一部を示す側面図である。
【図７】前記基板処理装置の作用を説明するための側面図である。
【図８】前記基板処理装置の作用を説明するための側面図である。
【図９】前記基板処理装置の他の実施の形態を示す平面図である。
【図１０】前記基板処理装置の他の実施の形態を示す側面図である。
【図１１】前記基板処理装置のさらに他の実施の形態を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の基板処理装置の一実施の形態について、ＦＰＤ基板に対して処理を行う場合について説明する。行う処理としては、例えばエッチング処理とする。図1は、この基板処理装置１の概観を示す斜視図、図２はその内部を示す横断平面図である。図中１Ａ，１Ｂは、外部から、多数のＦＰＤ基板（以下「基板」という）Ｓを収容したキャリアＣ１，Ｃ２を載置するためのキャリア載置部である。これらキャリア載置部１Ａ，１Ｂは、例えば昇降機構１１によりキャリアＣ１，Ｃ２を昇降するように構成され、一方のキャリアＣ１には未処理基板Ｓ１が収容され、他方のキャリアＣ２には処理済みの基板Ｓ２が収容されるようになっている。
【００１５】
また、キャリア載置部１Ａ，１Ｂの奥側には、予備真空室をなすロードロック室１２と真空搬送室１３とが設けられている。さらに、キャリア載置部１Ａ，１Ｂの間には、前記２つのキャリアＣ１，Ｃ２と、ロードロック室１２との間で基板Ｓの受け渡しを行うための基板搬送手段２１が支持台１４上に設けられている。この基板搬送手段２１は例えば上下に設けられた２本のアーム２２と、これらを進退自在、及び回転自在に支持する基台２３と、を備えている。前記ロードロック室１２は、雰囲気が真空雰囲気と常圧雰囲気との間で切り替えられるように構成され、その内部には図２に示すように、基板Ｓを支持するためのバッファラック１５が配設されている。図中１６はポジショナーである。
【００１６】
前記真空搬送室１３は平面形状が多角形状、例えば正六角形状に構成され、その側面には、前記ロードロック室１２とは周方向に離れて接続されかつ互いに周方向に配置される複数個の処理室３０が配設されている。この例では、真空搬送室１３の内の４つの辺に対応する側面に夫々４個の処理室３０が気密に接続されている。
【００１７】
また、真空搬送室１３の残りの２つの辺の一方に対応する側面には、前記ロードロック室１２が気密に接続され、他方に対応する側面の外方側にはメンテナンス領域Ｍが確保されており、このメンテナンス領域Ｍに蓋体反転機構４が設けられている。この例では、ロードロック室１２と蓋体反転機構４とは互いに対向するように設けられている。
【００１８】
前記真空搬送室１３は真空雰囲気に維持されるように構成され、その内部には、図２に示すように、基板搬送機構２５が配設されている。そして、この基板搬送機構２５により、前記ロードロック室１２及び４つの処理室３０との間で基板Ｓが搬送されるようになっている。
【００１９】
また、前記ロードロック室１２と真空搬送室１３との間、真空搬送室１３と処理室３０との間、及びロードロック室１２と外側の大気雰囲気とを連通する開口部には、これらの間を気密にシールし、かつ開閉可能に構成されたゲートバルブＧＶが夫々介挿されている。
【００２０】
次に、図３を参照して前記処理室３０について簡単に説明する。この処理室３０は、例えば平面形状が四角形状に構成され、天井部が開口する容器本体３１と、この容器本体３１の天井開口部を開閉するように設けられた蓋体３２と、を備えている。前記蓋体３２は、後述する蓋体開閉機構６により容器本体３１に対して着脱自在に構成されている。前記基板Ｓは、例えば一辺が２．２ｍ、他辺が２．５ｍ程度の大きさの角型基板であり、前記処理室３０は、水平断面の一辺が３ｍ、他辺が３．５ｍ程度の大きさに設定されている。
【００２１】
前記容器本体３１の内部には、その底面の上に絶縁部材３３ａを介して、基板Ｓを載置するための載置台３３が配置されている。また容器本体３１には排気路３４ａを介して、例えば真空ポンプ３４よりなる真空排気手段が接続されている。一方、処理室３０内の上方には、載置台３３と対向するように、上部電極をなすシャワーヘッドであるガス供給部３５が、蓋体３２の内部に突出する支持部３６ａにより支持されるように設けられている。図中３６ｂは絶縁部材、３５ａはガス吐出孔、３７ａはガス供給管、３７はガス供給系、３８ａは給電棒、３８ｂは整合器、３８は高周波電源である。
【００２２】
このような処理室３０では、高周波電源３８からガス供給部３５に高周波電力を印加することにより、基板Ｓの上方側の空間に処理ガスのプラズマが形成され、これにより基板Ｓに対するエッチング処理が進行することになる。なお図３以外の図においては、図示の便宜上、整合器３８ｂや高周波電源３８、ガス供給系３７等については省略してある。
【００２３】
ここで、基板Ｓの処理動作について簡単に説明する。先ず、基板搬送手段２１により、未処理基板Ｓ１を収容した一方のキャリアＣ１から基板Ｓ１をロードロック室１２に搬入する。ロードロック室１２内においては、バッファラック１５により基板Ｓ１を保持し、基板搬送手段２１のアーム２２が退避した後、ロードロック室１２内を排気して、内部を所定の真空度まで減圧する。真空引き終了後、ポジショナー１６により基板Ｓ１の位置合わせを行なう。
【００２４】
この後、ロードロック室１２と真空搬送室１３との間のゲートバルブＧＶを開き、基板搬送機構２５により基板Ｓ１を受け取り、前記ゲートバルＧＶを閉じる。次いで真空搬送室１３と所定の処理室３０の間のゲートバルブＧＶを開いて、前記基板Ｓ１を基板搬送機構２５により当該処理室３０に搬入し、前記ゲートバルブＧＶを閉じる。
【００２５】
そして、処理室３０では、既述のように、基板Ｓ１の上の空間にプラズマを形成することにより、当該基板Ｓ１に対するエッチング処理を進行させる。このエッチング処理終了後、基板搬送機構２５により処理済み基板Ｓ２を受け取り、ロードロック室１２に搬送し、次いで、前記基板Ｓ２は、搬送手段２１により、処理済み基板用のキャリアＣ２に搬送される。これにより一枚の基板における処理が終了するが、この処理を未処理基板用のキャリアＣ１に搭載された全ての基板Ｓ１に対して行う。
【００２６】
続いて処理室３０についてさらに説明を続ける。前記蓋体３２の上面中央には、図１〜図５に示すように、被保持部５が設けられている。図５は、図２におけるＡ−Ａ線側から見た側面図である。前記被保持部５は、互いに背中合わせに配置された一対の鉤型部材５１，５１からなる。これら鉤型部材５１，５１の各垂直部分は、当該処理室３０が接続される真空搬送室１３の一辺に平行であって、前記一辺と直交する方向における蓋体３２の中央部に対して対称に互いに離間して配置されている。鉤型部材５１，５１の各水平部分は互いに反対に伸び出しており、後述の蓋体保持機構７により保持される係止部分５０をなしている。この例では、４つの処理室３０は互いに同じ形状に構成され、各処理室３０の蓋体３２の上面には、互いに同じ位置に夫々同じ形状の被保持部５が形成されている。
【００２７】
さらにまた、この基板処理装置には、前記被保持部５と係合して、蓋体３２を開閉するための蓋体開閉機構６が、前記真空搬送室１３の外周に沿って移動するように設けられている。この蓋体開閉機構６は、門型形状の移動体６１を備えている。そして、この基板処理装置は、前記真空搬送室１３の周方向に沿って伸びるように設けられたガイド部材を備えており、前記移動体６１はこのガイド部材に沿ってガイドされながら移動するように構成されている。この例では、真空搬送室１３の上面に内側ガイド部材をなす内側レール６２が設けられ、この内側レール６２と各処理室３０を介して一定の間隔で対向するように外側ガイド部材をなす外側レール６３が設けられている。ここで図５に示すように、処理室３０、真空搬送室１３は、夫々支持台３０ａ，１３ａにおり支持され，外側ガイドレール６３は、真空搬送室１３の周囲に間隔を開けて設けられた支柱６３ａにより支持されている。
【００２８】
この例では、真空搬送室１３は平面形状が正六角形状であるため、前記内側レール６２及び外側レール６３は夫々、真空搬送室１３の中心に対して、ロードロック室１２に臨む領域を除く同心円状に設けられている。こうして、前記蓋体開閉機構６は、真空搬送室１３における４つの側面に設けられた処理室３０に対して、互いに同じ位置関係で移動することになる。
【００２９】
前記内側レール６２は、真空搬送室１３の上面における外周近傍領域に設けられており、内側レール６２の内側領域における真空搬送室１３の上面には、メンテナンス用の開口部１７が設けられている。この開口部１７は蓋体を有し、通常は真空搬送室１３の内部を真空に保つために閉じられている。メンテナンス時は、この開口部１７から真空搬送室１３内の基板搬送機構２５を取り出すことができるように、開口部１７は当該基板搬送機構２５よりも大きく構成されている。
【００３０】
前記移動体６１は、その一端側が前記内側レール６２に沿ってガイドされ、その他端側が前記外側レール６３に沿ってガイドされるように構成されている。この例では、移動体６１は、図１及び図５に示すように、真空搬送室１３から外方に向けて水平に伸びる水平部材６４と、この水平部材６４から真空搬送室１３に設けられた内側レール６２に向って下方側に伸びる内側足部６５と、水平部材６４から処理室３０の外側に設けられた外側レール６３に向って下方側に伸びる外側足部６６と、を備えている。
【００３１】
前記内側足部６５の下端側には、複数個の車輪６７Ａが蓋体開閉機構６の移動方向に沿って設けられており、これら車輪６７Ａは内側移動モータ６８Ａにより駆動されるように構成されている。また、前記外側足部６６の下端側には、複数個の車輪６７Ｂが前記移動方向に沿って設けられており、これら車輪６７Ｂは外側移動モータ６８Ｂにより駆動されるように構成されている。図６に示すように、この例では車輪６７Ａと車輪６７Ｂとして２個の車輪が設けられている。これら内側移動モータ６８Ａ及び外側移動モータ６８Ｂは、蓋体開閉機構６が、各処理室３０における各々の蓋体３２の開閉位置を通りながら、真空搬送室１３の外周に沿って移動するように駆動が制御されている。この例では、車輪６７Ａ，６８Ｂと移動モータ６７Ｂ，６８Ｂと、により、前記移動体６１を前記ガイド部材に沿って移動させるための駆動部が構成されている。
【００３２】
そしてまた、この基板処理装置１には、前記移動体６１の移動により前記処理室３０の上方を通るように当該移動体６１に設けられ、前記容器本体３１に対して蓋体３２を着脱するために蓋体３２を保持して昇降させる蓋体保持機構７が設けられている。この蓋体保持機構７は、前記ガイドレール６に沿って移動しながら前記係止部分５０の下方側の空間に進入し、その後上昇して前記係止部分５０を下方側から押し上げることにより蓋体３２を持ち上げる保持部７０を備えている。この保持部７０は、互いに向い合わせに配置された一対の鉤型部材７１，７１からなる。これら鉤型部材７１，７１の各垂直部分は、保持部７０が係止部分５０の下方側の空間に進入する開閉位置では、被保持部５の鉤型部材５１，５１と平行であって、当該鉤型部材５１，５１の外側に位置するように配置されている。また鉤型部材７１，７１の各水平部分７０ａは、互いに内側に伸び出すように構成されている。
【００３３】
これら鉤型部材７１，７１は、昇降機構をなすジャッキ機構７２，７２により昇降自在に設けられている。このジャッキ機構７２は、ネジ山が刻設された昇降軸７３と、この昇降軸７３に螺合するネジ山が内面に形成されたネジ部本体７４と、を備えており、昇降軸７３の下端に鉤型部材７１，７１の上端が夫々接続されている。図中７５は昇降モータ、７６は減速機であり、２つのネジ部本体７４は、カップリング７７により、共通の減速機７６を介して昇降モータ７５に接続されている。図中７８は、ネジ部本体７４、昇降モータ７５や減速機７６の支持台である。このようなジャッキ機構７２では、昇降モータ７５により減速機７６、カップリング７７を介してネジ部本体７４を回転させると、回転方向によってネジ部本体７４の内部において昇降軸７３が図示しないガイド機構に沿って昇降するようになっている。図５中７８ａ，６４ａは、夫々支持台７８、水平部材６４に形成された開口部である。
【００３４】
こうして、蓋体保持機構７は、蓋体開閉機構６が前記開閉位置にあるときに、水平部分７０ａが被保持部５の係止部分５０の下方側に位置する下降位置と、前記係止部分５０を下方側から押し上げることにより蓋体３２を持ち上げる上昇位置との間で昇降自在に構成されることになる。
【００３５】
また、蓋体開閉機構６は、蓋体保持機構７を前記下降位置にした状態で蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の周囲に沿って移動させると、蓋体開閉機構６は処理室３０の被保持部５と干渉せずに移動し、各処理室３０における開閉位置では、被保持部５の係止部分５０の下方側に蓋体保持機構７の水平部分７０ａが位置することになる。
【００３６】
これにより、各処理室３０における開閉位置において、蓋体保持機構７を上昇させれば、係止部分５０が蓋体保持機構７により持ち上げられて蓋体３２が開く。一方、蓋体開閉機構６は、前記上昇位置にて蓋体３２を保持した状態で、蓋体３２が他の処理室３０の上を通過するように移動する。このため、前記上昇位置は、持ち上げられた蓋体３２が他の処理室３０の被保持部５等に干渉しないで移動できる高さに設定されている。
【００３７】
蓋体保持機構７にて保持された蓋体３２は、前記開閉位置にて蓋体保持機構７を下降させることにより、容器本体３１の開口部を塞ぐように容器本体３１に受け渡される。そして、蓋体開閉機構６は、蓋体保持機構７をこの受け渡し位置から前記下降位置までさらに下降させてから移動を再開する。
【００３８】
なお、処理室３０が内側レール６１と外側レール６２との間に介在する構成であれば、処理室３０の大きさは互いに異なるように構成してもよい。この場合には、蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の周方向に移動させたとき、蓋体保持機構７が前記下降位置にあるときには、当該蓋体保持機構７と各処理室３０の被保持部５とが干渉せず、蓋体開閉機構６を各処理室３０における開閉位置に位置させて、蓋体保持機構７を上昇させたときに被保持部５が持ち上げられるように、各処理室３０の被保持部５及び蓋体開閉機構６を構成する。このような構成であれば、蓋体保持機構７を前記下降位置に配置すれば、蓋体開閉機構６により全ての処理室３０の被保持部５と干渉せずに、蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の外周に沿って移動でき、全ての処理室３０の蓋体３２の開閉を行うことができる。
【００３９】
前記蓋体反転機構４は、前記蓋体保持機構７から受け渡された蓋体３２を保持して反転させるように構成され、例えば図１及び図８に示すように、蓋体３２が保持される枠体４１と、この枠体４１を水平な回転軸に沿って回転させる回転駆動部４２と、を備えている。この回転駆動部４２は、駆動モータ４３と、減速機４４と、軸受４５と、を備えており、これらは支持台４６により支持されている。前記枠体４１は、蓋体３２を保持する蓋体開閉機構６が蓋体載置位置に移動し、この位置から蓋体３２を下降させたときに、当該蓋体３２の周囲を保持するように構成されている。
【００４０】
さらに、上述の実施の形態では、蓋体反転機構４の上方側位置が蓋体開閉機構６の待機位置となっている。そして、この例では、真空搬送室１３を挟んでロードロック室１２と対向する位置に蓋体反転機構４が設けられているので、ロードロック室１２と蓋体反転機構４との間には、蓋体反転機構４の両側に夫々２個の処理室３０が設けられている。従って、説明の便宜上、蓋体反転機構４からロードロック室１２に向う方向を蓋体開閉機構６の進行方向として説明する。
【００４１】
上述の実施の形態では、図４及び図５に示すように、蓋体開閉機構６を処理室３０毎に開閉位置にて停止させるための停止位置を検出する位置センサが設けられている。この例では、前記位置センサは光センサよりなり、例えば発光部が処理室３０の外面に設けられると共に、受光部が外側レール６２の外方における前記発光部に対応する位置に設けられている。
【００４２】
例えば光センサは、各処理室３０毎に第１の光センサ８１と第２の光センサ８２と、が用意されている。第１の光センサ８１は、前記開閉位置に蓋体開閉機構６が位置したときに、蓋体開閉機構６の進行方向における移動体６１の一端側（前方側）で光センサ８１の光軸Ｌを遮断する位置に設けられている。また、第２の光センサ８２は、蓋体開閉機構６の進行方向における第１の光センサ６４の手前側に設けられている。図中８１Ａ，８２Ａは発光部、８１Ｂ，８２Ｂは受光部である。これら光センサ８１，８２からの検出信号は、後述する制御部１００に出力され、制御部１００では当該検出信号に基づいて、蓋体開閉機構６の移動モータ６７Ｂ，６８Ｂに減速指令や、停止指令を出力するように構成されている。
【００４３】
この基板処理装置には、例えばコンピュータからなる制御部１００が設けられている。この制御部１００は、プログラム、メモリ、ＣＰＵからなるデータ処理部を備えており、前記プログラムには制御部１００から、処理室３０や搬送系、蓋体開閉機構６等に制御信号を送り、予め定めたステップを進行させることで、基板Ｓに対する処理、例えばエッチング処理や、蓋体３２の開閉動作や、蓋体３２の反転動作が実施されるように命令（各ステップ）が組み込まれている。このプログラムは、コンピュータ記憶媒体例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、ＭＯ（光磁気ディスク）等の記憶部に格納されて制御部１００にインストールされる。
【００４４】
また、制御部１００では、作業者からの指令に基づいて、蓋体開閉機構６を蓋体反転機構４の上方側の待機位置から蓋体３２を開放しようとする処理室３０に向けて移動させたり、蓋体３２を保持した蓋体開閉機構６を前記待機位置まで移動させたり、蓋体開閉機構６を蓋体反転機構４に載置させるといった指令を移動モータ６７Ｂ，６８Ｂや、昇降モータ６５に出力する。
【００４５】
ここで、制御部１００では、前記移動モータ６７Ｂ，６８Ｂのエンコーダにより、蓋体開閉機構６を処理室３０における各々の蓋体３２の開閉位置に停止させるときの、移動モータ６８Ａ，６８Ｂの概ねの停止位置については把握しているが、この実施の形態においては、既述の光センサ８の検出値に基づいて、蓋体開閉機構６を前記開閉位置において高精度にて停止させるようにしている。
【００４６】
例えば前記光センサ８１，８２は、蓋体開閉機構６が前記待機位置にあるときには、第１の光センサ８１の光軸と第２の光センサ８２の光軸とがいずれも遮断されないＯＮ状態であり、このＯＮ信号が制御部１００に出力される。そして、蓋体開閉機構６が待機位置から蓋体３２を開閉しようとする処理室３０に移動するときには、先ず第２の光センサ８２の光軸が移動体６１の前記一端側により遮断されＯＦＦ状態となるため、第２の光センサ８２からＯＦＦ信号が制御部１００に出力される。制御部１００ではこのＯＦＦ信号に基づいて、蓋体開閉機構６の移動モータ６８Ａ，６８Ｂに減速指令を出力し、ここからは蓋体開閉機構６は速度を落としてゆっくり移動する。
【００４７】
そして、第１の光センサ８１の光軸が移動体６１の前記一端側により遮断されＯＦＦ状態となると、第１の光センサ８１からＯＦＦ信号が制御部１００に出力される。制御部１００ではこのＯＦＦ信号に基づいて、蓋体開閉機構６の移動モータ６８Ａ，６８Ｂに停止指令を出力し、蓋体開閉機構６を停止させる。これにより蓋体開閉機構６は各処理室３０における前記開閉位置にて正確に停止することになる。
【００４８】
このような基板処理装置１では、通常時は、蓋体開閉機構６を蓋体反転機構４の上方側の待機位置にて待機させた状態で、基板Ｓに対して既述のエッチング処理が行われる。そして、蓋体３２や処理室３０のメンテナンス時に蓋体３２を開放するときには、蓋体保持機構７を下降位置に位置させた状態にて、蓋体開閉機構６を待機位置から対象となる処理室３０に向けて移動させる。このとき、待機位置と、前記対象となる処理室３０との間に他の処理室３０がある場合には、蓋体保持機構７の水平部分７０ａは、当該処理室３０の被保持部５の係止部分５０の下方側を通過して行く。
【００４９】
そして、既述の手法にて、蓋体開閉機構６を前記対象となる処理室３０の開閉位置にて停止させる（図７（ａ）参照）。この開閉位置では、既述のように、蓋体開閉機構６の蓋体保持機構７の水平部分７０ａは、前記対象となる処理室３０の被保持部５の係止部分５０の下方側に位置している。次いで、図７（ｂ）に示すように、蓋体保持機構７を上昇させることにより、係止部分５０を水平部分７０ａにて押し上げるようにして、当該処理室３０から蓋体３２を持ち上げる。
【００５０】
こうして、蓋体開閉機構６にて蓋体３２を保持した状態で、蓋体開閉機構６は前記蓋体反転機構４に向って移動する。次いで、図８（ａ）に示すように、当該蓋体反転機構４の上方側の蓋体載置位置にて停止し、そこから下降して蓋体３２を枠体４１に受け渡す。そして、蓋体保持機構７はさらに下降位置まで下降して、蓋体保持機構７の水平部分７０ａを、蓋体３２の被保持部５の係止部分５０の下方側に位置させてから、蓋体開閉機構６を、蓋体３２の反転動作に干渉しない位置まで移動させる。
一方、蓋体反転機構４では、図８（ｂ）に示すように、枠体４１により蓋体３２を保持した状態で、回転駆動部４２により、当該枠体４１を水平軸周りに回転させ、蓋体３２を反転させる。蓋体３２の裏面には、ガス供給部３５等が取り付けられており、蓋体３２を反転させ、当該ガス供給部３５を上に向けた状態でメンテナンスが行われる。
【００５１】
また、蓋体保持機構７を上昇位置に位置させた状態にて、蓋体開閉機構６を待機位置から対象となる処理室３０に向けて移動させることもできる。この場合は、対象となる処理室３０の開閉位置手前にて、蓋体保持機構７を下降位置に下げたのち、蓋体開閉機構６を開閉位置に移動させる。
【００５２】
上述の実施の形態では、蓋体開閉機構６を真空搬送室１３の外周に沿って移動するように設けると共に、この蓋体開閉機構６に設けられた蓋体保持機構７により、複数の処理室３０の蓋体３２を各々持ち上げるように構成している。そして、この蓋体保持機構７を、処理室３０の並びに沿って処理室３０の上方領域を移動できるように構成しているため、蓋体３２の着脱時に処理室３０の横方向のスペースが不要となる。このため装置の大型化が抑えられ、設置面積（フットプリント）の増大を抑えることができる。
【００５３】
また、共通の蓋体開閉機構６により全ての処理室３０の蓋体３２を着脱することができるので、処理室３０毎に蓋体３２の開閉機構を設ける構成に比べて、処理室３０の小型化を図ることができ、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑えることができる。
【００５４】
さらに、蓋体開閉機構６は処理室３０の上方側に設けられているので、処理室３０の周囲に蓋体開閉機構を設ける構成に比べて小型化を図ることができる。また、複数の処理室３０に対して共通の蓋体開閉機構６を設ければよいことから、製造コスト的にも有利である。さらにまた、処理室３０毎に蓋体３２のメンテナンス領域を確保する必要がなく、複数の処理室３０に対して共通のメンテナンス領域を確保すればよいので、この観点からも装置の大型化を抑えることができる。
【００５５】
さらにまた、蓋体開閉機構６を門型形状に構成する場合には、その一端側が内側レール６２に沿って移動し、他端側が外側レール６４に沿って移動する。このため、荷重が分散されるので、蓋体保持機構７により持ち上げた蓋体３２を安定した状態で移動することができる。既述のように、処理室３０はかなり大型であり、蓋体３２も１００００ｋｇ程度もの重量があることから、荷重を分散した状態で移動することは、メリットが大きい。
【００５６】
さらにまた、蓋体開閉機構６は処理室３０とは別個に設けられ、内側レール６２、外側レール６３についても処理室３０や真空搬送室１３の構成に合わせて後から設置することができる。従って既存の基板処理装置に組み合わせて設けることができ、利用価値が高い。
【００５７】
さらにまた、蓋体開閉機構６は真空搬送室１３の外周に沿って移動自在に設けられており、通常は処理室３０とは別の待機領域に位置している。このため、当該蓋体開閉機構６を設けても、処理室３０と真空搬送室１３との間のゲートバルブＧＶの近傍には障害物が存在せず、メンテナンスを妨げることがない。また、内側レール６２を、真空搬送室１３の外周近傍に設けることにより、真空搬送室１３の天井部に既述の開口部１７を形成するスペースを確保することができる。このため、必要な際には、真空搬送室１３の基板搬送機構２５を当該開口部１７から取り出して、メンテナンスできるという利点がある。
【００５８】
この例においては、内側レール６２は、真空搬送室１３の天板上に直接設けるようにしたが、支持板上に内側レール６２を設け、この支持板を真空搬送室１３の天板上に設置するようにしてもよい。このような構成では、別の領域にて内側レール６２を作製しておき、後から真空搬送室１３に設置できるという利点がある。また、真空搬送室１３の天板上に内側レール６２を支える支柱を設け、この上に内側レール６２を設けるようにしてもよい。
【００５９】
続いて、本発明の他の実施の形態について、図９〜図１１を用いて説明する。この実施の形態が上述の実施の形態と異なる点は、内側ガイド部材をなす内側レール９１を処理室３０と真空搬送室１３との間に設け、さらに内側レール９１及び外側レール９２を真空搬送室１３の全周に設けたことである。内側レール９１及び外側レール９２を真空搬送室１３の全周に設けたことにより、例えばロードロック室１２の上部を処理室３０の被保持部５と同様な被保持部を備えた蓋体にすることにより、ロードロック室１２の蓋体の開閉も蓋体開閉機構６により行うことができるようになる。
【００６０】
前記内側レール９１は、処理室３０と真空搬送室１３との間のゲートバルブＧＶの上方側に、真空搬送室１３の中心に対して同心円状に設けられている。そして、ゲートバルブＧＶが存在しない領域に設けられた支柱９３により、内側レール９１が支持されるように構成されている。また、外側レール９２は、処理室３０における真空搬送室１３と反対側に、真空搬送室１３の中心に対して同心円状に、支柱９４により支持される状態で設けられている。
【００６１】
図１０に示す例は、内側レール９１及び外側レール９２を処理室３０の上面よりも低い位置に設けた構成であり、図１１に示す例は、内側レール９１及び外側レール９２を処理室３０の上面よりも高い位置に設けた構成である。その他の構成については、上述の実施の形態と同様である。
【００６２】
これらの例においても、蓋体開閉機構６は内側レール９１及び外側レール９２上を、真空搬送室１３の外周に沿って移動するので、上述の実施の形態と同様に、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑制することができる。また、内側レール９１がゲートバルブＧＶの上方側に設けられることにより、真空搬送室１３の周囲全体に設けることができる。このため、蓋体開閉機構６が真空搬送室１３の周囲を周回移動できるため、移動制御が容易となる。
【００６３】
さらに、上述の実施の形態と同様に、蓋体開閉機構６を門型形状に構成しているので、荷重を分散した状態で蓋体３２を安定した状態で移動することができ、内側レール９１、外側レール９２、蓋体開閉機構６は、既存の基板処理装置に対して後から設置することが可能である。さらにまた、内側レール９１は、真空搬送室１３の外側に設けているので、真空搬送室１３の天井部に既述の開口部１７を形成することができ、メンテナンスが便利になる。
【００６４】
以上において、内側レールは、真空搬送室１３の周囲に設けられた支柱により支持される状態で、真空搬送室１３の天井部に設けるように構成してもよい。また、処理室３０が小型である等、蓋体３２の重さが軽量である場合には、蓋体開閉機構６は門型形状に限らず、真空搬送室１３側又は真空搬送室１３と反対側のいずれか一方から処理室３０に伸びるように構成し、片側のみで支持するように構成してもよい。この場合には、ガイド部材は、真空搬送室１３側又は真空搬送室１３と反対側のいずれか一方に設けられる。
【００６５】
さらに、複数の蓋体開閉機構６を、共通のガイド部材に沿って移動させるように設けるようにしてもよい。さらにまた、真空搬送室１３の平面形状は正多角形状に限らず、複数の処理室も互いに同じ形状に構成する場合に限らない。また、搬送室に１３に接続される処理室３０の個数は、２個以上であればいくつでもよく、必ずしも蓋体３２の蓋体反転機構４を設ける必要はない。さらに、蓋体反転機構４を設ける場合についても、真空搬送室１３の周囲における処理室３０と蓋体反転機構４の配列については適宜選択できる。さらにまた、移動体をガイド部材に沿って移動させるための駆動部は、ガイド部材に沿ってモータにより移動するスライダであってもよい。さらに、蓋体保持機構７を昇降させる昇降機構についても、鉤型部材７１ａ，７１ａの上端に可動体を設け、この可動体に対して、ネジ山が形成された昇降軸が回転して、前記可動体を昇降軸に沿って昇降させるように構成してもよい。
【００６６】
さらに、蓋体３２に設けられる被保持部５は蓋体保持機構７が昇降して被保持部５を持ち上げる構成であれば、その形状については限定されず、蓋体３２の側面に設けるようにしてもよい。また蓋体３２に必ずしも被保持部５は設ける必要はなく、蓋体保持機構７の下端に磁石を設け、この磁石により蓋体を吸着保持して持ち上げるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６７】
Ｓ ＦＰＤ基板
１３ 搬送室
３０ 処理室
３１ 容器本体
３２ 蓋体
４ 蓋体反転機構
５ 被保持部
５０ 係止部分
６ 蓋体開閉機構
６２，９１ 内側レール
６３，９２ 外側レール
６７Ａ，６７Ｂ 車輪
６８Ａ，６８Ｂ 移動モータ
７ 蓋体保持部
７０ 水平部分
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送機構が設けられ、真空雰囲気に維持される真空搬送室と、
この真空搬送室の側面に接続された予備真空室と、
前記真空搬送室の側面に前記予備真空室とは周方向に離れて接続され、かつ互いに周方向に配置されると共に、各々容器本体の上に蓋体を設けて構成され、基板を処理するための複数の処理室と、
前記真空搬送室の周方向に沿って伸びるように設けられたガイド部材と、
このガイド部材に沿ってガイドされる移動体と、
この移動体の移動により前記処理室の上方を通るように当該移動体に設けられ、前記容器本体に対して蓋体を着脱するために蓋体を保持して昇降させる蓋体保持機構と、
前記移動体を前記ガイド部材に沿って移動させるための駆動部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記蓋体には、横方向に伸び、下方に空間が形成された係止部分を含む被保持部が設けられ、前記蓋体保持機構には、前記ガイド部材に沿って移動しながら前記係止部分の下方側の空間に進入し、その後上昇して前記係止部分を下方側から押し上げることにより蓋体を持ち上げる保持部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記ガイド部材は、前記真空搬送室の上に設けられるか、または前記真空搬送室と処理室との間に設けられた内側ガイド部材と、前記処理室に対して真空搬送室とは反対側に設けられた外側ガイド部材と、を備えたことを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記真空搬送室は平面形状が多角形に形成され、
前記真空搬送室の側面のうち、その外方側にメンテナンス領域を確保するための側面を除く他の側面に、夫々前記予備真空室と処理室とが接続されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記メンテナンス領域には、前記蓋体保持機構から受け渡された蓋体を保持して反転させる蓋体反転機構が設けられていることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記真空搬送室は六つの側面を有し、該側面に一つの前記予備真空室と四つの処理室が接続されることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項１】
基板搬送機構が設けられ、真空雰囲気に維持される真空搬送室と、
この真空搬送室の側面に接続された予備真空室と、
前記真空搬送室の側面に前記予備真空室とは周方向に離れて接続され、かつ互いに周方向に配置されると共に、各々容器本体の上に蓋体を設けて構成され、基板を処理するための複数の処理室と、
前記真空搬送室の周方向に沿って伸びるように設けられたガイド部材と、
このガイド部材に沿ってガイドされる移動体と、
この移動体の移動により前記処理室の上方を通るように当該移動体に設けられ、前記容器本体に対して蓋体を着脱するために蓋体を保持して昇降させる蓋体保持機構と、
前記移動体を前記ガイド部材に沿って移動させるための駆動部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記蓋体には、横方向に伸び、下方に空間が形成された係止部分を含む被保持部が設けられ、前記蓋体保持機構には、前記ガイド部材に沿って移動しながら前記係止部分の下方側の空間に進入し、その後上昇して前記係止部分を下方側から押し上げることにより蓋体を持ち上げる保持部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記ガイド部材は、前記真空搬送室の上に設けられるか、または前記真空搬送室と処理室との間に設けられた内側ガイド部材と、前記処理室に対して真空搬送室とは反対側に設けられた外側ガイド部材と、を備えたことを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記真空搬送室は平面形状が多角形に形成され、
前記真空搬送室の側面のうち、その外方側にメンテナンス領域を確保するための側面を除く他の側面に、夫々前記予備真空室と処理室とが接続されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記メンテナンス領域には、前記蓋体保持機構から受け渡された蓋体を保持して反転させる蓋体反転機構が設けられていることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記真空搬送室は六つの側面を有し、該側面に一つの前記予備真空室と四つの処理室が接続されることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１２−１８９４０（Ｐ２０１２−１８９４０Ａ）
【公開日】平成２４年１月２６日（２０１２．１．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１３３０９１（Ｐ２０１０−１３３０９１）
【出願日】平成２２年６月１０日（２０１０．６．１０）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月２６日（２０１２．１．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月１０日（２０１０．６．１０）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]