Ｎ２ガスパージ装置におけるノズルユニット
【課題】半導体製造ラインにおいて、ＦＯＵＰ内へＮ２ガスを供給して、Ｎ２ガスパージを十分に行うことができ、且つパージ時間も短くすることができるノズルユニットを提供する。
【解決手段】上部にブリージングフィルターユニットの通気開口に密着するノズル先端部３６、下部に半球面シール部３７を備えると共に、上部と下部をガス通路３８が貫通した構造のノズル３５と、上部に前記ノズル３５の半球面シール部３７を受けて保持するための凹型半球面シール部４３を備え、且つ中心にガス通路４５を備えたノズル受け４２、更に、前記ノズル３５の可動性を維持したまま、該ノズル３５をノズル受け４２に保持すべく、ノズル３５とノズル受け４２にＯリング溝４６および保持用Ｏリング４７をそれぞれ設けてＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニットを形成する。
【解決手段】上部にブリージングフィルターユニットの通気開口に密着するノズル先端部３６、下部に半球面シール部３７を備えると共に、上部と下部をガス通路３８が貫通した構造のノズル３５と、上部に前記ノズル３５の半球面シール部３７を受けて保持するための凹型半球面シール部４３を備え、且つ中心にガス通路４５を備えたノズル受け４２、更に、前記ノズル３５の可動性を維持したまま、該ノズル３５をノズル受け４２に保持すべく、ノズル３５とノズル受け４２にＯリング溝４６および保持用Ｏリング４７をそれぞれ設けてＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニットを形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミニ・エンバイロンメント方式の半導体クリーンルームで使用される半導体ウエハ収納容器（以下、「ＦＯＵＰ」という）を、Ｎ２ガスパージするパージ装置においてＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルを備えたＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、半導体製造クリーンルームでは、ウエハをＦＯＵＰに収納し、外気に触れずに半導体製造装置間を搬送・ハンドリングするミニ・エンバイラメント方式が一般的となっている。
【０００３】
現在、半導体回路の微細化が進み、先端の半導体ＩＣは３２ｎｍのデザインルールで生産されており、２２ｎｍでの生産も迫ってきている。その結果、半導体プロセス環境への要求も一段厳しくなり、プロセス工程によっては、ウエハを収納したＦＯＵＰ内の水分、ケミカルガスを完全に除去することが必要になってきている。
【０００４】
ＦＯＵＰには、輸送中に大気圧が変化した場合、内部の圧力と外気圧力を均一にして、ＦＯＵＰの膨張、収縮を防ぐために、ＦＯＵＰの底板にブリージングフィルターユニットが備えられている。そして、前記ブリージングフィルターユニットには、ブリージングフィルターが取り付けられているが、該ブリージングフィルターは、ＦＯＵＰ内部と外部との空気の出入り時に、外部からＦＯＵＰ内に塵が侵入するのを防ぐためのものである。
【０００５】
そして現在、ＦＯＵＰ内のウエハ面への水分、ケミカルガスの付着が歩留まり低下を引き起こす工程では、高純度のＮ２ガスでＦＯＵＰ内の残留ガスを追い出し、Ｎ２ガスを満たすことにより、ウエハ表面を水分またはケミカルガスによる汚染から保護するＮ２ガスパージが採用されている。
【０００６】
前記Ｎ２ガスパージが採用されるようになってからは、Ｎ２ガスパージ用ＦＯＵＰの底板に設置されたブリージングフィルターユニットには、ＦＯＵＰへのＮ２ガスの供給時のみ開放するバルブを備えたＮ２ガス供給用ブリージングフィルターユニットと、ＦＯＵＰ内の残留ガスをＦＯＵＰ外部へ排気する時のみ開放するバルブを備えた排気用ブリージングフィルターユニットとがそれぞれ１種類ずつ装備され、ＦＯＵＰ内をＮ２ガスに置換後は、前記のそれぞれのバルブは閉鎖され、ＦＯＵＰ内のＮ２ガスが外部へ漏れないようにシールされている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記Ｎ２ガスパージ用ＦＯＵＰの底板には、ＦＯＵＰメーカにより、色々なタイプのブリージングフィルターユニットが装備されている。いずれのメーカのブリージングフィルターユニットも、Ｎ２ガス供給側のブリージングフィルターユニットの構造は、筒状筐体の上部にフィルターを備えた上端開口部と、底部にブリージングフィルターユニット内へのＮ２ガス供給時のみ開放になるシャターを備えたＮ２ガス供給側通気開口を備え、また、残留ガス排気側のブリージングフィルターユニットの構造は、筒状筐体の上部にフィルターを備えた上端開口部と、底部にブリージングフィルターユニット内の残留ガスが排出されるときのみ開放になるシャッターを備えた残留ガス排気側通気開口を備えた構造になっている。
【０００８】
前記Ｎ２ガスパージ装置のＦＯＵＰ搭載面には、ＦＯＵＰ位置決め用キネマピンが３セットと、ＦＯＵＰ内へＮ２ガスを供給するＮ２ガス供給ノズルおよびＦＯＵＰ内の残留ガスの排気用ノズルの２種類が設置されている。半導体ウエハが収納されたＦＯＵＰをＮ２ガスパージする場合、前記ＦＯＵＰを前記Ｎ２ガスパージ装置に搭載すると、前記ＦＯＵＰは前記キネマピンによって位置決めされ、前記ＦＯＵＰ底部のブリージングユニットのＮ２ガス供給側通気開口は前記Ｎ２ガス供給ノズルと連結され、また、残留ガス排気側通気開口は排気ノズルと連結される。
【０００９】
Ｎ２ガスパージ装置のＮ２ガス供給ノズルから供給されるＮ２ガスは、前記ＦＯＵＰ底部のブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口より、半導体ウエハが収納されたＦＯＵＰ内部に入る。ＦＯＵＰ内部の残留ガスは、前記ＦＯＵＰ底部のブリージングユニットの残留ガス排気側通気開口に連結されたＮ２パージ装置の排気用ノズルを通り、外部へ吸引排出される。
【００１０】
半導体製造ラインでは、ＦＯＵＰは定期的に温水洗浄・乾燥されるが、その際、前記ＦＯＵＰは樹脂製のため少しずつ変形して行く。前記ＦＯＵＰがパージ装置上に搭載され、３セットのキネマピンで、ＦＯＵＰを定位置に保持しても、何回も洗浄・乾燥を繰り返したＦＯＵＰは歪んでしまい、ＦＯＵＰの底部も水平が保てなくなる。更に、前記ブリージングフィルターユニットは消耗品として交換されるため、各社のブリージングフィルターユニットのＦＯＵＰ底部への取り付けは簡単に出来るようになっているが、精度良く水平を保てるような構造になっていない。その結果、Ｎ２パージ装置にＦＯＵＰが搭載された場合、Ｎ２ガス供給ノズルとＮ２ガス供給側通気開口、残留ガス排気ノズルと残留ガス排気側通気開口の間に、それぞれの通気開口の傾斜が原因で隙間が発生する。その結果、それぞれの隙間からＮ２ガスおよび残留ガスが漏れてしまい、ＦＯＵＰ内のＮ２ガスパージが不安定になり、パージ時間も長くなるという課題があった。
【００１１】
また、半導体の微細化に伴い半導体プロセスからのＦＯＵＰ仕様、ブリージングフィルター仕様への要求も頻繁に変わっている。結果として、ブリージングフィルターユニット１は、同一メーカでも仕様が異なるものもあり、Ｎ２ガス供給側通気開口、残留ガス排気側通気開口の形状も各種存在する。
【００１２】
そのため、Ｎ２ガスパージ装置では、新たなブリージングフィルターと連結できるＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルを新たに準備しなくてはならないという課題があった。
【００１３】
更に、前記従来のＮ２ガスパージ装置では、連結部からのＮ２ガスの漏れを防ぐために、Ｎ２ガス供給ノズルの先端および排気ノズルの先端、またはＮ２ガス供給側通気開口部および残留ガス排気側通気開口部に弾力性のあるゴム系材料を使用しているものもあるが、塵、アウトガスが発生するため、半導体ウエハプロセスに悪影響を及ぼすという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、半導体製造ラインにおいて、ＦＯＵＰ（半導体ウエハ収納容器）をＮ２ガスパージ装置に搭載するＦＯＵＰ底部に設けられたブリージングフィルタユニットのＮ２ガス供給側通気開口と残留ガス排気側通気開口が、Ｎ２ガスパージ装置のＦＯＵＰ搭載部に設けられたＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルにそれぞれ連結され、Ｎ２ガス供給ノズルよりＮ２ガスが供給され、排気ノズルにより、ＦＯＵＰ内部の残留ガスが排出され、ＦＯＵＰ内部をＮ２ガスで充満させるＮ２ガスパージ装置のＮ２ガス供給ノズルと排気ノズルを備えたノズルユニットにおいて、上部にブリージングフィルタユニットの通気開口に密着するノズル先端部、下部に半球面シール部を備えると共に、上部と下部をガス通路が貫通した構造のノズルと、上部に前記ノズルの半球面シール部を受けて保持するための凹型半球面シール部を備え、且つ中心にガス通路を備えたノズル受け、更に、前記ノズルの可動性を維持したまま、該ノズルをノズル受けに保持すべく、ノズルとノズル受けにＯリング溝および保持用Ｏリングをそれぞれ備えるという手段を採用することにより、上記課題を解決した。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は、上部にブリージングフィルタの通気開口に密着するノズル先端部、下部に曲面シール部を備えると共に、上部と下部をガス通路が貫通した構造のノズルと、上部に前記ノズルの曲面シール部を受けて保持するための凹型曲シール部を備え、且つ中心にガス通路を備えたノズル受け、更に、前記ノズルの可動性を維持したまま、該ノズルをノズル受けに保持すべく、ノズルとノズル受けにＯリング溝および保持用Ｏリングをそれぞれ設けてノズルユニットが形成されているので、洗浄・乾燥により傾斜したＦＯＵＰの底部により、ブリージングフィルターユニットの通気開口が傾斜していても、前記ノズルの回転により、ノズル先端部が傾斜した通気開口に密着するので、Ｏリングからのアウトガスはシール部接触面で遮断され、ガス通路には、混入されず外部に放出され、完全にガスパージができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来のＮ２ガスパージ用ＦＯＵＰの斜視図。
【図２】同ＦＯＵＰとＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユノット縦断面図。
【図３】同残留ガス排気側ブリージングフィルターユノットの断面図。
【図４】同Ｎ２ガスパージ装置の斜視図。
【図５】同Ｎ２ガス供給ノズル、残留ガス排気ノズルを装備したＮ２ガスパージ装置にＦＯＵＰを搭載して、ＦＯＵＰ内をパージする時のＮ２ガス、残留ガスの流れ方の断面図。
【図６】同Ｎ２ガス供給側ノズルとブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口との連結部の断面図。
【図７】同Ｎ２ガス供給側ノズルとブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口との連結部からのＮ２ガス漏れ対策 その１の断面図。
【図８】同Ｎ２ガス供給側ノズルとブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口との連結部からのＮ２ガス漏れ対策 その２の断面図。
【図９】本発明に係るノズルの断面図。
【図１０】同ノズル受けの断面図。
【図１１】同Ｏリングの断面図。
【図１２】同ノズル組み立て断面図。
【図１３】本発明に係るノズル、ノズル受け、およびＯリングを組み立てたノズルユニットとＦＯＵＰ底部のブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口とが連結した状態の断面図。
【図１４】本発明に係るＮ２ガス供給ノズル、残留ガス排気ノズルを装備したＮ２ガスパージ装置にＦＯＵＰを搭載して、ＦＯＵＰ内に測定器を設置し、Ｎ２パージ時間を測定するときの断面図。
【図１５】Ｎ２ガスパージ装置に本発明のＮ２ガス供給ノズル、残留ガス排気ノズルを装備した場合と、従来のＮ２ガス供給ノズル、残瑠ガス排気ノズルを装備した場合のＮ２ガスパージ時間の測定結果比較図。
【実施例】
【００１７】
以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。
図１は従来汎用されているＦＯＵＰの斜視図、図２は同ＦＯＵＰとＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニットの縦断面図、図３は同残留ガス排気側ブリージングフィルターユニットの縦断面図である。図１〜図３に示すように、ＦＯＵＰ１１の底部１２には、Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１と残留ガス排気側ブリージングフィルターユニット６が取り付けられている。Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１は、上端開口部２、フィルター３、Ｎ２ガス供給側通気開口５を備え、内部にはＮ２ガス供給時のみ開放するＮ２ガス供給側シャッター４を備えている。また、排気側ブリージングフィルターユニット６は上端開口部７、フィルター８、残留ガス排気側通気開口１０を備え、内部には残留ガス排気時のみ開放する残留ガス排気側シャッター９を備えて形成されている。
【００１８】
図４は、従来のノズルを装備したＮ２ガスパージ装置１６の斜視図である。前記Ｎ２ガスパージ装置１６のＦＯＵＰ搭載部１７には、Ｎ２ガス供給側ノズル１９と残留ガス排気側ノズル２０が装備されると共に、前記ＦＯＵＰ１１の搭載時、該ＦＯＵＰ１１の位置決めを行うキネマピン１８が３セット突設されている。更に、前記Ｎ２ガスパージ装置１６には、Ｎ２ガス２５の供給用のＮ２ガス供給口２１と残留ガス２６の排気用の残留ガス排気口２２とが設けられている。また、前記パージ装置１６の内部の電磁バルブ（図示せず）を操作するための、電磁バルブ制御盤２３がケーブル２４でパージ装置１６に接続されている。
【００１９】
図５は、従来のノズルを装備したパージ装置１６のＦＯＵＰ搭載部１７上にＦＯＵＰ１１を搭載し、Ｎ２ガスパージを行うときのＮ２ガス２５および残留ガス２６の流れを示す断面図である。半導体ウエハ１４が収納されたＦＯＵＰ１１をＮ２ガスパージ装置１６上に搭載すると、ＦＯＵＰ１１はキネマピン１８によって位置決めされ、ＦＯＵＰ１１底部のブリージングユニット１・６のＮ２ガス供給側通気開口５はＮ２ガス供給ノズル１９と連結され、また残留ガス排気側通気開口１０は排気ノズル２０と連結されている。
【００２０】
Ｎ２ガス供給源２７よりＮ２ガス供給口２１を経て、前記パージ装置１６のＮ２ガス供給ノズル１９から供給されるＮ２ガス２５は、ＦＯＵＰ１１底部のＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１のＮ２ガス供給側通気開口５より、半導体ウエハ１４が収納されたＦＯＵＰ１１内部に入る。ＦＯＵＰ１１内部の残留ガス２６は、ＦＯＵＰ１１底部の残留ガス排気側ブリージングフィルターユニット６の残留ガス排気側通気開口１０に連結されたパージ装置１６の排気用ノズル２０、残留ガス排気口２２を通り、排気ダクト２８から外部へ吸引排出される。その結果、ＦＯＵＰ１１内はＮ２ガス２５で充満される。
【００２１】
図６は、従来のパージ装置１６におけるＮ２ガス供給ノズル１９とＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１のＮ２ガス供給側通気開口５との連結状態を示す断面図である。
【００２２】
一般に、半導体製造ラインでは、ＦＯＵＰ１１は定期的に温水洗浄・乾燥される。ＦＯＵＰ１１は樹脂製のため少しずつ変形して行く。ＦＯＵＰ１１がパージ装置１６上に搭載され、キネマピン１８でＦＯＵＰ１１を定位置に保っても、何回も洗浄・乾燥を繰り返したＦＯＵＰ１１は歪んでしまい、ＦＯＵＰ１１の底部１２も水平が保てなくなる。更に、Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１は消耗品として交換されるため、各社のＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１のＦＯＵＰ底部１２への取り付け方法は簡単さが優先され、精度良く水平が維持できないため、Ｎ２ガス供給ノズル１９とＮ２ガス供給側通気開口５との間に傾斜θ３１が原因で隙間３０が発生する。その結果、Ｎ２ガスパージ時には、前記隙間３０からＮ２ガスが漏れてしまうことになる。
【００２３】
また、残留ガス排気側の連結部でも、前記Ｎ２ガス供給側と同様の原因による隙間が発生し、ＦＯＵＰ１１内の残留ガス２６の吸引・排出が十分にされず、結果として、ＦＯＵＰ１１のＮ２ガスパージが十分に行われず、パージ時間も長くなるという問題点があった。
【００２４】
図７、８に、従来のＮ２ガス供給側の連結部での、前記問題点に対する対策例を示す。前記対策例は、残留ガス排気側の連結部でも同一であるため、その説明を省略する。図７は、従来の一般的な対策例を示す断面図である。図に示すように、Ｎ２ガス供給側通気開口５またはＮ２ガス供給ノズル先端２９を、弾力性のある材質５３にする方法である。この方法であると、シール性はある程度確保できるが、弾力性のある材質５３からのアウトガスが多く、先端半導体製造ラインでは、使用できないという課題があった。
【００２５】
また、図８はＮ２ガス供給側通気開口５の傾斜に従って、Ｎ２ガス供給ノズル１９が傾斜するようにＮ２ガス供給ノズル１９をバネ３３で支持したものである。Ｎ２ガス供給側通気開口５が傾斜すると、該Ｎ２ガス供給側通気開口５とＮ２ガス供給側通気開口５の中心のずれＤ３４が発生し、ＦＯＵＰ１１とＮ２ガスパージ装置１６を連結するには、該ＦＯＵＰ１１とＮ２パージ装置１６に歪が伴うという課題があった。
【００２６】
図９，１０，１１，１２に、本発明に係るノズルユニットおよびその構成部品を示す。図９は、本発明に係るノズル３５の断面図である。前記ノズル３５は、各仕様のブリージングフィルターのＮ２ガス供給側通気開口５および残留ガス排気側通気開口１０に合わせた形状のノズル先端部３６と、反対側の半球面シール部３７を備えると共に、中央にＮガス通路３８を貫通して形成されている。更に、前記ノズル３５の可動性、シール性を保ちながら、該ノズル３５をノズル受け４２に保持するため、Ｏリング溝３９が半球面シール部３７を取り囲むように設けられている。
【００２７】
ブリージングフィルターユニットＩ・６を構成するＮ２ガス供給側通気開口５および残留ガス排気側通気開口１０の傾斜θ３１に合わせ、前記ノズル先端部３６がスムーズに傾斜し、それぞれの中心がずれないように設計するには、該ノズル３５の長さＬ（ノズル先端部からノズル半球面シール部までの長さ）が、ノズル半球面シール部３７の球面半径Ｒ４０に対して、Ｌ≒２Ｒとなるようにすることが好ましい。
【００２８】
図１０は、本発明に係るノズル３５を保持するノズル受け４２の断面図である。前記ノズル受け４２は、ノズル３５の半球面シール部３７を受ける凹型半球面シール部４３を備え、中央にはガス通路４５が貫通して形成されている。また、前記凹型半球面シール部４３には、ノズル３５を保持するためのＯリング溝４６が周設されている。前記凹型半球面シール部４３の球面半径Ｒ４０と、ノズル受け凹型半球面シール部４３の球面半径Ｒ４４は同一長さに形成される。更に、ノズル３５がノズル受け４２の凹型半球面シール部４３上を回転球中心５１を支点にして回転できるように、ノズル３５とノズル受け４２に設けられたＯリング溝３９，４６の幅は、前記ノズル３５の傾斜角度に合わせ、Ｏリング４７の直径より幅広くすることが推奨される。
【００２９】
図１１は、前記ノズル３５の可動性を保ちながらノズル受け４２に保持するＯリング４７の断面図である。
【００３０】
図１２は、ノズル３５、ノズル受け４２、およびＯリング４７を用いて形成された本発明ノズルユニット５２の断面図である。ノズル３５がノズル受け４２に嵌合されると、それぞれシール部接触面４８，４９が密に接触し、ガスの漏れを防ぐことができる。前記ノズル３５は、ノズル受け４２から取り外し可能なため、保守性も良く、各種のブリージングフィルタの通気開口に合うノズルと交換することができる。
【００３１】
図１３は、本発明ノズルユニット５２をパージ装置１６に装着し、ＦＯＵＰ１１をＮ２ガスパージする時の連結部の断面図である。洗浄・乾燥により傾斜したＦＯＵＰ１１の底部１２により、ブリージングフィルターユニット１の通気開口５は傾斜しているが、ノズル３５の回転により、ノズル先端部３６は傾斜した通気開口５に密着しているため、Ｏリング４７からのアウトガス５０はシール部接触面４８，４９で遮断され、ガス通路３８には、混入されず外部で放出される。
【００３２】
図１４は、本発明ノズルユニット５２を装着したパージ装置１６によるＦＯＵＰ１１をＮ２ガスパージ性能試験状況を示す。ＦＯＵＰ１１内のウエハ１４の上に酸素濃度計５４が設置されている。パージによるＦＯＵＰ１１内の酸素濃度の変化を測定し、Ｎ２ガスの濃度変化に換算している。
【００３３】
図１５は、従来のノズルを使用した時と、本発明ノズルユニットを使用した時のパージ時間の比較を示す。本発明のノズルユニットを使用することにより、ＦＯＵＰ１１のブリージングフィルターユニットとノズルユニット５２との連結部からのガスの漏れが、完全に防げた結果、パージ時間が大幅に短縮されることを立証することができた。
【符号の説明】
【００３４】
１ Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット
２ Ｎ２ガス供給側上部開口部
３ Ｎ２ガス供給側フィルタ
４ Ｎ２ガス供給側シャッター
５ Ｎ２ガス供給側通気開口
６ 残瑠ガス排気側ブリージングフィルターユニット
７ 残瑠ガス排気側上部開口部
８ 残瑠ガス排気側フィルタ
９ 残瑠ガス排気側シャッター
１０ 残瑠ガス排気側通気開口
１１ ＦＯＵＰ
１２ 底部
１３ ドア
１４ ウエハ
１５ ウエハ間隙間
１６ Ｎ２ガスパージ装置
１７ ＦＯＵＰ搭載部
１８ キネマピン
１９ 従来のＮ２ガス供給側ノズル
２０ 従来の残瑠ガス排気側ノズル
２１ Ｎ２ガス供給口
２２ 残瑠ガス排気口
２３ 電磁バルブ制御盤
２４ ケーブル
２５ Ｎ２ガス
２６ 残瑠ガス
２７ Ｎ２ガス供給源
２８ 排気ダクト
２９ 従来のＮ２ガス供給側ノズル先端
３０ 隙間
３１ 傾斜角
３２ 漏洩Ｎ２ガス
３３ バネ
３４ 中心のずれ
３５ 本発明のノズル
３６ 本発明のノズル先端部
３７ 本発明のノズル半球面シール部
３８ 本発明のノズルガス通路
３９ 本発明のノズルＯリング溝
４０ 本発明のノズルシール部球面半径
４１ 本発明のノズル長さ
４２ 本発明のノズル受け
４３ 本発明のノズル受け凹型半球面シール部
４４ 本発明のノズル受け凹型シール部球面半径
４５ 本発明のノズル受けガス通路
４６ 本発明のノズル受けＯリング溝
４７ Ｏリング断面
４８ 本発明のノズル半球面シール部接触面
４９ 本発明のノズル受け凹型半球面シール部接触面
５０ Ｏリングからのアウトガス
５１ 本発明のノズル回転中心
５２ 本発明のノズルユニット
５３ シールゴム
５４ 酸素濃度計
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミニ・エンバイロンメント方式の半導体クリーンルームで使用される半導体ウエハ収納容器（以下、「ＦＯＵＰ」という）を、Ｎ２ガスパージするパージ装置においてＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルを備えたＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、半導体製造クリーンルームでは、ウエハをＦＯＵＰに収納し、外気に触れずに半導体製造装置間を搬送・ハンドリングするミニ・エンバイラメント方式が一般的となっている。
【０００３】
現在、半導体回路の微細化が進み、先端の半導体ＩＣは３２ｎｍのデザインルールで生産されており、２２ｎｍでの生産も迫ってきている。その結果、半導体プロセス環境への要求も一段厳しくなり、プロセス工程によっては、ウエハを収納したＦＯＵＰ内の水分、ケミカルガスを完全に除去することが必要になってきている。
【０００４】
ＦＯＵＰには、輸送中に大気圧が変化した場合、内部の圧力と外気圧力を均一にして、ＦＯＵＰの膨張、収縮を防ぐために、ＦＯＵＰの底板にブリージングフィルターユニットが備えられている。そして、前記ブリージングフィルターユニットには、ブリージングフィルターが取り付けられているが、該ブリージングフィルターは、ＦＯＵＰ内部と外部との空気の出入り時に、外部からＦＯＵＰ内に塵が侵入するのを防ぐためのものである。
【０００５】
そして現在、ＦＯＵＰ内のウエハ面への水分、ケミカルガスの付着が歩留まり低下を引き起こす工程では、高純度のＮ２ガスでＦＯＵＰ内の残留ガスを追い出し、Ｎ２ガスを満たすことにより、ウエハ表面を水分またはケミカルガスによる汚染から保護するＮ２ガスパージが採用されている。
【０００６】
前記Ｎ２ガスパージが採用されるようになってからは、Ｎ２ガスパージ用ＦＯＵＰの底板に設置されたブリージングフィルターユニットには、ＦＯＵＰへのＮ２ガスの供給時のみ開放するバルブを備えたＮ２ガス供給用ブリージングフィルターユニットと、ＦＯＵＰ内の残留ガスをＦＯＵＰ外部へ排気する時のみ開放するバルブを備えた排気用ブリージングフィルターユニットとがそれぞれ１種類ずつ装備され、ＦＯＵＰ内をＮ２ガスに置換後は、前記のそれぞれのバルブは閉鎖され、ＦＯＵＰ内のＮ２ガスが外部へ漏れないようにシールされている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記Ｎ２ガスパージ用ＦＯＵＰの底板には、ＦＯＵＰメーカにより、色々なタイプのブリージングフィルターユニットが装備されている。いずれのメーカのブリージングフィルターユニットも、Ｎ２ガス供給側のブリージングフィルターユニットの構造は、筒状筐体の上部にフィルターを備えた上端開口部と、底部にブリージングフィルターユニット内へのＮ２ガス供給時のみ開放になるシャターを備えたＮ２ガス供給側通気開口を備え、また、残留ガス排気側のブリージングフィルターユニットの構造は、筒状筐体の上部にフィルターを備えた上端開口部と、底部にブリージングフィルターユニット内の残留ガスが排出されるときのみ開放になるシャッターを備えた残留ガス排気側通気開口を備えた構造になっている。
【０００８】
前記Ｎ２ガスパージ装置のＦＯＵＰ搭載面には、ＦＯＵＰ位置決め用キネマピンが３セットと、ＦＯＵＰ内へＮ２ガスを供給するＮ２ガス供給ノズルおよびＦＯＵＰ内の残留ガスの排気用ノズルの２種類が設置されている。半導体ウエハが収納されたＦＯＵＰをＮ２ガスパージする場合、前記ＦＯＵＰを前記Ｎ２ガスパージ装置に搭載すると、前記ＦＯＵＰは前記キネマピンによって位置決めされ、前記ＦＯＵＰ底部のブリージングユニットのＮ２ガス供給側通気開口は前記Ｎ２ガス供給ノズルと連結され、また、残留ガス排気側通気開口は排気ノズルと連結される。
【０００９】
Ｎ２ガスパージ装置のＮ２ガス供給ノズルから供給されるＮ２ガスは、前記ＦＯＵＰ底部のブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口より、半導体ウエハが収納されたＦＯＵＰ内部に入る。ＦＯＵＰ内部の残留ガスは、前記ＦＯＵＰ底部のブリージングユニットの残留ガス排気側通気開口に連結されたＮ２パージ装置の排気用ノズルを通り、外部へ吸引排出される。
【００１０】
半導体製造ラインでは、ＦＯＵＰは定期的に温水洗浄・乾燥されるが、その際、前記ＦＯＵＰは樹脂製のため少しずつ変形して行く。前記ＦＯＵＰがパージ装置上に搭載され、３セットのキネマピンで、ＦＯＵＰを定位置に保持しても、何回も洗浄・乾燥を繰り返したＦＯＵＰは歪んでしまい、ＦＯＵＰの底部も水平が保てなくなる。更に、前記ブリージングフィルターユニットは消耗品として交換されるため、各社のブリージングフィルターユニットのＦＯＵＰ底部への取り付けは簡単に出来るようになっているが、精度良く水平を保てるような構造になっていない。その結果、Ｎ２パージ装置にＦＯＵＰが搭載された場合、Ｎ２ガス供給ノズルとＮ２ガス供給側通気開口、残留ガス排気ノズルと残留ガス排気側通気開口の間に、それぞれの通気開口の傾斜が原因で隙間が発生する。その結果、それぞれの隙間からＮ２ガスおよび残留ガスが漏れてしまい、ＦＯＵＰ内のＮ２ガスパージが不安定になり、パージ時間も長くなるという課題があった。
【００１１】
また、半導体の微細化に伴い半導体プロセスからのＦＯＵＰ仕様、ブリージングフィルター仕様への要求も頻繁に変わっている。結果として、ブリージングフィルターユニット１は、同一メーカでも仕様が異なるものもあり、Ｎ２ガス供給側通気開口、残留ガス排気側通気開口の形状も各種存在する。
【００１２】
そのため、Ｎ２ガスパージ装置では、新たなブリージングフィルターと連結できるＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルを新たに準備しなくてはならないという課題があった。
【００１３】
更に、前記従来のＮ２ガスパージ装置では、連結部からのＮ２ガスの漏れを防ぐために、Ｎ２ガス供給ノズルの先端および排気ノズルの先端、またはＮ２ガス供給側通気開口部および残留ガス排気側通気開口部に弾力性のあるゴム系材料を使用しているものもあるが、塵、アウトガスが発生するため、半導体ウエハプロセスに悪影響を及ぼすという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、半導体製造ラインにおいて、ＦＯＵＰ（半導体ウエハ収納容器）をＮ２ガスパージ装置に搭載するＦＯＵＰ底部に設けられたブリージングフィルタユニットのＮ２ガス供給側通気開口と残留ガス排気側通気開口が、Ｎ２ガスパージ装置のＦＯＵＰ搭載部に設けられたＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルにそれぞれ連結され、Ｎ２ガス供給ノズルよりＮ２ガスが供給され、排気ノズルにより、ＦＯＵＰ内部の残留ガスが排出され、ＦＯＵＰ内部をＮ２ガスで充満させるＮ２ガスパージ装置のＮ２ガス供給ノズルと排気ノズルを備えたノズルユニットにおいて、上部にブリージングフィルタユニットの通気開口に密着するノズル先端部、下部に半球面シール部を備えると共に、上部と下部をガス通路が貫通した構造のノズルと、上部に前記ノズルの半球面シール部を受けて保持するための凹型半球面シール部を備え、且つ中心にガス通路を備えたノズル受け、更に、前記ノズルの可動性を維持したまま、該ノズルをノズル受けに保持すべく、ノズルとノズル受けにＯリング溝および保持用Ｏリングをそれぞれ備えるという手段を採用することにより、上記課題を解決した。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は、上部にブリージングフィルタの通気開口に密着するノズル先端部、下部に曲面シール部を備えると共に、上部と下部をガス通路が貫通した構造のノズルと、上部に前記ノズルの曲面シール部を受けて保持するための凹型曲シール部を備え、且つ中心にガス通路を備えたノズル受け、更に、前記ノズルの可動性を維持したまま、該ノズルをノズル受けに保持すべく、ノズルとノズル受けにＯリング溝および保持用Ｏリングをそれぞれ設けてノズルユニットが形成されているので、洗浄・乾燥により傾斜したＦＯＵＰの底部により、ブリージングフィルターユニットの通気開口が傾斜していても、前記ノズルの回転により、ノズル先端部が傾斜した通気開口に密着するので、Ｏリングからのアウトガスはシール部接触面で遮断され、ガス通路には、混入されず外部に放出され、完全にガスパージができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来のＮ２ガスパージ用ＦＯＵＰの斜視図。
【図２】同ＦＯＵＰとＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユノット縦断面図。
【図３】同残留ガス排気側ブリージングフィルターユノットの断面図。
【図４】同Ｎ２ガスパージ装置の斜視図。
【図５】同Ｎ２ガス供給ノズル、残留ガス排気ノズルを装備したＮ２ガスパージ装置にＦＯＵＰを搭載して、ＦＯＵＰ内をパージする時のＮ２ガス、残留ガスの流れ方の断面図。
【図６】同Ｎ２ガス供給側ノズルとブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口との連結部の断面図。
【図７】同Ｎ２ガス供給側ノズルとブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口との連結部からのＮ２ガス漏れ対策 その１の断面図。
【図８】同Ｎ２ガス供給側ノズルとブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口との連結部からのＮ２ガス漏れ対策 その２の断面図。
【図９】本発明に係るノズルの断面図。
【図１０】同ノズル受けの断面図。
【図１１】同Ｏリングの断面図。
【図１２】同ノズル組み立て断面図。
【図１３】本発明に係るノズル、ノズル受け、およびＯリングを組み立てたノズルユニットとＦＯＵＰ底部のブリージングフィルターユニットのＮ２ガス供給側通気開口とが連結した状態の断面図。
【図１４】本発明に係るＮ２ガス供給ノズル、残留ガス排気ノズルを装備したＮ２ガスパージ装置にＦＯＵＰを搭載して、ＦＯＵＰ内に測定器を設置し、Ｎ２パージ時間を測定するときの断面図。
【図１５】Ｎ２ガスパージ装置に本発明のＮ２ガス供給ノズル、残留ガス排気ノズルを装備した場合と、従来のＮ２ガス供給ノズル、残瑠ガス排気ノズルを装備した場合のＮ２ガスパージ時間の測定結果比較図。
【実施例】
【００１７】
以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。
図１は従来汎用されているＦＯＵＰの斜視図、図２は同ＦＯＵＰとＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニットの縦断面図、図３は同残留ガス排気側ブリージングフィルターユニットの縦断面図である。図１〜図３に示すように、ＦＯＵＰ１１の底部１２には、Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１と残留ガス排気側ブリージングフィルターユニット６が取り付けられている。Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１は、上端開口部２、フィルター３、Ｎ２ガス供給側通気開口５を備え、内部にはＮ２ガス供給時のみ開放するＮ２ガス供給側シャッター４を備えている。また、排気側ブリージングフィルターユニット６は上端開口部７、フィルター８、残留ガス排気側通気開口１０を備え、内部には残留ガス排気時のみ開放する残留ガス排気側シャッター９を備えて形成されている。
【００１８】
図４は、従来のノズルを装備したＮ２ガスパージ装置１６の斜視図である。前記Ｎ２ガスパージ装置１６のＦＯＵＰ搭載部１７には、Ｎ２ガス供給側ノズル１９と残留ガス排気側ノズル２０が装備されると共に、前記ＦＯＵＰ１１の搭載時、該ＦＯＵＰ１１の位置決めを行うキネマピン１８が３セット突設されている。更に、前記Ｎ２ガスパージ装置１６には、Ｎ２ガス２５の供給用のＮ２ガス供給口２１と残留ガス２６の排気用の残留ガス排気口２２とが設けられている。また、前記パージ装置１６の内部の電磁バルブ（図示せず）を操作するための、電磁バルブ制御盤２３がケーブル２４でパージ装置１６に接続されている。
【００１９】
図５は、従来のノズルを装備したパージ装置１６のＦＯＵＰ搭載部１７上にＦＯＵＰ１１を搭載し、Ｎ２ガスパージを行うときのＮ２ガス２５および残留ガス２６の流れを示す断面図である。半導体ウエハ１４が収納されたＦＯＵＰ１１をＮ２ガスパージ装置１６上に搭載すると、ＦＯＵＰ１１はキネマピン１８によって位置決めされ、ＦＯＵＰ１１底部のブリージングユニット１・６のＮ２ガス供給側通気開口５はＮ２ガス供給ノズル１９と連結され、また残留ガス排気側通気開口１０は排気ノズル２０と連結されている。
【００２０】
Ｎ２ガス供給源２７よりＮ２ガス供給口２１を経て、前記パージ装置１６のＮ２ガス供給ノズル１９から供給されるＮ２ガス２５は、ＦＯＵＰ１１底部のＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１のＮ２ガス供給側通気開口５より、半導体ウエハ１４が収納されたＦＯＵＰ１１内部に入る。ＦＯＵＰ１１内部の残留ガス２６は、ＦＯＵＰ１１底部の残留ガス排気側ブリージングフィルターユニット６の残留ガス排気側通気開口１０に連結されたパージ装置１６の排気用ノズル２０、残留ガス排気口２２を通り、排気ダクト２８から外部へ吸引排出される。その結果、ＦＯＵＰ１１内はＮ２ガス２５で充満される。
【００２１】
図６は、従来のパージ装置１６におけるＮ２ガス供給ノズル１９とＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１のＮ２ガス供給側通気開口５との連結状態を示す断面図である。
【００２２】
一般に、半導体製造ラインでは、ＦＯＵＰ１１は定期的に温水洗浄・乾燥される。ＦＯＵＰ１１は樹脂製のため少しずつ変形して行く。ＦＯＵＰ１１がパージ装置１６上に搭載され、キネマピン１８でＦＯＵＰ１１を定位置に保っても、何回も洗浄・乾燥を繰り返したＦＯＵＰ１１は歪んでしまい、ＦＯＵＰ１１の底部１２も水平が保てなくなる。更に、Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１は消耗品として交換されるため、各社のＮ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット１のＦＯＵＰ底部１２への取り付け方法は簡単さが優先され、精度良く水平が維持できないため、Ｎ２ガス供給ノズル１９とＮ２ガス供給側通気開口５との間に傾斜θ３１が原因で隙間３０が発生する。その結果、Ｎ２ガスパージ時には、前記隙間３０からＮ２ガスが漏れてしまうことになる。
【００２３】
また、残留ガス排気側の連結部でも、前記Ｎ２ガス供給側と同様の原因による隙間が発生し、ＦＯＵＰ１１内の残留ガス２６の吸引・排出が十分にされず、結果として、ＦＯＵＰ１１のＮ２ガスパージが十分に行われず、パージ時間も長くなるという問題点があった。
【００２４】
図７、８に、従来のＮ２ガス供給側の連結部での、前記問題点に対する対策例を示す。前記対策例は、残留ガス排気側の連結部でも同一であるため、その説明を省略する。図７は、従来の一般的な対策例を示す断面図である。図に示すように、Ｎ２ガス供給側通気開口５またはＮ２ガス供給ノズル先端２９を、弾力性のある材質５３にする方法である。この方法であると、シール性はある程度確保できるが、弾力性のある材質５３からのアウトガスが多く、先端半導体製造ラインでは、使用できないという課題があった。
【００２５】
また、図８はＮ２ガス供給側通気開口５の傾斜に従って、Ｎ２ガス供給ノズル１９が傾斜するようにＮ２ガス供給ノズル１９をバネ３３で支持したものである。Ｎ２ガス供給側通気開口５が傾斜すると、該Ｎ２ガス供給側通気開口５とＮ２ガス供給側通気開口５の中心のずれＤ３４が発生し、ＦＯＵＰ１１とＮ２ガスパージ装置１６を連結するには、該ＦＯＵＰ１１とＮ２パージ装置１６に歪が伴うという課題があった。
【００２６】
図９，１０，１１，１２に、本発明に係るノズルユニットおよびその構成部品を示す。図９は、本発明に係るノズル３５の断面図である。前記ノズル３５は、各仕様のブリージングフィルターのＮ２ガス供給側通気開口５および残留ガス排気側通気開口１０に合わせた形状のノズル先端部３６と、反対側の半球面シール部３７を備えると共に、中央にＮガス通路３８を貫通して形成されている。更に、前記ノズル３５の可動性、シール性を保ちながら、該ノズル３５をノズル受け４２に保持するため、Ｏリング溝３９が半球面シール部３７を取り囲むように設けられている。
【００２７】
ブリージングフィルターユニットＩ・６を構成するＮ２ガス供給側通気開口５および残留ガス排気側通気開口１０の傾斜θ３１に合わせ、前記ノズル先端部３６がスムーズに傾斜し、それぞれの中心がずれないように設計するには、該ノズル３５の長さＬ（ノズル先端部からノズル半球面シール部までの長さ）が、ノズル半球面シール部３７の球面半径Ｒ４０に対して、Ｌ≒２Ｒとなるようにすることが好ましい。
【００２８】
図１０は、本発明に係るノズル３５を保持するノズル受け４２の断面図である。前記ノズル受け４２は、ノズル３５の半球面シール部３７を受ける凹型半球面シール部４３を備え、中央にはガス通路４５が貫通して形成されている。また、前記凹型半球面シール部４３には、ノズル３５を保持するためのＯリング溝４６が周設されている。前記凹型半球面シール部４３の球面半径Ｒ４０と、ノズル受け凹型半球面シール部４３の球面半径Ｒ４４は同一長さに形成される。更に、ノズル３５がノズル受け４２の凹型半球面シール部４３上を回転球中心５１を支点にして回転できるように、ノズル３５とノズル受け４２に設けられたＯリング溝３９，４６の幅は、前記ノズル３５の傾斜角度に合わせ、Ｏリング４７の直径より幅広くすることが推奨される。
【００２９】
図１１は、前記ノズル３５の可動性を保ちながらノズル受け４２に保持するＯリング４７の断面図である。
【００３０】
図１２は、ノズル３５、ノズル受け４２、およびＯリング４７を用いて形成された本発明ノズルユニット５２の断面図である。ノズル３５がノズル受け４２に嵌合されると、それぞれシール部接触面４８，４９が密に接触し、ガスの漏れを防ぐことができる。前記ノズル３５は、ノズル受け４２から取り外し可能なため、保守性も良く、各種のブリージングフィルタの通気開口に合うノズルと交換することができる。
【００３１】
図１３は、本発明ノズルユニット５２をパージ装置１６に装着し、ＦＯＵＰ１１をＮ２ガスパージする時の連結部の断面図である。洗浄・乾燥により傾斜したＦＯＵＰ１１の底部１２により、ブリージングフィルターユニット１の通気開口５は傾斜しているが、ノズル３５の回転により、ノズル先端部３６は傾斜した通気開口５に密着しているため、Ｏリング４７からのアウトガス５０はシール部接触面４８，４９で遮断され、ガス通路３８には、混入されず外部で放出される。
【００３２】
図１４は、本発明ノズルユニット５２を装着したパージ装置１６によるＦＯＵＰ１１をＮ２ガスパージ性能試験状況を示す。ＦＯＵＰ１１内のウエハ１４の上に酸素濃度計５４が設置されている。パージによるＦＯＵＰ１１内の酸素濃度の変化を測定し、Ｎ２ガスの濃度変化に換算している。
【００３３】
図１５は、従来のノズルを使用した時と、本発明ノズルユニットを使用した時のパージ時間の比較を示す。本発明のノズルユニットを使用することにより、ＦＯＵＰ１１のブリージングフィルターユニットとノズルユニット５２との連結部からのガスの漏れが、完全に防げた結果、パージ時間が大幅に短縮されることを立証することができた。
【符号の説明】
【００３４】
１ Ｎ２ガス供給側ブリージングフィルターユニット
２ Ｎ２ガス供給側上部開口部
３ Ｎ２ガス供給側フィルタ
４ Ｎ２ガス供給側シャッター
５ Ｎ２ガス供給側通気開口
６ 残瑠ガス排気側ブリージングフィルターユニット
７ 残瑠ガス排気側上部開口部
８ 残瑠ガス排気側フィルタ
９ 残瑠ガス排気側シャッター
１０ 残瑠ガス排気側通気開口
１１ ＦＯＵＰ
１２ 底部
１３ ドア
１４ ウエハ
１５ ウエハ間隙間
１６ Ｎ２ガスパージ装置
１７ ＦＯＵＰ搭載部
１８ キネマピン
１９ 従来のＮ２ガス供給側ノズル
２０ 従来の残瑠ガス排気側ノズル
２１ Ｎ２ガス供給口
２２ 残瑠ガス排気口
２３ 電磁バルブ制御盤
２４ ケーブル
２５ Ｎ２ガス
２６ 残瑠ガス
２７ Ｎ２ガス供給源
２８ 排気ダクト
２９ 従来のＮ２ガス供給側ノズル先端
３０ 隙間
３１ 傾斜角
３２ 漏洩Ｎ２ガス
３３ バネ
３４ 中心のずれ
３５ 本発明のノズル
３６ 本発明のノズル先端部
３７ 本発明のノズル半球面シール部
３８ 本発明のノズルガス通路
３９ 本発明のノズルＯリング溝
４０ 本発明のノズルシール部球面半径
４１ 本発明のノズル長さ
４２ 本発明のノズル受け
４３ 本発明のノズル受け凹型半球面シール部
４４ 本発明のノズル受け凹型シール部球面半径
４５ 本発明のノズル受けガス通路
４６ 本発明のノズル受けＯリング溝
４７ Ｏリング断面
４８ 本発明のノズル半球面シール部接触面
４９ 本発明のノズル受け凹型半球面シール部接触面
５０ Ｏリングからのアウトガス
５１ 本発明のノズル回転中心
５２ 本発明のノズルユニット
５３ シールゴム
５４ 酸素濃度計
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造ラインにおいて、ＦＯＵＰ（半導体ウエハ収納容器）をＮ２ガスパージ装置に搭載するＦＯＵＰ底部に設けられたブリージングフィルタユニットのＮ２ガス供給側通気開口と残留ガス排気側通気開口が、Ｎ２ガスパージ装置のＦＯＵＰ搭載部に設けられたＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルにそれぞれ連結され、Ｎ２ガス供給ノズルよりＮ２ガスが供給され、排気ノズルにより、ＦＯＵＰ内部の残留ガスが排出され、ＦＯＵＰ内部をＮ２ガスで充満させるＮ２ガスパージ装置のＮ２ガス供給ノズルと排気ノズルを備えたノズルユニットにおいて、上部にブリージングフィルタユニットの通気開口に密着するノズル先端部、下部に半球面シール部を備えると共に、上部と下部をガス通路が貫通した構造のノズルと、上部に前記ノズルの半球面シール部を受けて保持するための凹型半球面シール部を備え、且つ中心にガス通路を備えたノズル受け、更に、前記ノズルの可動性を維持したまま、該ノズルをノズル受けに保持すべく、ノズルとノズル受けにＯリング溝および保持用Ｏリングをそれぞれ備えたことを特徴とするＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニット。
【請求項２】
請求項１記載のノズルの下部が、球面シール部が半球面シール部、ノズル受けの凹型球面シール部が、凹型半球面シール部に形成され、それぞれの半球面が同一球半径Ｒで、ノズルの長さＬと球半径Ｒは２Ｒ≒Ｌとし、ノズルがノズル受けの凹型半球面シール部上を同一半球中心を支点に回転できるように、ノズルとノズル受けに設けられたＯリング溝の幅は、ノズルの傾き角度にあわせ、Ｏリングの直径より幅広くすることを特徴とするＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニット。
【請求項１】
半導体製造ラインにおいて、ＦＯＵＰ（半導体ウエハ収納容器）をＮ２ガスパージ装置に搭載するＦＯＵＰ底部に設けられたブリージングフィルタユニットのＮ２ガス供給側通気開口と残留ガス排気側通気開口が、Ｎ２ガスパージ装置のＦＯＵＰ搭載部に設けられたＮ２ガス供給ノズルおよび排気ノズルにそれぞれ連結され、Ｎ２ガス供給ノズルよりＮ２ガスが供給され、排気ノズルにより、ＦＯＵＰ内部の残留ガスが排出され、ＦＯＵＰ内部をＮ２ガスで充満させるＮ２ガスパージ装置のＮ２ガス供給ノズルと排気ノズルを備えたノズルユニットにおいて、上部にブリージングフィルタユニットの通気開口に密着するノズル先端部、下部に半球面シール部を備えると共に、上部と下部をガス通路が貫通した構造のノズルと、上部に前記ノズルの半球面シール部を受けて保持するための凹型半球面シール部を備え、且つ中心にガス通路を備えたノズル受け、更に、前記ノズルの可動性を維持したまま、該ノズルをノズル受けに保持すべく、ノズルとノズル受けにＯリング溝および保持用Ｏリングをそれぞれ備えたことを特徴とするＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニット。
【請求項２】
請求項１記載のノズルの下部が、球面シール部が半球面シール部、ノズル受けの凹型球面シール部が、凹型半球面シール部に形成され、それぞれの半球面が同一球半径Ｒで、ノズルの長さＬと球半径Ｒは２Ｒ≒Ｌとし、ノズルがノズル受けの凹型半球面シール部上を同一半球中心を支点に回転できるように、ノズルとノズル受けに設けられたＯリング溝の幅は、ノズルの傾き角度にあわせ、Ｏリングの直径より幅広くすることを特徴とするＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニット。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１２−１６４９４８（Ｐ２０１２−１６４９４８Ａ）
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−４０７９２（Ｐ２０１１−４０７９２）
【出願日】平成２３年２月８日（２０１１．２．８）
【出願人】（０００１６３６６０）近藤工業株式会社 (28)
【出願人】（３９１０１７２７４）日本ケンブリッジフィルター株式会社 (18)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月８日（２０１１．２．８）
【出願人】（０００１６３６６０）近藤工業株式会社 (28)
【出願人】（３９１０１７２７４）日本ケンブリッジフィルター株式会社 (18)
【Ｆターム（参考）】
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