説明

旭硝子株式会社により出願された特許

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【課題】小型で、伝送効率に優れ、設計容易な伝送線路変換装置を提供する。
【解決手段】第1の誘電体基板1の、誘電体層7の側の面には一対のコプレーナストリップ伝送線路用導体3a,3b及びコプレーナストリップ伝送線路用電磁結合導体4が設けられ、コプレーナストリップ伝送線路用電磁結合導体4の形状は、ループ形状のループの一部に途切部を有する半ループ形状であり、第2の誘電体基板2の、誘電体層7と反対側の面の、コプレーナストリップ伝送線路用電磁結合導体4と相対向する位置には、マイクロストリップ線路用ループ状導体5が設けられ、マイクロストリップ線路用ループ状導体5には、マイクロストリップ線路が接続され、第2の誘電体基板2の、立体的に見て、マイクロストリップ線路と重なる、誘電体層7の側の面の位置には接地導体6が設けられる。 (もっと読む)


【課題】無機材料を用いて配向安定性のよい配向膜を形成する方法を提供する。また、光学特性と信頼性に優れた液晶光学素子および光ヘッド装置を提供する。
【解決手段】有機基を有する無機材料と溶剤とを含む配向膜組成物を基板の上に塗布した後、この配向膜組成物に対して熱処理を行って溶剤を除去する。次いで、配向膜組成物に対して、斜めにイオンビームを照射することにより、有機基の一部を除去し、膜表面に対して傾斜した空孔を有する多孔質の配向膜を形成する。溶剤を除去する工程は、大気中において200℃以下の温度で行われることが好ましい。また、イオンビームを照射する工程は、300℃以下の温度で行われることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】従来のように白金系材料を用い、更に脱泡装置を用いて脱泡しても、ガラス製品中に残存していた気泡の量を低減することができる特定の白金系材料であるガラス流路用材料、及びそれを用いたガラス製品の製造方法の提供。
【解決手段】白金系材料であって鉄族金属含有率が60ppm以下であるガラス流路用材料。 (もっと読む)


【課題】広帯域特性を有し、かつ小型化が可能な、無線通信端末へ実装するアンテナ装置を提供する。
【解決手段】アンテナ装置の誘電体基体の放射導体11は、誘電体基体12の辺B,Cの各辺上に放射導体の端を定める第1の端部H及び第2の端部Iを有する。放射導体11は、第1の端部Hの端点Dと第2の端部の端点Fを曲線によって接続してつくられる縁部Kを有する。さらに、縁部Kの曲線よりも頂点Aから遠い領域に、第1の端部Hの端点Eと第2の端部Iの端点Gを曲線によって接続してつくられる縁部Jを有する。放射導体11の第1の端部H近傍には、放射導体11の給電点が設けられる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ファンネルの内壁面に対するゲッター支持部材の位置ずれを防止できるとともに、ファンネルの成型時における溶融ガラスの流れを円滑化させ、皺やクラック等の成型不良の発生を防止することができる陰極線管用ガラスファンネルを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のファンネル10は、ファンネル10の内壁面14に形成された溝部24に、ゲッター支持部材12の板ばね状脚部22、22を係合したので、ファンネル10の内壁面14に対するゲッター支持部材12の位置ずれを防止することができる。また、溝部24の幅は、板ばね状脚部22、22の幅に相当する寸法を有し、溝部24の深さは、板ばね状脚部22、22が振動や陰極線管の取り扱い時に外れることのない、経験的に得られる寸法、例えば1.2mmに設定される。 (もっと読む)


【課題】 ハニカム成形体のサイズが大型化したり、また分割型ハニカム(セグメント)焼成においてセグメント密度が大型化した場合でも、クラックやハニカム成形体の変形が発生しない窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造方法の提供。
【解決手段】 金属ケイ素粒子と気孔形成材とを含むハニカム成形体を加熱炉に載置し、窒素を炉内に導入して金属ケイ素を窒化ケイ素とし、焼結して窒化ケイ素からなる窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造方法において、熱処理時のガス雰囲気が、(1)室温〜窒素ガス導入開始温度までは、真空又はAr等を大気圧以下に含む雰囲気として昇温する第1段階と、(2)炉内圧力を20〜90KPaの範囲の一定減圧圧力に調整し、窒素ガス導入量を特定量として加熱、窒化する第2段階と、(3)窒素ガス導入量制御終了温度からは窒素を大気圧以下に含む雰囲気として加熱、焼結する第3段階とを順次実施する。 (もっと読む)


【課題】EUV露光時の反射率低下が抑制されたEUVマスクブランク、および該EUVマスクブランクの製造に使用される機能膜付基板の提供。
【解決手段】基板上に、EUV光を反射する反射層と、該反射層を保護する保護層とがこの順に形成されたEUVリソグラフィ用反射層付基板であって、前記保護層が、ルテニウム(Ru)と、ホウ素(B)およびジルコニウム(Zr)からなる群から選択される少なくとも1つと、を成分とし、前記保護層におけるRuの含有率が70at%〜95at%、前記BおよびZrの合計含有率が5at%〜30at%であることを特徴とするEUVリソグラフィ用反射層付基板。 (もっと読む)


【課題】非画像領域のトナーを適切に除去することができるガラス板の印刷方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、回転する感光ドラム13を露光し、該露光した感光ドラム上にトナーを付着させ、該付着させたトナーをガラス板G面に転写するガラス板Gの印刷方法であって、前記感光ドラムからガラス板面に転写されたトナーのうち、所定の画像パターンに対応した領域のトナーを加熱及び/又は圧着して仮固着させ、該仮固着の後に、ガラス板面をクリーナ19でクリーニングして、ガラス板G面における前記画像パターンに対応する領域以外の領域に転写されたトナーを除去することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】254nmおよび313nmの紫外線を充分遮蔽でき、可視域に着色の少ない蛍光ランプ用ガラス管の提供。
【解決手段】GeOおよびCeOを含有するホウケイ酸ガラスからなる蛍光ランプ用ガラス管。前記ホウケイ酸ガラスが下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiO 60〜80%、B 10〜25%、Al 1〜7%、LiO+NaO+KO 3〜15%、ZnO 0〜5%、GeO 0.1〜5%、CeO 0.1〜5%、ZrO 0〜3%、Fe 0.01〜0.1%、から本質的になる前記蛍光ランプ用ガラス管。前記ホウケイ酸ガラスにおける全Ceイオンに対するCe3+イオンの割合が90%以上である前記蛍光ランプ用ガラス管。 (もっと読む)


【課題】ピットやスクラッチのような凹欠陥を有する基板表面を平滑化する方法の提供。
【解決手段】EUVリソグラフィ用反射型マスクブランク用ガラス基板表面を平滑化する方法であって、ガラス基板上に薄膜を形成する工程と、前記ガラス基板上に存在する凹欠陥を検出する工程と、検出された凹欠陥直上の前記薄膜を局所的に加熱することにより若しくは該薄膜を局所的に陽極酸化することにより、前記薄膜を構成する材料に体積増加を伴う化学反応を生じさせる工程と、を含むことを特徴とするガラス基板表面を平滑化する方法。 (もっと読む)


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