説明

新電元工業株式会社により出願された特許

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【課題】起動時における突入電流を従来に比べて大幅に抑制して、直流電圧の電圧変動を抑制することが可能となる電源装置を提供する。
【解決手段】交流直流変換部のスイッチング素子をオン/オフ制御するスイッチング動作制御部15は、出力電圧計測値Vdcが起動開始電圧値になるまでは、スイッチング素子のオン/オフ制御を停止し、出力電圧計測値Vdcが起動開始電圧値に到達した以降、出力電圧設定値に達するまでは、予め設定された起動処理時間を、予め設定された更新サイクル時間で除したステップ数で、目標出力電圧値Vrefを出力電圧設定値まで段階的に上昇させる目標電圧生成制御を行う。 (もっと読む)


【課題】ウェーハの分割の処理速度を速めることができ、半導体チップの断面形状等の品質を一定に維持することができ、隣接する半導体チップ同士が分割されない虞もないウェーハの分割装置及び分割方法を提供する。
【解決手段】本発明のウェーハの分割装置11は、表面2aに複数個の半導体が形成され、半導体それぞれの周囲にブレークラインが形成されたウェーハ2を、ブレークラインにより複数個の半導体チップに分割する装置であり、気体または液体を注入することにより膨張可能な風船12と、風船12を下面13aに取り付け可能な風船取付台13と、を備え、風船12がウェーハ2の表面2aに近接するように風船取付台13をウェーハ2に対向配置し、風船12を膨張させてウェーハ2の表面2aを押圧することにより、ウェーハ2をブレークラインにより複数個の半導体チップに分割する。 (もっと読む)


【課題】従来の樹脂封止型半導体装置よりも大きな電流を流すことが可能な樹脂封止型半導体装置を提供する。
【解決手段】金属板でなるヒートシンク1100と、ヒートシンク1100の上面側に配設された半導体チップ310,320と、平板状金属板を折り返して形成された応力緩和構造とを有し、ヒートシンク1100と半導体チップ310,320との間に配設された弾性接続子1200,1300と、半導体チップ310,320の上面側電極312,322に電気接続された外部接続リード(端子金具1410,1510)と、ヒートシンク1100、半導体チップ310,320、弾性接続子1200,1300及び端子金具1410,1510を封止するモールド樹脂400とを備える樹脂封止型半導体装置10であって、ヒートシンク1100は弾性接続子1200,1300を介して半導体チップ310,320の下面側電極311,321に接続されている。 (もっと読む)


【課題】 巻線の引出線の絶縁性の確保が容易であり、かつ、引出線が位置ずれしにくい構造を有する磁性部品を提供すること。
【解決手段】 巻線11の引出線である配設部13とこれに連続する端部及び近傍部分15、並びに端部及び近傍部分16、巻線12の引出線である配設部14とこれに連続する端部及び近傍部分17、並びに端部及び近傍部分18とがボビン30の各部によって保持又は挟持されているので、磁性部品10の実装作業時や実装後にこれらが本来の位置からずれて、短絡する或いは必要な沿面距離又は空間距離を保てなくなることを防止でき、これらにゴム等の絶縁被覆を設ける必要がない。また、これらが位置ずれしにくくなり、磁性部品10を基板に実装する際の位置決めが容易になる。さらに、磁性部品10を基板に実装する際にこれらが接続する相手方の配線等に押されて位置ずれすることを防止できる。 (もっと読む)


【課題】トレードオフの関係にある臨界オフ電圧上昇率dV/dtとゲート感度との関係を改善した半導体装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、ゲートトリガ電流IGTの経路となるベース層(P型ベース領域、P型半導体領域P1)のゲート電極M1bとのオーミック接触面である高濃度不純物層を、高融点金属シリサイド層LMで形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、信号処理結果の精度を維持しつつ、信号処理の応答性を改善する。
【解決手段】信号処理装置100は、複数の入力信号に基づいて生成される情報を、複数の入力信号からなる組と入力信号の取得順序(0〜(N−1))とに対応させて記憶するデータレジスタ部30と、複数の入力信号に基づいた情報を生成するAD変換部20と、複数の入力信号からなる入力信号の組を示す識別情報(0〜(M−1))と、組を成す複数の入力信号の取得順序を示す順序情報(0〜(N−1))とに対応させて、入力信号に基づいて生成された情報をデータレジスタ部30に記憶させる制御部90と、複数の入力信号の組を成す入力信号に対応する記憶された情報に対するフィルタ処理を行うフィルタ処理部40とを備える。 (もっと読む)


【課題】負荷に供給する電流における過電流保護をして、交互に繰り返される電流の方向切替制御における導通時間をバランスさせて負荷に供給する電流を調整するフルブリッジ構成のスイッチング部を制御する。
【解決手段】検出部20は、電圧変換部14の電流が予め定められる閾値を超えたことを検出して過電流検出信号を出力する。制御部30は、フルブリッジ位相制御方式を用いてスイッチング部12の直列に接続される第1のスイッチ(12c)と第2のスイッチ(12d)を導通状態と遮断状態との間で遷移させる位相を制御する。また、制御部30は、過電流検出信号を検出した場合に、第1のスイッチ(12c)を遮断し、過電流検出信号を検出したタイミングに応じて第2のスイッチ(12d)を遮断状態に遷移させる位相を早めるように制御する。 (もっと読む)


【課題】保持電流特性とブレークダウン電圧に影響を与えずに、点弧動作感度の高感度化を実現する片導通サイリスタ(半導体装置)を提供する。
【解決手段】片導通サイリスタ100は、p領域1とn領域2とp領域3とn領域4とが順に接合されるサイリスタ部110と、n領域2とp領域3とが接合されたダイオード部120とを有する。片導通サイリスタ100は、ダイオード部120におけるn領域2に接する第1のダイオード部表面F12とダイオード部120におけるp領域3に接する第2のダイオード部表面F22との間に形成され、サイリスタ部110が導通する動作過程を示す点弧動作の際に、第1のダイオード部表面F12と第2のダイオード部表面F22との間に流れる電流経路を、第1のダイオード部表面F12と第2のダイオード部表面F22との最短経路より長くさせるn領域5を備える。 (もっと読む)


【課題】従来の半導体装置における優れた放熱性能及び優れた絶縁性能を低下させることなく、従来の半導体装置の場合よりも低背化の要求を満たすことが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】ダイパッド110(120)、第1リード116(126)及び第2リード140(130)を備えるフレーム部と、半導体素子172,174,176,178と、一方端が半導体素子176,178(172,174)に接合されるとともに他方端が第2リード130(140)の接続部132(142)に接合された第1及び第2連結接続子150(160)とを備え、第1リード116(126)を半導体素子搭載面112(122)よりも手前側に位置させるためにダイパッド110(120)と第1リード116(126)との間に形成する屈曲部118(128)が、ダイパッド110(120)の部分から形成されている樹脂封止型半導体装置。 (もっと読む)


【課題】n型ソース領域を形成する際にn型不純物の拡散深さがばらついたとしても素子の閾値がばらつくという問題を抑制することが可能なトレンチゲート型パワーMOSFETを提供する。
【解決手段】n型ドリフト層114と、p型ボディ層120と、n型ドリフト層114に達して形成してなる溝130と、p型ボディ層120内に配置されるとともに、少なくとも一部を溝130の内周面に露出させて形成してなるn型ソース領域140と、溝130の内周面に形成してなるゲート絶縁膜132と、ゲート絶縁膜132の内周面に形成してなるゲート電極層134と、ゲート電極層134と絶縁されるとともに、n型ソース領域140と接して形成してなるソース電極層150とを備え、p型ボディ層120におけるp型不純物の濃度が最大値を示す深さ位置がn型ソース領域140の最下面よりも深い位置にあるトレンチゲートパワーMOSFET100。 (もっと読む)


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