【解決手段】太陽光を入射させる透明部材のパネル１と太陽光入射の反対側に配置された熱伝導性部材のパネル５との間の空隙に、光透過性エラストマー部材２と太陽電池素子３とを、光透過性エラストマー部材２を太陽光入射側に配置すると共に、この光透過性エラストマー部材２によって太陽電池素子３を上記熱伝導性部材のパネル１側に押圧して圧着した状態で介装してなる太陽電池モジュールであって、上記光透過性エラストマーの屈折作用により直達光の光路を変換することで、光入射光量を屈折作用によらず直達光の入射がある領域より光の入射が少ない領域に、太陽電池セルのフィンガー電極及び／又はバスバー電極を対置した太陽電池モジュール。
【効果】本発明は、変換効率が高く、かつ、屋外暴露下において長期の耐久性を備えることで、地球環境問題を解決する重要なエネルギー源として、広大な太陽光発電所に敷設される太陽電池モジュールとして最適である。 （もっと読む）

【解決手段】（ｉ）−［バリン-プロリン−グリシン−バリン−グリシン］−で示されるペンタペプチドを繰り返し単位として有し、分子量が８００〜１５０，０００である、オリゴペプチド又は上記ペンタペプチドとこれと共重合可能な他の単量体との共重合体、
（ｉｉ）コロイド溶液
を含む合成石英ガラス基板用研磨剤。
【効果】本発明によれば、特にフォトマスク、ナノインプリント、磁気ディスク等の半導体関連材料において重要な光リソグラフィー法に使用される合成石英ガラス基板等の合成石英ガラスの製造において、基板表面の高感度欠陥検査装置で検出される欠陥を少なくすることができ、しかも長い研磨ライフで使用することができるため、製造の品質の向上だけではなく、環境への負荷やコストの観点からも有益になる。 （もっと読む）

【課題】エッチングマスク膜についてのパターン形成膜をエッチングする際の耐エッチング性と、パターン形成膜についてのパターン形成膜をエッチングする際の被エッチング性との双方を評価して、良好なエッチング条件を見出すことができるパターン形成膜のエッチング条件の評価方法を提供する。
【解決手段】透明基板と、透明基板上に、フォトマスクパターンを形成するためのパターン形成膜と、パターン形成膜の上に、パターン形成膜のエッチングマスクとして用いるエッチングマスク膜とを備えるフォトマスクブランクのパターン形成膜のエッチング条件を、フォトマスクパターンを形成する際にパターン形成膜に適用するエッチング条件で、エッチングマスク膜をエッチングしたときのエッチングクリアタイム（Ｃ１）と、パターン形成膜をエッチングしたときのエッチングクリアタイム（Ｃ２）とを測定し、両者のクリアタイム比（Ｃ１／Ｃ２）により評価する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物及び熱架橋剤を含有する高感度、高解像度な厚膜用の化学増幅ポジ型レジスト材料に関する。
【解決手段】（Ａ）ベース樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）熱架橋剤、（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ａ）成分が１００質量部、（Ｂ）成分が０．０５〜２０質量部、（Ｃ）成分が０．１〜５０質量部、（Ｄ）成分が５０〜５，０００質量部からなり、（Ａ）ベース樹脂が、重量平均分子量１，０００〜５００，０００である高分子化合物を含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】硬化して高強度の硬化物を与える白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物の硬化物をリフレクターとして用いた光半導体装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）シルフェニレン骨格及びレジン状オルガノポリシロキサン構造を有し、ヒドロキシ基を含有する、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５００〜２０，０００の有機ケイ素化合物、（Ｂ）白色顔料、（Ｃ）（Ｂ）成分以外の無機充填剤、及び（Ｄ）硬化触媒、を含む白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物；光半導体素子と上記組成物の硬化物を含むリフレクターとを備える光半導体装置。 （もっと読む）

【解決手段】支持体上に仮接着材層が形成され、かつ仮接着材層上に、表面に回路面を有し、裏面を加工すべきウエハが積層されてなるウエハ加工体であって、
上記仮接着材層が、上記ウエハの表面に剥離可能に接着された熱可塑性オルガノポリシロキサン重合体層（Ａ）からなる第一仮接着層と、この第一仮接着層に積層された熱硬化性変性シロキサン重合体層（Ｂ）からなる第二仮接着層と、この第二仮接着層に積層され、支持体に剥離可能に接着された熱可塑性オルガノポリシロキサン重合体層（Ａ’）からなる第三仮接着層の３層構造を有する複合仮接着層単位を備えたウエハ加工体。
【効果】本発明の仮接着材層は、耐熱性が高いために、幅広い半導体成膜プロセスに適用でき、段差を有するウエハに対しても、膜厚均一性の高い接着材層を形成できる。 （もっと読む）

【課題】硬化前は高流動性を有し、硬化して高強度の硬化物を与える白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物の硬化物をリフレクターとして用いた光半導体装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）ヒドロキシ基を含有するポリスチレン換算の重量平均分子量が５００〜２００００のレジン状オルガノポリシロキサン、（Ｂ）アルコキシ基もしくはヒドロキシ基又はこれらの組み合わせを含有し、シルフェニレン部位を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）白色顔料、（Ｄ）（Ｃ）成分以外の無機充填剤、及び（Ｅ）硬化触媒、を含む白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物；光半導体素子と上記組成物の硬化物を含むリフレクターとを備える光半導体装置。 （もっと読む）

【解決手段】透明基板と、遷移金属、ケイ素、窒素及び酸素を含有する材料からなるハーフトーン位相シフト膜パターンとを有し、ハーフトーン位相シフト膜パターンの組成が、遷移金属とケイ素との原子比（Ｍｅｔ／Ｓｉ）が０．１８以上０．２５以下、窒素含有率が２５原子％以上５０原子％以下、かつ酸素含有率が５原子％以上２０原子％以下であり、累積１０ｋＪ／ｃｍ²以上のＡｒＦエキシマレーザー光が照射されたハーフトーン位相シフトマスクを用い、ＡｒＦエキシマレーザー光を光源として、光パターンを照射する。
【効果】従来と比べて、光パターンの大幅なパターン寸法変動劣化なしに、光リソグラフィーにおける光パターン照射を長時間実施することができる。 （もっと読む）

【課題】シリコーンゴム組成物とフロロシリコーンゴム組成物との接着性に優れたオルガノシリコーン組成物、並びに該オルガノシリコーンゴム組成物の硬化物からなるオルガノシリコーンゴムとフロロシリコーンゴムとの積層体（積層構造物）を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記平均組成式（１）、Ｒ_aＳｉＯ_(4-a)/2（１）、（式中、Ｒは互いに同一又は異種の非置換又はシアノ置換の１価炭化水素基であり、ａは１．９０〜２．０５の正数である。）で示されるオルガノポリシロキサン：１００質量部、（Ｂ）シリカ系充填剤：２〜１００質量部、（Ｃ）フルオロアルキル基及びハイドロジェン基を有するシロキサン単位をそれぞれ１分子中に少なくとも１個有する特定のオルガノハイドロジェンポリシロキサン：０．０１〜３０質量部、（Ｄ）有機過酸化物加硫剤：触媒量、を含有してなることを特徴とするオルガノシリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】高容量で、サイクル寿命の長いリチウムイオン電池用負極材を提供する。
【解決手段】構成元素として、Ｓｉ，Ａｌ，Ｍ１（Ｍ１は周期律表第４族、第５族を除く遷移金属の中から選ばれる１種以上の金属元素である。），Ｍ２（Ｍ２は周期律表第４族、第５族の中から選ばれる１種以上の金属元素である。）を含有し、微細な結晶粒を構成するＳｉ−Ａｌ−Ｍ１−Ｍ２合金相と、前記結晶粒の粒界に析出して網目状構造を呈するＳｉ相とを有する合金材料からなる。 （もっと読む）