【課題】 高い清浄性が必要とされる分野での使用においてマイクロ波帯域でのエネルギーロスを抑制し、かつ均一にガス分散出来る多孔質部材を提供すること。
【解決手段】 多孔質部材は、多孔質のセラミックスで形成され、マイクロ波帯域での誘電正接が１×１０^−３以下である。セラミックス部材は、この多孔質部材を一部に備えたセラミック焼結体からなる。 （もっと読む）

【課題】 成膜性や耐久性、信頼性に優れたプラズマ処理装置用部材を提供する。
【解決手段】 基材上に、純度９８％以上であるセラミックス膜を有している。セラミックス膜は、膜を構成している粒子の粒子径が５０ｎｍ以下であり、膜からの放出水分量が１０^１９分子／ｃｍ^２以下である。 （もっと読む）

【課題】圧電素子を用いた薄型の駆動装置を提供する。
【解決手段】駆動装置の一形態であるＡＦユニット１０は、電圧印加により屈曲する圧電素子１２と、圧電素子１２の一端を保持する保持部材１４と、圧電素子１２の自由端と摩擦接触する被駆動部材１６と、被駆動部材１６に連結されたレンズ枠１８と、圧電素子１２と被駆動部材１６とを一定の力で押し付けるための与圧機構と、被駆動部材１６をＺ方向にスライド自在に保持するガイド２０と、これらを収容するユニットケース２２を有する。圧電素子１２を最も寸法の短い厚み方向がＺ方向となるように配置することで、ＡＦユニット１０の厚さをレンズ枠１８の制動範囲と同等に薄く構成する。圧電素子１２を屈曲させて圧電素子１２と被駆動部材１６との間の摩擦力によって被駆動部材１６をＺ方向にスライドさせる。 （もっと読む）

【課題】厚さが薄く、剛性の低いマシナブルセラミックス基板への溶射皮膜の剥離や割れがなく、かつ、溶射後にマシナブルセラミックス基板自体が割れることがない溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】厚さ１０ｍｍ以下で、かつ、ヤング率が１００ＧＰa以下のマシナブルセラミックス基板への溶射皮膜の形成方法であって、前記基板を予熱する工程と、前記基板に溶射によりセラミックス粉を溶着してセラミックス皮膜を形成する工程と、前記セラミックス皮膜に冷却用空気を吹き付ける工程と、を含むことを特徴とするマシナブルセラミックス基板への溶射皮膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】減圧環境下で使用されるセラミックス部品において、処理物への汚染の少ないセラミックス部品を検査し、有機物の汚染の少ない半導体製造装置用セラミック部品を提供する。
【解決手段】焼結体密度９８％以上であり、Ｘ線光電子分光法で表面の深さ方向の測定をし、表面から５ｎｍ以深での深さで検出される吸着有機物由来の炭素量が５ｍａｓｓ％以下であることを特徴とする半導体製造装置用セラミックス部品、更に、半導体製造装置の処理室内で曝露される主面の表面粗さが、表面平滑度でRａ１μｍ以下であることを特徴とする前記半導体製造装置用セラミックス部品である。 （もっと読む）

【課題】吸着面となる静電チャックの表面に水分や有機物などの汚染物質が付着しても、所望の吸着力を発現することが可能な双極型静電チャックを提供する。
【解決手段】 基台４と、この基台４の上面に形成された一対の正負の電極２ａ、２ｂと、この電極２ａ、２ｂを被覆するように該基台４の上に形成された絶縁層３と、を具備してなる双極型静電チャック１において、該絶縁層表面からの深さが、該一対の正負の電極２ａ、２ｂが位置する深さよりも大きい溝部６を、該一対の正負の電極２ａ、２ｂの間が分断されるように形成する。 （もっと読む）

【課題】溶融した溶湯の流動性を向上させることの出来る鋳造用金属マトリックス複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＣ粉末と該ＳｉＣ粉末に隣接したＡｌ合金を、完全浸透するより過剰量を用意し、プロセスの少なくともある時点で雰囲気をＮ_２とし、浸透増進剤を用意し、該Ａｌ合金の融点より高い温度でＳｉＣ粉末に該Ａｌ合金を自発的に浸透させて、浸透物を生成し、該浸透物及びＡｌ合金の液化温度より高い温度を保持して溶融懸濁物を形成し、該浸透物及びＡｌ合金に対して、追加のAl合金を添加することなく、該溶融懸濁物を混合して分散させ、型であってその内部に有形のキャビティを有するものを用意し、該溶融懸濁物を該の型内の有形キャビティ中に注入しそして該懸濁物を冷却して有形の金属マトリックス複合体を形成することを含んでなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 簡便かつ静電チャック用部材を汚染することのない方法で、表面抵抗を調整した静電チャック用部材およびその表面抵抗の調整方法を提供する。
【解決手段】 基台と、この基台の上面に形成された電極層と、この電極層を被覆するように前記基台の上に形成された上部絶縁層とを具備してなる静電チャック用部材であって、前記基台と上部絶縁層とがＡｌＮ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｓｉ₃Ｎ₄から選ばれる一種の材料を主成分とする同種のセラミック材料によりなり、かつ、前記上部絶縁層の被吸着物との接触面の常温での表面抵抗が、予め１．０×１０¹⁴〜１．５×１０¹⁶Ω/□となるように出荷前に調整されていることを特徴とする静電チャック用部材。 （もっと読む）

【課題】１×１０^-2Ｔｏｒｒ以下の圧力下、１００℃以上の温度で、シリコンウエハを静電力によって吸着する静電チャックにおいて、被吸着物であるＳｉウエハの均一加熱性を高めることができる静電チャックを提供する。
【解決手段】１×１０^-2Ｔｏｒｒ以下の圧力下、１００℃以上の温度で、シリコンウエハを静電力によって吸着する静電チャックであって、前記静電チャックが、セラミックスからなる盤状の基板と、この基板上に設けられた前記基板と同種のセラミックスからなる絶縁性誘電層１と、前記基板と前記絶縁性誘電層１との間に埋設されている電極とを備えており、かつ、前記絶縁性誘電層１の表面には複数の凹凸部が形成されており、前記凹部３の底部平面の表面粗さＲａが０．５μｍ以上であることを特徴とする静電チャック。 （もっと読む）

【課題】 簡便かつ部材を汚染することのない方法で、表面の濡れ性を制御したセラミックス部材およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】 ＡｌＮ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＣ、Ｓｉ₃Ｎ₄から選ばれる一種の材料を主成分として９５重量％以上含むセラミック部材の表面粗さＲａを０．５μｍ以下に研磨する工程と、該セラミック部材を４００〜９００℃で加熱処理する工程と、該セラミック部材をアルコール中に浸漬する工程と、該セラミック部材を１００℃以上で乾燥する工程と、を含む製造方法により、該セラミック部材表面の水滴との接触角が６０°〜１２０°であるセラミック部材を得る。 （もっと読む）