【課題】分子量の安定したベースポリマーを得ることができる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明による半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法は、少なくとも２種の繰り返し単位を含む半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法であって、前記共重合体を含水率が３５０ｐｐｍ〜１０質量％である溶液として保持する工程を有するものである。 （もっと読む）

【課題】高感度及び高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】カリックスレゾルシナレン化合物と酸解離性溶解抑制基を有する化合物とを１〜３種の塩基性有機化合物を縮合剤として縮合し下記式（４）で表される化合物を合成し、これを高感度及び高解像度のフォトレジスト組成物に使用する。
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【課題】現像時、アルカリ現像液に対して均一に溶解するフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法により得られるフォトレジスト用高分子化合物、及びそれを含むフォトレジスト用組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を、ラジカル重合することにより半導体素子製造向けフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法において、内部に静的攪拌器を内蔵した管状反応器を用い、有機溶媒中に前記２種以上の重合性化合物を含有する混合溶液を連続的に通して重合することを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法で得られるフォトレジスト用高分子化合物、並びにフォトレジスト用高分子化合物を含むフォトレジスト用組成物である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト基材の材料を提供する。
【解決手段】純度が９０％以上の下記式（１）又は式（２）のいずれか一方のみで表される化合物。
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【課題】放射線に対し高い感度を有し、密着性、高耐熱性、解像度、高透過率、高信頼性の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成でき、保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（Ａ）共重合体、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）共重合体が、（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物、並びに（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を、下記式（１）で表される化合物の存在下で重合する工程を経て製造された共重合体を含む感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【化１】



〔式（１）において、Ｚ^１およびＺ² は相互に独立に炭素数４〜１８のアルキル基または置換されていてもよいベンジル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物の前駆体として有用である化合物、酸発生剤、レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物。一般式（ｂ１−１）で表される化合物。式中、Ｑ^１は二価の連結基又は単結合であり；Ｙ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり；Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環式基を表し、該環構造中に−ＳＯ_２−結合を有する。Ｍ^＋はアルカリ金属イオンである。Ａ^＋は有機カチオンである。
［化１］
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【課題】クロム化合物を含まず、紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像が可能であって、高感度であり、しかも熱安定性及び現像管理幅が良好で、塗膜が優れた性能を示すソルダーレジストインクとして好適な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）三価の有機リン化合物とナフテン酸ジルコニウム及びオクチル酸ジルコニウムの少なくとも１種との存在下で、多官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸とを反応させ、更に多塩基酸無水物を反応させることにより生成したカルボキシル基に不飽和二重結合を有するモノエポキシ化合物及び水溶性モノエポキシ化合物を反応させて得られる感光性樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）光重合開始剤並びに（Ｄ）反応性希釈剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂として必要なタックフリー性、現像性および硬化性が良好で、かつ、高度な可撓性を有する硬化物を与える感光性樹脂を提供する。
【解決手段】１分子中に２個以上のエポキシ基と１個以上の２級ヒドロキシル基とを有するエポキシ樹脂（Ａ）の２級ヒドロキシル基に対し、１分子中に１個以上のイソシアネート基と１個以上のラジカル重合性二重結合とを有する化合物（Ｂ）を反応させる工程（１）、工程（１）の反応生成物であるエポキシ樹脂（Ａ’）のエポキシ基に対し、１分子中に、エポキシ基と反応し得る官能基を１個以上と、１個以上の１級ヒドロキシル基とを有する化合物（Ｃ）を反応させる工程（２）、工程（２）の反応生成物に対し、多塩基酸無水物（Ｄ）を反応させる工程（３）をこの順に含む製造方法により得られる感光性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料、該高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料を高い生産性で製造することができるポジ型平版印刷版材料の製造方法および平版印刷版材料梱包体を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、波長７００〜１２００ｎｍに吸収極大を持つ近赤外線吸収色素とを含有する感光層を設けた後、熱処理して製造されたポジ型平版印刷版材料において、前記熱処理時の印刷版材料の雰囲気が、ｐＨ＝３〜６の酸性雰囲気であることを特徴とするポジ型平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】安全なキャスト溶媒への溶解性、熱安定性及び環境保全性に優れた光酸発生剤並びにそれを用いたレジスト材料の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｘはトリフルオロメタンスルホン酸イオンである）
で表される光酸発生剤。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に於いて、レジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、液浸液への溶出が抑制された液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合溶媒として、鎖状ケトン、環状ケトン、鎖状エーテル及び環状エーテルからなる群から選択される溶剤を用いて製造された、特定の、シクロアルキル構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、なかでも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるカルボキシル基を有するラクトン化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³はＣ１〜１０の１価炭化水素基又はＨ。あるいは、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｗは−ＣＨ₂、−Ｓ−又は−Ｏ−。ｋ¹は０〜４の整数。ｋ²は０又は１。） （もっと読む）

【課題】スペーサー形成時に発生する揮発成分量が極めて少なく、さらにスリットダイ塗布法による高速塗布にも対応できる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］カルボキシル基およびカルボン酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基、ならびにペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代表される特定の多価チオール化合物に由来する基を有し、且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）とポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜２．８である重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物ならびに［Ｃ］感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】金属のコンタミ、エステル部分の加水分解を起こさずに、所定の保護基のみを選択的に脱離させるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有する感度、パーティクル、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定化合物の単独重合又はビニル芳香族化合物との共重合又はアクリル酸エステルとの共重合又はメタクリル酸エステルとの共重合から得られた重合体から、所定の保護基を脱離させて、アルケニルフェノール系重合体を製造する方法に於いて、脱離剤として特定化合物を用いるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】重合時の固体付着を起こしにくく、不溶解性微粒子が発生しにくい溶媒を用いたフォトレジスト用高分子化合物の製造方法の提供
【解決手段】酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化する繰り返し単位を含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法であって、分子構造中にシアノ基を持つ溶媒を含む溶媒中で重合することを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法 （もっと読む）

【課題】透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減するＡｒＦエキシマレーザー用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される繰り返し単位を含み、重量平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５よりも小さい酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】反応系をゲル化させることなく、高度に分岐したハイパーブランチポリマーを合成できるハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】多官能ラジカル重合性単量体と一官能ラジカル重合性単量体とのラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、ラジカル重合を開始させる重合開始剤が存在する反応系に、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体を同時に加えて、ラジカル重合をおこなうようにした。多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体は、ラジカル重合に用いる一官能ラジカル重合性単量体全量のうち、一部の一官能ラジカル重合性単量体を混合した反応系に加える。また、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体の混合物を加えてもよい。 （もっと読む）

【課題】高い撥水性及び撥インク性が得られる高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される高分子化合物〔Ｒ^１：（ｍ＋ｎ）価の有機連結基；Ｒ^２：単結合あるいは２価の有機連結基；Ａ^１：フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基（ｎ個のＡ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい）；ｍ：１〜８；ｎ：２〜９；ｍ＋ｎ：３〜１０；Ｐ^１：高分子骨格（ｍ個のＰ^１は、同一であっても、異なっていてもよい）〕。


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【課題】ケトンやエステル等の極性有機溶媒への高溶解性を維持するとともに、波長１９３ｎｍの光に対する吸光度が低いため消衰係数が低く、且つ屈折率が高いフラーレン誘導体、並びにそのフラーレン誘導体を含有する溶液、及びフラーレン誘導体膜を提供する。
【解決手段】付加置換基としてのヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物のヒドロキシル基に、脂肪族環状炭化水素基を含む有機基、硫黄原子を含有する炭化水素基を含む有機基からなる群より選ばれる１種以上の有機基を適当量導入する。 （もっと読む）

【課題】超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、現像後の欠陥が少なく、且つ良好なプラズマエッチング耐性を有するパターンを形成し得るポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】連鎖移動剤の存在下でラジカル重合することにより得られた樹脂（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）