【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、金属を接合部材として用いることによって外部の水分や酸素の影響を防止すると同時に、金属接合部に起因する寄生容量の発生を防止する。
【解決手段】有機ＥＬ素子を形成した第１基板２６と、第２基板２７とを、共通電極１１を介して金属接合部２５により接合する。 （もっと読む）

【課題】入力階調電圧と出力輝度との間の相関関係の補正の正確性、容易性、及び汎用性を具現する補正システム及びその方法を提供する。
【解決手段】電圧伝達関数式と輝度伝達関数式、及び両関数式の間の伝達ファクター（効率、臨界点、傾き）を数式化して全ての場合の条件変化による入力階調電圧と出力輝度との間の相関関係を導出し、伝達関数式を用いて測定輝度と目標輝度との間の差だけ入力階調電圧を補正する。また、環境補正及びＩＲドロップ補正を通じてホワイトバランスとクロストークを補償する。 （もっと読む）

【課題】トランジスター１２１のゲートノードｇがノイズ等による影響を受け難くする。
【解決手段】画素回路１１０は、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給するトランジスター１２１と、二端子型のＯＬＥＤ１５０と、データ線１４とトランジスター１２１のゲートとの間でオンまたはオフするトランジスター１２２と、トランジスター１２１におけるゲートとドレインとの間でオンまたはオフするトランジスター１２３と、ＯＬＥＤ１５０におけるアノードＡdと、リセット電位を給電する給電線１６との間でオンまたはオフするトランジスター１２４と、ＯＬＥＤ１５０への電流経路でオンまたはオフするトランジスター１２５とを含む。画素回路１１０が形成される領域は、トランジスター１２１〜１２３が配置される第１領域１１０ａと、トランジスター１２４、１２５が配置される第２領域１１０ｂとに分離される。 （もっと読む）

【課題】輝度の均一化が可能な面状発光装置を提供する。
【解決手段】第２の面状発光装置３０とともに駆動される第１の面状発光装置２０は、透明基板と、透明基板の一主面に形成され面状陽極及び面状陰極に有機層が挟まれた複数の有機ＥＬ素子（有機ＥＬ部）とを有する。有機ＥＬ部は、他の面状発光装置（第２面状発光装置３０）に含まれる有機ＥＬ素子と直列に接続されている。そして、各有機ＥＬ素子の発光領域Ｈ１，Ｈ２は同一面積に設定されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、接合部材として金属を用いて防湿性の高い封止を行うと同時に、該金属に起因する寄生容量による表示不良を低減する。
【解決手段】少なくとも周辺回路と金属接合部８とが重畳する領域においては、金属接合部８内に空隙を形成して係る金属接合部８による寄生容量を低減する。 （もっと読む）

【課題】ロール状に巻いても巻き癖が発生しない偏光板を提供する。また、当該偏光板が具備された表示装置提供する。
【解決手段】特定要件を満たす面内位相差値Ｒｏを有する二枚の位相差フィルムが偏光子の両面に備えられた偏光板であって、当該位相差フィルムの一方を位相差フィルムＡ、他方を位相差フィルムＢとし、かつ、それぞれの遅相軸方向の弾性率Ｓを、それぞれ、Ｓ（Ａ）及びＳ（Ｂ）としたとき、特定要件を満たすように当該二枚の位相差フィルムが貼合されていることを特徴とする偏光板。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置、及び該半導体装置の作製方法を提供する。半導体装置を歩留まりよく作製し、高生産化を達成する。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程により、ソース電極層及びドレイン電極層を形成後、酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の不純物を除去する工程を行う。 （もっと読む）

【課題】焼成によるコンタクトホールにおけるコンタクト抵抗値の増加を抑制して、良好な品質を備えた有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】金属から成る配線部を含むＴＦＴ層が上面に形成された基板を準備する第１の工程と、前記ＴＦＴ層の上に絶縁膜用材料の層を積層する第２の工程と、前記配線部の一部が露出するように、前記絶縁膜用材料の層にコンタクトホールを形成する第３の工程と、前記絶縁膜用材料の層を、酸素を含む雰囲気で加熱焼成して絶縁膜層を形成する第４の工程と、前記第４の工程において前記配線部の表面の金属が酸化して形成された金属酸化物をエッチャントに溶解させて除去する第５の工程と、前記コンタクトホールにおいて前記配線部の一部に電気的に接続するように画素電極を形成し、前記画素電極の上方に有機発光層を形成し、前記有機発光層の上方に対向電極を形成する第６の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】電子注入層の形成に際し、ウェットプロセスを用いることで製造に際しての煩雑さを回避しながら、輝度ムラの発生が抑制された有機ＥＬデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイス１の製造では、基板１０上に、アノード１１、ホール注入層１２、ホール輸送層１３、有機発光層１４、電子注入層１５、およびカソード１６を、順に積層する。ここで、電子注入層１５の形成は、ＴｉＯ_ＸゾルまたはＴｉＯ_Ｘゲルと、炭酸セシウムとの混合溶液を、有機発光層１４上に塗布し、大気雰囲気下でベークした後、さらに、窒素雰囲気下でベークすることにより行われる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、新規の構成を有する画素回路を用いることにより、従来
の構成の画素よりも高い開口率を実現することを目的とする。
【解決手段】ｉ行目を除くゲート信号線の電位は、ｉ行目のゲート信号線１０６が選択さ
れている以外の期間においては定電位となっていることを利用し、ｉ−１行目のゲート信
号線１１１をｉ行目のゲート信号線１０６によって制御されるＥＬ素子１０３への電流供
給線として兼用することで配線数を減らし、高開口率を実現する。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、発光寿命に優れ、発光色の経時変化が少ない有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにあり、好ましくはウエット成膜で形成された有機ＥＬ素子であって、駆動電圧が低く、ダークスポットが低減され、発光の輝度ムラの発生が抑制された有機ＥＬ素子および照明装置を提供する。
【解決手段】陽極と、陰極と、発光層を有する単層または複数層からなる有機層とを有し、有機層が陽極と陰極との間に挟持された有機エレクトロルミネッセンス素子において、有機層の少なくとも１層には、特定の一般構造式で表されるフェニルイミダゾール系化合物の少なくとも1種を配位子とするリン光発光性の有機金属錯体が含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）