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Fターム[4D002GB05]の内容

廃ガス処理 (43,622) | 操作条件の限定、検出、制御の対象因子 (3,450) | 処理剤流量 (380)

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【課題】 排ガス処理において、水銀除去効率を高く維持しつつ、腐食性の高い水銀ハロゲン化剤の添加量を低減させる。
【解決手段】 NOx、SOx及び水銀を含むボイラ燃焼排ガスに水銀ハロゲン化剤40及びアンモニア30を加えて、CO、HC酸化触媒50に接触させ、その後固体触媒の存在下で還元脱硝60するとともに金属水銀をハロゲン化水銀に酸化し、次いでアルカリ吸収液により湿式脱硫100するとともにハロゲン化水銀を除去する。 (もっと読む)


【課題】吸収量及び吸収効率を高め、また、脱臭効果の持続性を改善することができる気体浄化装置を提供する。
【解決手段】気体中のガス成分を溶解する性質を備える液体と、前記液体に対して疎の性質を備える多孔質膜を備え、前記多孔質膜を介して気体と液体とを接触させ、前記気体中のガス成分のみを多孔質膜を通して液体中に溶解させることによって気体浄化を行う気体浄化部と、前記気体中の液体濃度により液体蒸発の拡散を制御することで、前記液体の気体中への気化を制御する気化制御部とを備える。 (もっと読む)


ガススパージャ(30)は、スラリ(S)を用いてプロセスガスから二酸化硫黄を除去する湿式スクラバのタンク(18)に酸素を含有する酸化ガスを供給する。ガススパージャ(30)は、少なくとも、酸化ガス供給ダクト(32)の内部に位置し第1の酸化ガス供給ノズル(44)に向けて水を含有する液体を噴射する第1の液体供給ノズル(38)を備える。酸化ガス供給ダクト(32)は、第1の酸化ガス供給ノズル(44)における、直径(D)などの特徴的断面寸法を有する。第1の液体供給ノズル(38)は、前記第1の酸化ガス供給ノズル(44)から最大で前記特徴的断面寸法(D)の5倍の距離(L1)に位置する。
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【課題】空気中のVOC等の汚染物質を少ないスペースでも簡単に除去することができる小型の清浄化装置及びこの装置を用いた清浄化方法を提供する。
【解決手段】空気導入口(a)と、汚染物質を含む空気に水性薬剤を噴霧するためのノズル(b)と、デミスター(c)と、回収口(d)とを備えるチャンバー(A)と、薬剤槽(B)と、前記水性薬剤をノズル(b)に供給するためのポンプ(C)と、前記汚染物質を含む空気をチャンバー(A)に供給するためのブロワ(D)とを配置し、空気導入口(a)の設置面以外の少なくとも2つの面に、前記水性薬剤を円錐状に噴霧することが可能なノズル(b)をそれぞれ1個以上設置すること、及び前記デミスター(c)を空気導入口(a)及びノズル(b)を設置した面以外の面に設置した空気清浄化装置及びこれを用いた空気の清浄化方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 発酵処理による生ゴミ処理装置において生ゴミ処理により発生する排ガス中の悪臭を効率よく除去できる処理装置を提供する。
【解決手段】 発酵室1において生ゴミTを発酵処理する過程で生じる悪臭成分を有する排気ガスG1を脱臭・冷却槽9に導き、ここで微粒子ノズル18から噴射される循環水の超微粒子により排気ガスG1中の悪臭成分を吸着除去すると共に、排気ガスG1中の水蒸気の凝結に基づく潜熱放出による排気ガスG1の温度再上昇によって再度悪臭成分が気化しないよう超微粒子の噴出量を調整して、この脱臭・冷却槽9で悪臭成分の殆ど全てを除去する。一次処理ガスG2として脱臭・冷却槽9を出た排気ガスは冷却・気液分離槽13において含有水分を除去され、補助脱臭装置14により残留する悪臭成分が除去された後、最終処理ガスG3とし大気放出される。 (もっと読む)


【課題】 吸着材に吸着された水分の影響による放電の不均一性を防ぎ、分解性能を低下させることのない放電電極と、これを用いた空気浄化装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 放電電極1は、管状の接地電極2の管内に管状の高圧電極3が所定の間隙をおいて同心状に配置され、さらに、高圧電極3側には管状の誘電体4が高圧電極3を覆うように設置されており、接地電極2および高圧電極3の両端面は絶縁板5で遮蔽され、また、接地電極2と高圧電極3および絶縁板5で形成される空隙に吸着材6が充填され、接地電極2の側面には被処理ガスの導入口7が設けられ、ガス分散器8が取り付けられており、導入口7の反対面には被処理ガスの排出口9が設けられている。これにより、安定した放電を実現し、効率よく揮発性有機化合物を処理することができる。 (もっと読む)


【課題】チャンバを形成する筒状壁が高温腐食する現象や、熱分解時に生成された粉体が上記筒状壁の内面に付着堆積する現象などを好適に抑制することが可能な排ガス処理方法、を提供する。
【解決手段】周囲が筒状壁3によって囲まれている排ガス処理用のチャンバ1内に排ガスを導入し、この排ガスを加熱して分解する熱分解工程を有している排ガス処理方法であって、上記熱分解工程時において、チャンバ1内にバリア形成用の気体を導入させて筒状壁3の内面に沿わせて流れさせることにより、筒状壁3の内面を上記気体の流れによって覆う。 (もっと読む)


【課題】各設備におけるアンモニアガスの消費活動に応じてアンモニア気化器の動作や状態を自動的に且つ適切に制御することができる燃焼システムを提供する。
【解決手段】蒸気と排ガスとを供給する燃焼系統とアンモニアガスを消費する消費設備40との間に設けられて、液化アンモニアを燃焼系統の蒸気によって気化させることでアンモニアガスを生成するアンモニア気化器22と、アンモニア気化器22で生成したアンモニアガスを消費設備40に供給するアンモニア供給手段33及び34と、アンモニア供給手段33及び34から消費設備40に対するアンモニアガスの供給を制御すると共に、燃焼系統に対する指令の発生又はアンモニア気化器22の圧力状態に応じて、所定のタイミングでアンモニア気化器22に対する温度状態を制御する制御手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】還元剤が有効利用されるようにする。
【解決手段】排気通路に配設された触媒担体20Aに、還元剤としてのアンモニアAの供給を受けてNOxを還元する活性成分Bが担持された第1の基材20Bと、排気温度が触媒活性温度未満ではアンモニアAを吸着する一方、排気温度が触媒活性温度以上ではアンモニアAを離脱する特性を持った第2の基材20Cと、ここからアンモニアAが離脱することを抑制する特性を持ったγ−アルミナなどの第3の基材20Dと、を塗布する。第1の基材20B,第2の基材20C及び第3の基材20Dは、触媒担体20Aに略均等に分散するように塗布すればよい。また、第2の基材20C,第3の基材20D及び第1の基材20Aの順番で層状態をなすように塗布してもよいし、第1の基材20B及び第2の基材20Cの機能を兼備した基材を塗布するようにしてもよい。 (もっと読む)


【課題】廃棄物焼却装置からの排ガスを、循環流動床内での吸着法により浄化するための方法であって、吸着剤の使用量が最適化されるとともに、高い動作信頼性が確保される方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る排ガスを浄化するための方法及び排ガス浄化システム(2)では、供給される未反応吸着剤の質量流量が、再循環される固体物質中の未反応吸着剤の濃度及び/又は少なくとも1つの吸着された汚染物質の濃度の関数として制御される。 (もっと読む)


【課題】窒素を作動ガスとして使用する大気圧プラズマを用いて、窒素酸化物を副生することなく処理対象ガスを熱分解することのできるガス処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧プラズマPおよび大気圧プラズマPに向けて供給される処理対象ガスFを囲繞し、その内部にて処理対象ガスFの熱分解を行う反応器22を有し、窒素ガスを作動ガスGとして使用するプラズマ分解機12に対して、プラズマ分解機12から排出された処理対象ガスFと作動ガスGとを含む排ガスRに酸素および水分が混入しない状態で、排ガスRを少なくとも窒素酸化物が生成しない温度まで冷却する冷却部13を設けることにより、上記課題を解決したガス処理装置10とすることができる。 (もっと読む)


【課題】二酸化窒素および二酸化硫黄の除去率を向上させて、運転コストの増加を抑制した排ガス処理装置を提供することにある。
【解決手段】排ガス11中の二酸化窒素および二酸化硫黄を処理する排ガス処理装置10であって、排ガス11が流通する筐体12と、この筐体12内に配置され、前記二酸化窒素および二酸化硫黄を吸収除去する吸収成分を含有する基材13と、排ガス11に水分である水16を噴霧する噴霧ノズル14とを具備し、この噴霧ノズル14をガスの流通方向において基材13よりも上流側に配置させて、基材13の表面に水滴を生じさせ、前記水滴を介して前記吸収成分と前記二酸化窒素および二酸化硫黄とを反応させて除去するようにした。 (もっと読む)


【課題】 吸収剤スラリと排煙とを接触させて排煙中の硫黄酸化物を吸収除去する排煙脱硫装置において、吸収剤スラリ濃度が上昇した場合に、迅速かつ効率よく吸収塔における吸収剤スラリ濃度を適正値の範囲内に戻す。
【解決手段】 吸収塔(70,80)における運転基準値が所定の範囲を超えた場合に、排煙脱硫装置(気液接触装置10)に取り入れる排煙(A)からの煤塵除去量を自動調節する工程と、吸収剤スラリ循環量を自動調節する(循環ポンプ74の動翼開度を自動制御する)工程と、吸収塔へ供給する酸化空気流量を自動調節する(空気供給手段61を自動制御する)工程と、吸収塔へ供給する吸収剤スラリ流量を減少させる(スラリポンプ50の流量を減少させる)工程と、脱水機30(ベルトフィルタ)へ供給する吸収剤スラリ流量を増加させる(抜出ポンプ20の流量を増加させる)工程とを実施する。 (もっと読む)


【課題】 吸収剤スラリと排煙とを接触させて排煙中の硫黄酸化物を吸収除去する排煙脱硫装置において失活状態が発生した場合に、迅速かつ効率よく硫黄酸化物の吸収速度を復活させる。
【解決手段】 吸収塔(70,80)における運転基準値が所定の範囲を超えた場合に、排煙脱硫装置(気液接触装置10)に取り入れる排煙(A)からの煤塵除去量を増加させる工程と、吸収剤スラリ循環量を増加させる(循環ポンプ74の動翼開度を増加させる)工程と、吸収塔へ供給する酸化空気流量を減少させる(空気供給手段61による酸化空気流量を減少させる)工程と、吸収塔へ供給する吸収剤スラリ流量を減少させる(スラリポンプ50の流量を減少させる)工程と、脱水機30(ベルトフィルタ)へ供給する吸収剤スラリ流量を増加させる(抜出ポンプ20の流量を増加させる)工程とを実施する。 (もっと読む)


【課題】 吸収剤スラリと排煙とを接触させて排煙中の硫黄酸化物を吸収除去する排煙脱硫装置において、亜硫酸カルシウム濃度が上昇して硫酸カルシウムの生成能力が低下した場合に、迅速かつ効率よく硫酸カルシウムの生成能力を復活させる。
【解決手段】 吸収塔(70,80)における運転基準値が所定の範囲を超えた場合に、排煙脱硫装置(気液接触装置10)に取り入れる排煙(A)からの煤塵除去量を自動調節する工程と、吸収剤スラリ循環量を増加(循環ポンプ74の動翼開度を増加)させる工程と、吸収塔へ供給する酸化空気流量を増加(空気供給手段61による酸化空気流量を増加)させる工程と、吸収塔へ供給する吸収剤スラリ流量を減少(スラリポンプ50の流量を減少)させる工程と、脱水機30(ベルトフィルタ)へ供給する吸収剤スラリ流量を増加(抜出ポンプ20の流量を増加)させる工程とを実施する。 (もっと読む)


【課題】銅製錬排ガスのように、亜硫酸及び酸素濃度が変動するガスを原料として、重亜硫酸ソーダ液を製造する工程において、吸収塔内で循環する吸収液の循環流量を制御し、不純物である硫酸ソーダの濃度を低減させる重亜硫酸ソーダ液の製造方法を提供する。
【解決手段】亜硫酸及び酸素の濃度が変動する原料ガス(1)を原料とし、吸収塔(2)の内部で原料ガス(1)の亜硫酸ガスと苛性ソーダ(3)とを接触反応させて吸収液(4)とし、重亜硫酸ソーダ液(17)を製造する工程において、原料ガス(1)中の酸素濃度を連続的に測定し、酸素濃度が9.0%〜16.0%の範囲で変動する場合に応じて、吸収塔(2)内の吸収液(4)を250L/分〜400L/分の循環流量に自動調整することを特徴とする。 (もっと読む)


流動式接触分解プロセス再生器由来の排出物からの微粒子および酸性ガスの除去。排出物は、有効量の苛性物質溶液並びにアンモニアの両方を用いて2つの接触段の中で処理され、2つの段の中での接触溶液の組成は独立して制御される。 (もっと読む)


【課題】バイオガスが高濃度の硫化水素を含む場合、新たにアルカリ度成分を添加することなく、通常の水処理施設などの処理水(例えばpHが7.5程度)を用いて硫化水素を吸収して硫黄酸化細菌により酸化して生物脱硫する脱硫方法を提供すること。
【解決手段】硫黄酸化細菌を担持する充填材を積層した気液接触塔に硫化水素類含有ガスと該充填材表面を洗浄する洗浄溶液とを気液接触させて生物脱硫を行う脱硫方法おいて、
下記条件(1)及び(2)を満足するように、洗浄溶液を連続供給することを特徴とする生物脱硫方法。
条件(1)L/G≧10
但し、Gは前記硫化水素含有ガスの流量(m/分)であり、Lは前記洗浄溶液の流量(リットル/分)である。
条件(2)充填材積層部分のみかけの体積に対して硫化水素類含有ガスの計算上の滞留時間が3分以上 (もっと読む)


【課題】NH3などの還元剤注入ノズル部分での還元剤希釈用の空気流量を安全域内に確保できる還元剤注入分布調整機能付脱硝装置を提供すること。
【解決手段】NH3分散自動制御を行う際、分散調整弁の制御に対して希釈用空気量が規定の流量以上確保されているかどうかによって、(1)もし希釈用空気量が規定流量以上の場合には脱硝装置出口側ダクト7のNOx濃度測定区分の内の最も低いNOx濃度区分に対応する分散調整弁を選択して制御モードに入れ、(2)もし希釈用空気量が規定流量以下の場合にはダクト7のNOx濃度測定区分の内最も高いNOx濃度部分に対応する分散調整弁を選択して制御モードに入れ、(3)上記分散調整弁の開閉制御を行ない、当該制御区分の出口NOx濃度値と出口NOx濃度の全区分の平均値との偏差が許容値以下となるまで制御を行い、(4)前記(3)の偏差が許容値以下となった段階で再び(1)と(2)の制御に移行し継続して行う。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置等のガス使用設備から排出される排ガス中のハロゲン含有化合物などの被除去化合物をプラズマ処理などの処理によって除去する際に、排ガス中に含まれる被除去化合物の種類、濃度などが変動しても、排ガス中に含まれるハロゲン含有化合物などの被除去化合物を完全に除去できるようにする。
【解決手段】ガス使用設備1にガス供給装置2から供給されるガスの種類、流量および供給時間が入力され、これらパラメータに基づいて、排ガスに添加する添加ガスの種類、流量および添加時間とプラズマ処理における印加電力とを算出する演算処理部35と、この演算処理部35からの指示信号に基づいて前記添加ガスの種類、流量および添加時間を制御して添加する添加ガス供給部33と、前記演算処理部35からの指示信号に基づいて印加電力を制御して印加する電源部343を備えた排ガスの処理装置。 (もっと読む)


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