【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】溶融性に優れ、尚且つホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２ ７５〜８５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％の組成を含有し、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜１０％であり、β‐ＯＨ値が０．３〜０．９／ｍｍであることを特徴とする。また、本発明の電子レンジ用耐熱ガラスは、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／β‐ＯＨの値が４〜２０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】Ｔｚｃに対する許容値、ＣＴＥ対温度の傾き、およびＴｚｃの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ２５ｎｍ未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ２００μｍ以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、ＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下であり、塩素の含有量が３０ｐｐｍ以下で、厚さ２ｍｍの波長１９０ｎｍでの透過率が５０％以下であり、１２８０℃での粘度（Ｌｏｇη）が１２．０poise以上であり、低圧水銀ランプの２５４ｎｍの紫外線を照射した場合に４００ｎｍ〜６５０ｎｍの可視光領域に０．０１秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有し、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、１８００℃以上に加熱するようにした。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦリソグラフィ用ミラーに適した特性を有する光学部材、および、該光学部材を用いたＡｒＦリソグラフィ用ミラーの提供。
【解決手段】光学面が下記（１）〜（５）を満たし、２２℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）が０±２００ｐｐｂ／℃であるＡｒＦリソグラフィ用光学部材。
１ｍｍ≦λ（空間波長）≦１０ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （１）
１０μｍ≦λ（空間波長）≦１ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （２）
２５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦１０μｍにおけるＲＭＳが０．０５ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （３）
１００ｎｍ≦λ（空間波長）≦１μｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （４）
５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦２５０ｎｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （５） （もっと読む）

【課題】 プラスチックパッケージに適合する熱膨張係数を有し、また画像検査で異物や塵等の有無を正確に検知することができ、またα線放出量が常に少ない半導体パッケージ用カバーガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ 〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １．１〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１１％、アルカリ土類金属酸化物 ０〜２０％含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が９０〜１８０×１０^−７／℃、ヤング率が６８ＧＰa以上、ガラスからのα線放出量が、０．０５ｃ／ｃｍ^２・ｈｒ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル（Ａ）に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル（Ｂ）に供給し、さらにノズル（Ａ）、（Ｂ）とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル（Ａ）以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの５０％以上９０％以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６１〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを６〜１８％、Ｎａ_２Ｏを２〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜２．５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが１５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３５〜０．８、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が０〜９％であるディスプレイ装置用ガラス。 （もっと読む）

【課題】多孔質ガラス体へのフッ素の導入を４００℃以下の低温で実施ができ、かつ安定して、最終的に得られる合成石英ガラスのフッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、反応槽内にて、圧力Ｐ_ｂ１および温度４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持し、ついで、同反応槽内にて、前記圧力Ｐ_ｂ１よりも低い圧力Ｐ_ｂ２および温度４００℃以下の条件下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有する合成石英ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である合成シリカガラス体５０の歪除去及び純化を行う熱処理方法であって、前記被処理物の外表面の全てをＡｌ濃度１０ｐｐｍ〜３０ｐｐｍ、且つＮａ濃度５０ｐｐｂ未満のＳｉＯ_２質粉体２０によって接触状態で被覆し、９００℃〜１３００℃の温度範囲で３０分〜８００時間の熱処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子の視感度補正用近赤外線カットフィルタガラスにおいて、特に近紫外線吸収特性をもつガラスを提供することを目的とする。また、近赤外線カットフィルタガラスを固体撮像素子の保護用カバーガラスとして用いることが可能であり、特にプラスチック製パッケージとの接合に好適である近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】Ｕの含有量が６〜２０ｐｐｂである近赤外線カットフィルタガラスである。また、α線放出量が０．００２〜０．０２ｃ／ｃｍ^２・ｈ、かつ波長５５０〜７５０ｎｍの分光透過率において５０％の透過率を示す波長が６１５ｎｍとなるように換算した場合に、波長３１５ｎｍにおける透過率が０．３％未満である近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】特に歯科用ガラスとして及び光学ガラスとして適し、比較的低い屈折率ｎ_ｄを有するジルコニウム含有でＢａＯ−フリー及びＰｂＯ−フリーのＸ線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】ＢａＯ−フリー及びＰｂＯ−フリーのＸ線不透過性ガラスは、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ−ＲＯ−Ｌａ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２系であり、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２ ４８〜５６％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜８％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．５〜４％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １〜４％、Ｋ_２Ｏ ２〜７％、Ｃｓ_２Ｏ １０〜１６％、ＣａＯ ５〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ ０．５〜１３％、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜１２％、ＳｎＯ_２ ０〜４％、Σアルカリ金属酸化物 １６〜２１％、Ｃｓ_２Ｏ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２ ≧１９％を含有し、１．５４〜１．５８の屈折率ｎ_ｄ及び少なくとも５００％のアルミニウム等価厚を有する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ実施時において、光学部材全体の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＥＵＶＬ光学部材用基材の提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスからなり、対向する２つの面における、線熱膨張係数（ＣＴＥ）が０ｐｐｂ／℃となる温度（クロスオーバー温度：Ｃｒｏｓｓ−ｏｖｅｒ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ＣＯＴ）の差が５℃以上である、ＥＵＶリソグラフィ光学部材用基材。 （もっと読む）

【課題】９００℃，１００時間の熱処理によるＯＨ基濃度の減少量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】火炎加水分解により合成微粒子を回転するターゲット上に堆積すると同時に溶融ガラス化してチタニアドープ石英ガラスを製造する方法において、バーナーの中心管に供給される酸素ガスがケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスの和のモル比で５以上であること、水素ガスがバーナーの一又は複数の水素ガス供給管から噴射されるに際しての線速がそれぞれ１００ｍ／ｓｅｃ以下であること、各ガスの供給流量の変動を±１％以内に制御すると共に、炉内に吸入する空気、炉からの排気及び炉周囲の外気の各々の温度の変動を±２．５℃以内に制御して、上記ターゲットを５ｒｐｍ以上の回転数で回転させ、上記微粒子をターゲット上に付着させるようにした製造条件による。 （もっと読む）

【課題】環境汚染物質である鉛を含有しなくとも、Ｘ線が照射された後にも光の伝送に好ましく用いることができ、且つ高い屈折率を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＳｉＯ_２成分を１．０％以上６０．０％以下含有し、Ｌａ_２Ｏ_３成分、ＺｒＯ_２成分、ＴｉＯ_２成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分及びＴａ_２Ｏ_５からなる群より選択される１種以上を必須成分として含有し、１．５０以上の屈折率（ｎ_ｄ）を有し、線量２．５ＧｙのＸ線を照射した後のガラスにキセノンランプの光を１１時間照射したときの光量回復率が４５％以上である。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラスに対してＵＶレーザ光やＵＶ光の長期照射に対する耐性を備えるのに必要な水素を効率的に含浸させ、ガラス内の水素濃度分布の平準化を図る。
【解決手段】合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第１温度で加熱する第１加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第１温度以上の第２温度で加熱する第２加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第２温度以下の第３温度で加熱する第３加熱工程と、を有する。 （もっと読む）

一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）