Fターム[4G146BC47]の内容
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Fターム[4G146BC47]に分類される特許
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一次元炭素ナノ構造体の製造方法
炭素ナノ構造体を製造する方法を提供する。蒸着マスクを備える基質上に、有機金属層を蒸着する。マスクを除去すると、有機金属前駆体のマスク上に蒸着した部分も除去される。有機金属層の残った部分を酸化し、炭素ナノ構造体の合成に用いることのできる金属成長触媒を基質上に得る。
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