Fターム[4G146MB01]の内容
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Fターム[4G146MB01]に分類される特許
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炭化ケイ素−炭素複合材の製造方法
【課題】新規な炭化ケイ素−炭素複合材の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化ケイ素が表面に付着した炭素質材料2を含む成形体を焼成することにより炭化ケイ素−炭素複合材1を製造する。
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セラミックススプリング、及びその製造方法
【課題】直線状のスプリング軸を有しており、弾力性および機械強度に優れたセラミックススプリング、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】スプリング外径が0.01μm〜100μm、スプリングピッチが0.01μm〜10μm、スプリング長が1.0×10−5mm〜20mm、スプリング軸が直線状である螺旋形状を有し、かつ、破断強度が80MPa以上である一重又は二重のセラミックススプリングである。
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コアシェル構造型炭化ケイ素ナノワイヤー及びその製造方法
【課題】簡易な合成方法・装置で、安全な物質を原料とし、且つ大量生産が可能な方法により、優れた特性を有する炭化ケイ素ナノワイヤーを提供する。
【解決手段】原料粉末の構成物質に少なくともSiまたはOを含み、原料粉末を不活性ガス及び少なくともCまたはHを含むガス気流中で熱処理を行うことを特徴とし、コア部の構成物質が炭化ケイ素であり、コア部を被覆するシェル部の構成物質が少なくともSiまたはOを含むことを特徴とするコアシェル構造型炭化ケイ素ナノワイヤー及びその製造方法
【効果】本発明により、簡易な合成方法・装置で、安全な物質を原料とし、且つ大量生産が可能な方法で、耐酸化性の向上あるいは新たな機能の付与が可能なコアシェル構造型炭化ケイ素ナノワイヤーを提供することができる。
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炭化ケイ素ナノ構造体およびその製造方法
【課題】電子放出特性の向上や摩擦特性の向上に有効な尖頭状の形態を有する炭化ケイ素ナノ構造体、およびその炭化ケイ素ナノ構造体を低温で簡素なプロセスで製造できる方法の提供。
【解決手段】Si基板の表面に尖頭状の炭化ケイ素集合体が突出して点在している炭化ケイ素ナノ構造体、および圧力1〜70Pa、0.5〜3kWのマイクロ波出力、基板温度350〜600℃のSi基板を用いるマイクロ波プラズマCVD法による炭化ケイ素ナノ構造体の製造方法。
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カーボサーミック法
1400℃超に過熱された溶融アルミニウム中に炭素及びアルミナを注入することによって炭化アルミニウム含有塊を生成するためのカーボサーミック法。炭素が溶融アルミニウムと反応して炭化アルミニウム・アルミナ塊を生成する。この塊を1700℃〜2000℃の範囲に加熱してアルミニウム金属及び一酸化炭素を生成することができる。
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