説明

Fターム[5E346DD23]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 各層形成の方法 (10,210) | 導体層形成の方法 (4,026) | メッキ (1,757) | 無電解メッキ (322)

Fターム[5E346DD23]に分類される特許

321 - 322 / 322


【課題】 層間接続に用いるバイアホールの孔径をより小さく(約100μm以下)することにより、水平方向の高密度化を図り、且つ、電気的な接続信頼性の高い多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】 第1の回路を形成した内層基板の回路表面に絶縁層を設け、該絶縁層の表面に第2の回路を形成し、前記第1の回路と第2の回路とをバイアホールにて接続した多層プリント配線板において、前記バイアホールの形状を、第1の回路側から第2の回路側へ移動するにつれて、バイアホールの孔径が大きくなるすり鉢形となし、且つ、バイアホールの壁面と第1の回路を形成した面との角度が45度以下となるようにする。 (もっと読む)


【課題】 研磨などの歩留りを低下させる工程を用いることなく、多層配線構造の充填層と配線層との接続の信頼性を向上させる。
【解決手段】 下部配線層103a上に自己整合的にメッキ膜107を形成する。このメッキ膜107は、電界メッキ法によりCu膜をメッキすることで形成する。このメッキ膜107の形成により、下部配線層103aの開口部104はそのメッキ膜107により埋め込まれる。そして、下部配線層103aと充填層106とが、開口部104に埋め込まれたメッキ膜107により接続する。 (もっと読む)


321 - 322 / 322