【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバＬＬとプロセスチャンバＰＣの間で移送されるキャリア７と、プロセスチャンバＰＣ内に移送されたキャリア７から基板７を受け取るフック１９を備えており、基板５への真空処理はキャリア７がロードロックチャンバＬＬに退避した後に行われる。 （もっと読む）

【課題】ウェハ同士の貼り付きを防止し、移送中の揺れによるウェハへのダメージを軽減するウェハカセットを得ること。
【解決手段】対向する一対の側面１ａの双方の内壁に、底面に対して傾きを有するように形成された複数の保持溝１１を備え、複数の保持溝１１の各々に、複数のウェハＷの各々を傾いた状態で収容する。ウェハカセットは、保持溝１１同士の間に設けられた複数のリブ１ｂを備え、複数のウェハＷの各々を複数のリブ１ｂの各々にもたれ掛かった状態で保持する。 （もっと読む）

【課題】各種電子装置の製造で、基板に対して加熱処理や成膜処理等の表面処理を施す真空処理装置の基板の搬送方法であって、基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることが可能な基板の搬送方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置の設置面に対して水平の位置にある第一のトレイに基板を搭載し保持するステップと、基板を保持した第一のトレイを設置面に対して鉛直方向に傾いた第二のトレイに装着するステップと、第一のトレイが装着された第二のトレイを、基板処理装置が有する減圧したチャンバー内に搬送機構により搬送するステップと、を有することを特徴とする基板の搬送方法である。 （もっと読む）

【課題】 基板製造装置の仕様、ユーザ、各国の使用状況等に関わらず、適切に使用することのできる保持フレーム用収納カセットを提供する。
【解決手段】 中空部に収容した半導体ウェーハを粘着保持層で粘着保持する保持フレームを収納し、半導体製造装置に位置決めして搭載される保持フレーム用収納カセット２０であり、保持フレーム用収納空間を介して相対向する両側壁２１と、両側壁２１の上部間に架設される天板３３とを備え、両側壁２１の内面に、保持フレーム１の周縁側部を支持する支持溝をそれぞれ形成して各側壁２１の支持溝を上下方向に所定の間隔で配列し、支持溝に、保持フレーム用のがたつき防止片を形成する。そして、両側壁２１の下部に、前後方向に伸びる支持レール２６をそれぞれ取り付け、この一対の支持レール２６の間には架設部材４０として一対の架設板４１を着脱自在に螺着して架設する。 （もっと読む）

【課題】基板のセット時や搬送時の衝撃により被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できる基板ホルダー及び基板搬送装置を提供する。
【解決手段】被処理基板を支持するホルダー本体が、被処理基板Ｓの被処理面を露出させる第１開口２１２を有し、被処理基板Ｓの被処理面側の外周部に当接するマスク部材２１と、第１開口よりも広い第２開口１１３を有し、マスク部材の外周部に当接して被処理基板の被処理面を第１開口を介して第２開口から露出させた状態でマスク部材を支持して被処理基板を支持する支持部材１１と、支持部材とマスク部材とが当接する領域に設けられた衝撃吸収性を有する緩衝材１２とを備える。基板搬送装置はこれを有する。 （もっと読む）

【課題】大口径のウェーハ等の薄板であっても、自重の影響を受けることなく、ロボット装置等によって支障なく薄板収納容器から取り出すことができるようにする。
【解決手段】薄板収納容器において、薄板を収容する空間Ｓに向けて突出するように設けられて薄板を支持する薄板支持部１２を複数個備える。さらに、その複数個の薄板支持部１２を、水平方向に並べて設けるとともに、垂直方向からその並び方向に向かって所定の角度αだけ傾斜するように設けて、垂直方向に対して傾斜させた状態で薄板を支持する。 （もっと読む）

【課題】基板の横ぶれや位置ずれを抑制してクランプハンドのハンドリングの円滑化を図ることができ、しかも、基板の取り出し作業の作業性を向上させることのできる基板収納容器及び基板の取り出し方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ１を収納する容器本体１０を正面が開口したフロントオープンボックスタイプに形成してその内部下方には半導体ウェーハ１の周縁部２下方を縦に支持する下部支持ブロック１６を設け、容器本体１０の内部上方には、半導体ウェーハ１の周縁部２上方に隙間を介して左右横方向から対向する上部規制板２１を設けるとともに、容器本体１０の内部後方には、半導体ウェーハ１の周縁部２後方を縦に支持する後部支持ブロック２４を設ける。容器本体１０を左右方向に傾斜させた場合に上部規制板２１に傾斜した半導体ウェーハ１の周縁部２上方を支持させる。 （もっと読む）

【課題】基板の傾きを一方向に揃えることができ、移載トラブルを低減できるようにした支持部材、半導体製造装置及び基板の支持方法を提供する。
【解決手段】基材１と、基材１の上面に形成された溝部３とを備え、ウエーハＷを溝部３に挟んだ状態で支持するプッシャー１０であって、溝部３の底面６は、当該底面６と接触したウエーハＷの縁端Ｗ１を溝部３の側面４の側へ片寄せする形状を有する。例えば、溝部３の底面６は、側面５から側面４に向かって下がる斜面となっている。このような構成であれば、ウエーハＷの縁端Ｗ１を底面６に沿って滑らせて側面４の側へ片寄せすることができ、ウエーハＷの傾きを一方向に揃えることができる。 （もっと読む）

【課題】研磨後にウェーハを水没させて搬送する工程において、ウェーハの表面にウォータマークが形成されたり傷がついたりすることのないようなウェーハ収納装置を提供する。
【解決手段】先ず、水槽５の水面より上部に置かれたカセット４を水平にして、研磨後のウェーハ３を一枚ずつカセット４に収納する。次に、全てのウェーハ３がカセット４に収納されたら、傾斜手段８によってカセット４を１°〜２０°の範囲で傾斜させながら、カセット昇降機構７によって、カセット４を水槽５の内部の水中へウェーハ１枚分の間隔で沈める。セット４を水槽５から引き上げるときも、傾斜手段８によってカセット４を傾斜させながら引き上げる。これによって、ウェーハ３が浮き上がることなく、且つ上部のウェーハ３の水滴が下部のウェーハ３にたれることがなくなるので、ウェーハ３が傷ついたりウォータマークが形成されたりするおそれはない。 （もっと読む）

【課題】工場の設置スペースを削減可能な薄膜太陽電池製造システムを提供する。
【解決手段】薄膜太陽電池製造システムは、第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２と複数の処理装置１〜１６−２とを具備する。第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２は、基板を傾けて保管する。複数の処理装置１〜１６−２は、薄膜太陽電池の製造工程で基板の処理に使用され、第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２との間の領域に、基板の搬出部及び搬入部のいずれか一方が第１共通基板保管ラック４０−１に面し、他方が第２共通基板保管ラック４０−２に面するように配置されている。第１共通基板保管ラック４０−１及び第２共通基板保管ラック４０−２は、複数の処理装置１〜１６−２に共用される。 （もっと読む）

ソーラーウエハ（２）のマウントディバイスであって、細長いウエブ（３）を有する少なくとも１つの櫛状ホルダ（１）を有し、細長いウエブ（３）の長手方向に延びる部分に沿って等間隔に配置された複数の櫛歯要素（４）が備えられており、互いに向き合う隣接する２つの櫛歯要素（４）の間に、少なくとも１つの凹部（５または６）が形成されており、凹部は、ソーラーウエハ（２）を挿入する接触表面（７）及びガイド表面（８）からなる。マウントディバイスにソーラーウエハを確実に保持且つマウントするために、少なくとも１つの櫛状ホルダ（１）の細長いウエブ（３）の隣接する２つの櫛歯要素（４）の間に、マウント・ギャップ（９）が備えられている。マウント・ギャップの輪郭は、互いにズレた２つの凹部（５または６）による任意の間隔（ｂ_H）と、櫛歯要素（４）の総奥行き（ｔ_ges）よりも短い奥行き（ｔ₁）または奥行き（ｔ₂）を有する接触表面（７）及びガイド表面（８）からなり、奥行き（ｔ₁）及び奥行き（ｔ₂）は、合わせて櫛歯要素（４）の個々の総奥行き（ｔ_ges）を形成し、輪郭（ｕ_A1またはｕ_A2）は、マウント・ギャップ（９）の輪郭（ｕ_S）の接触表面（７）を含む平面（１３）に対して鋭角（α）をもって傾斜して延びる平面（１２）内に位置するウエブ寄りに傾斜表面（１１）を有する溝部（１０）を有し、ソーラーウエハ（２）の下端縁（２１）が、輪郭（ｕ_A1またはｕ_A2）に含まれる溝部（１０）の傾斜表面（１１）と接触するまで、重力によって滑って予め決められた位置に移動する。この位置において、マウント・ギャップ（９）の輪郭（ｕ_S）に含まれる接触表面（７）の垂線を中心にして櫛状ホルダ（１）を予め決められた鋭角（φ）回転させている間、接触表面（７）と平面接触するように、ソーラーウエハ（２）の表面（１３）が接触表面（７）と向かい合わされている。このとき、ソーラーウエハ（２）の接触表面（７）から離れた側の表面（２２）と、接触表面（７）と平行に延びるマウント・ギャップ（９）の輪郭（ｕ_S）に含まれるガイド表面（８）との間には公差（１４）が同じ位置に形成される。 （もっと読む）

囲い部及びドアを含むフロントオープンウエハ収納容器。一対の間隔があけられた片持ちウエハ棚を含むウエハ支持システムが備えられており、各ウエハ棚は一対の対向傾斜ランプ部を含む。ランプ部は、ウエハが棚に受入れられた時に、ウエハがその下側外縁角部においてランプ上で支持されるように協働的に位置決めされると共に構成され、ウエハの他の全ての部分は、ウエハ支持システムと接触していない。各ウエハ棚は概ね凹状の上面を有してよく、またランプの傾斜は、ウエハ棚の凹状上面と連続する。
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【課題】 基板のエッチング工程、特に住宅用量産型太陽電池セルのシリコン基板のエッチングに関し、一面にテクスチャ形状、他面に平坦形状を形成するエッチング工程の簡略化を図る。
【解決手段】 一般に基板の表面処理は、基板の表・裏均等に行われるが、太陽電池セルの特性面からは、表面がテクスチャ形状、裏面が平坦な形状が望ましい。半導体基板を表面処理する際には発熱反応が起き、また表面処理時の反応速度が温度上昇により速くなり、反応の進捗により表面形状が変化する。本発明のキャリアホルダーによれば、表面処理時に半導体基板の片面に近接物を設けることにより、近接物がある面では反応熱が滞留し、他面では反応熱がエッチング液の対流により奪われるため、半導体基板の一面と他面の間に温度差が発生し、一面がテクスチャ形状で、他面が比較的平坦な形状の半導体基板を１回の処理で容易に形成でき、エッチングプロセスの簡略化が可能となる。
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