国際特許分類[C04B35/453]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物 (33,771) | 石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;天然石の処理 (33,771) | 組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理 (8,938) | 酸化物を基とするもの (3,608) | 酸化亜鉛,酸化スズまたは酸化ビスマスまたはそれらと他の酸化物,例.亜鉛酸塩,スズ酸塩またはビスマス酸塩,の固溶体を基とするもの (315)
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酸化スズまたはスズ酸塩を基とするもの (68)
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薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート
【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第1酸化物粉末がSiO粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がZnO、MgO及びCaOからなる群より選ばれた1種の粉末又は2種以上の混合粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物とのモル比が5〜85:95〜15であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。
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薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート
【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第1酸化物粉末がTiO2粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がZnO、MgO及びCaOからなる群より選ばれた1種の粉末又は2種以上の混合粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物とのモル比が5〜85:95〜15であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。
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酸化物焼結体、酸化物混合体、それらの製造方法およびそれらを用いたターゲット
【課題】優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の成膜を可能にする酸化物焼結体および酸化物混合体を提供する。
【解決手段】酸化物焼結体は、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である。酸化物混合体は、実質的に酸化亜鉛と酸化チタンとからなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である。
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円筒形スパッタリングターゲット用酸化物焼結体およびその製造方法
【課題】高密度でバルク均一性が高く、製造時のみならずスパッタリング時にも、クラック、割れ、変形などが発生しない、円筒形スパッタリングターゲット用酸化物焼結体を得る。
【解決手段】2枚のメッシュ状の敷板(2)を隙間(9)を介して配置し、その上に、中空部分(8)の下方を隙間(9)が通過するように、成形体(1)を載置し、配管(3-1)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の下部付近となるように、配管(3-3)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の上部付近となるように、配管(3-2)を、敷板(2)の隙間(9)を介して成形体(1)の中空部分(8)に雰囲気ガスが流れるように、それぞれ配管の長さを調整して、雰囲気ガスを炉内に流通させて焼成を行う。得られる酸化物焼結体のバルクの各点での、密度の相対標準偏差は1%以下、比抵抗値の相対標準偏差は10%以下、平均結晶粒径の相対標準偏差は5%以下、密度は理論密度の90%以上である。
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酸化亜鉛焼結体およびその製造方法
【課題】スパッタリングターゲットに用いた場合に異常放電を発生せず、比抵抗の小さな透明電極を得ることが出来る程度に緻密な酸化亜鉛系焼結体を得る。
【解決手段】低原子価チタンを2モル%超、10モル%以下含有する酸化亜鉛焼結体であって、相対密度95%以上で、かつ複合酸化物の含有割合が10%以下である。この酸化亜鉛焼結体は、酸化亜鉛粉末と、亜鉛と低原子価チタンの複合酸化物粉末とを、低原子価チタンが2モル%超、10モル%以下含有するように混合した後、成形し、次いで800〜1500℃の温度で焼結を行うことによって得られる。
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酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット
【課題】表示装置用酸化物半導体膜の製造に好適に用いられる酸化物焼結体であって、高い導電性と相対密度を兼ね備えており、高いキャリア移動度を有する酸化物半導体膜を成膜可能な酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と、酸化スズと、酸化インジウムの各粉末と、を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であって、酸化物焼結体をX線回折したとき、Zn2SnO4相を主相とし、ZnSnO3にInおよび/またはIn2O3が固溶したIn/In2O3−ZnSnO3固溶体を有し、ZnxInyOz相(x、y、zは任意の正の整数である)は検出されないものである。
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光メディア用スパッタリングターゲット、および、その製造方法
【課題】高屈折率でありかつ光メディアの保存性を十分に確保できる光メディアの干渉層をDCスパッタリングにより製造可能なスパッタリングターゲット、及び、スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】45〜90mol%のTiO2と、残部のZnOと、からなり、比抵抗が0.001Ωcm〜1Ωcmである光メディア用スパッタリングターゲットを提供する。また、45〜90mol%のTiO2と、残部のZnOと、からなる組成を有する原料粉体を不活性雰囲気中または真空中で焼成する工程を備える光メディア用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
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低温焼結による純銀内部電極を備えた多層チップ型酸化亜鉛バリスタの製造方法
【課題】低温焼結特性を備え、純銀を内部電極に使用した多層チップ型ZnOバリスタの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のZnOバリスタの製造方法は、十分な半導性を有するドープZnO粒子を調製するステップと、高インピーダンス焼結材料(またはガラス粉末)を別に調製するステップと、最後に前記ドープZnO粒子と前記高インピーダンス焼結材料を所定の比率でよく混合し、多層ZnOバリスタ(または積層バリスタ(Multilayer varistor、MLV)とも呼ばれる)の従来の作製手法に従って、850℃〜900℃の低温焼結温度下で純銀を内部電極として使用したZnOバリスタを作製するステップを含む。
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酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法
【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の酸化亜鉛系透明導電膜形成材料は、実質的に亜鉛、ニオブおよび/またはタンタルおよび酸素からなる酸化物焼結体であって、ニオブおよび/またはタンタルが原子数比でX/(Zn+X)=0.02以上0.1以下(式中、Xはニオブおよび/またはタンタル)となるよう含有されている。
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酸化亜鉛系透明導電膜形成材料の製造方法、該透明導電膜形成材料を用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法
【課題】優れた導電性と成膜時に異常放電を抑制した透明導電膜の成膜を可能にするチタン(低原子価)ドープ酸化亜鉛系透明導電膜形成材料を提供する。
【解決手段】低原子価酸化チタン粉と酸化亜鉛粉もしくは水酸化亜鉛粉との混合粉、またはチタン酸亜鉛化合物粉を含み、チタンの原子数の全金属原子数に対する割合が2%超10%以下である原料粉末を用いて、真空中または不活性雰囲気中にて700℃以上1200℃以下の焼結温度で放電プラズマ焼結を行う。
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