【課題】より低い温度において、疎水性表面を有する食器類や調理器具等に強く付着した油汚れである液体油および固体脂に対する洗浄力を両立する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）特定のスルホコハク酸アルキルエステル又はその塩、（ｂ）プロピレンオキシド付加型又はプロピレンオキシド・エチレンオキシド付加型の特定の陰イオン界面活性剤〔但し（ａ）を除く〕、及び、（ｃ）スルホベタイン型界面活性剤を、特定条件で含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄時には豊かな泡立ちと洗浄時の泡の持続性を示すが、すすぎ時には瞬時に泡が消え、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤であって、面積弾性率Ｅが１０ｍＮ／ｍ以上、５０ｍＮ／ｍ以下である陰イオン界面活性剤〔（ｂ）を除く〕０．１〜３０質量％、（ｂ）炭素数５〜１８のアルキル基を有するスルホコハク酸アルキルエステル又はその塩０〜３０質量％、並びに（ｃ）炭素数１０〜１８の脂肪酸又はその塩０〜２０質量％を含有する、手洗い用食器洗浄剤組成物。ただし、（ｂ）成分と（ｃ）成分は同時に０質量％になることはない。 （もっと読む）

【課題】洗浄時には豊かな泡立ちを示すが、すすぎ時には瞬時にヌルツキがなくなることにより、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）特定のスルホコハク酸アルキルエステル又はその塩、（ｂ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し（ａ）を除く〕、及び、（ｃ）分岐の炭化水素基を有する炭素数８〜２４のアルコール０．０００１〜０．１質量％を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄時には豊かな泡立ちと洗浄時の泡の持続性を示すが、すすぎ時には瞬時に泡が消え、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）特定のスルホコハク酸ジ若しくはモノアルキルエステル又はその塩、（ｂ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し（ａ）を除く〕５〜３５質量％、及び（ｃ）スルホベタイン型界面活性剤を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、炭素数が１０〜２０の高級脂肪酸塩を除く陰イオン界面活性剤と、イオン性界面活性剤とは異なるアルカリ金属塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陰イオン界面活性剤は、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩およびリン酸エステル塩からなる群から選択された少なくとも一つである。また、ここで用いられるアルカリ金属塩は、例えば、塩化物塩、炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、ギ酸塩および酢酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一つである。 （もっと読む）

【課題】種々の用途において好適であり、洗浄力等の点で高い性能を発揮することができるポリアルキレングリコール親水化物、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするポリアルキレングリコール親水化物。[化１]


式中、Ｘ^１及びＹ^１は、互いに異なって、水素原子、−ＳＯ_３Ｍ、−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳＯ_３Ｍ、−ＰＯ_３Ｍ_２又は−Ｓ−（ＣＨ_２）_ｔ−ＣＯＯＭを表す。Ｒ^１〜Ｒ^６は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^７は、水素原子、アルキル基、アリール基、多価アルコール基等を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、価数を表す。 （もっと読む）

【課題】繊維製品をより白く仕上げられる漂白性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：周期表の第４周期にある遷移元素の水溶性塩、亜鉛の水溶性塩又は銀の水溶性塩からなる群から選択される１種以上の水溶性金属塩と、（Ｂ）成分：長鎖アルキルアミン化合物と、（Ｃ）成分：過酸化水素又は水中で過酸化水素を生ずる過酸化物と、（Ｄ）成分：非石鹸系アニオン界面活性剤と、（Ｅ）成分：ビフェニル型蛍光剤と、を含有し、（Ｂ）成分／（Ｅ）成分で表される質量比が１．２以上であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】
基板に付着したパーティクルは時間が経過するとともに除去しづらくなるが、基板の保管や運搬などで時間が経過した基板からこれらのパーティクルを除去するメディアイ工程でも、パーティクルを十分に除去することを目的とする。
【解決手段】
下記一般式（１）で表される脂肪族アルコールもしくはそのオキシアルキレン付加物の硫酸エステル塩、アルカリ、キレート剤および水を必須成分として含有することを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。
ＲＯ−（ＡＯ）ｎ−ＳＯ_３⁻・1/f Ｍ^f+ （１）
［式（１）中のＲが脂肪族炭化水素基；Ｍ^f+はアルカリ金属、アンモニウムまたはアミンのカチオン；ＡＯはオキシアルキレン基。ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を表し０〜２０の数である。］ （もっと読む）

【課題】アルカリ液中において腐食感受性である金属の洗浄に対して、特に、アルミニウムもしくはその合金のような軟質金属、または亜鉛めっき鋼のようなガルバナイズドスチールの洗浄に対して好適で、また追加の機械的処理を必要とせずに到達することが困難な内側の表面の洗浄を可能にするアルカリ洗浄組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄するための組成物であって少なくとも１種のアルカリ源、元素周期表の第２または第３の主族の元素から選択される少なくとも１種のカチオンを含む少なくとも１種の無機塩を含み、これにより組成物がいずれのトリアゾールおよび／またはいずれのアルカリ金属ホウ酸塩も含まない組成物、該組成物を含む水性濃厚物、該組成物または該水性濃厚物を含む使用溶液、ならびに、上記の水性濃厚物または任意の上記の使用溶液を用いて、アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄する方法である。 （もっと読む）