【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを設定して精度の良い計算結果を得るのに役立つ方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、前記ゴム材料のＸ線及び／又は中性子の散乱データを測定する測定工程Ｓ１と、前記散乱データからリバースモンテカルロ法によりゴム中の充填材の３次元構造を特定する可視化工程Ｓ２と、前記充填材の３次元構造に基づいてゴム材料モデルを設定するモデル設定工程Ｓ３乃至Ｓ６と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程とを含み、前記測定工程において、散乱ベクトルｑが１０^-4nm^-1よりも大かつ１０nm^-1よりも小の範囲の散乱データを得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透過電子顕微鏡像の観察時に試料が受ける磁場の影響を低減することができる透過電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】透過電子顕微鏡１００は、電子線源２と、照射レンズ４と、対物レンズ６と、第２対物レンズ８と、制限視野絞り１６と、投影レンズ１０と、検出器１２と、少なくとも照射レンズ４、第２対物レンズ８、および投影レンズ１０を制御する制御部と、を含み、第１面１７は、第２対物レンズ８と投影レンズ１０との間に位置し、制御部２２は、試料Ｓに電子線Ｌが照射されるように照射レンズ４を制御し、試料Ｓの回折パターンが第１面１７に結像されるように第２対物レンズ８を制御し、第２対物レンズ８で結像された試料Ｓの透過電子顕微鏡像が第２面（受光部１３）に結像されるように投影レンズ１０を制御する第１処理を行う。 （もっと読む）

【課題】ステージの正しい高さと実際の高さとのズレを割り出し、該ズレを補正することができるパターン計測装置、ステージ高さ調整方法およびパターン計測方法を提供する。
【解決手段】パターン計測方法は、計測対象である周期構造のパターンが形成された基体を支持するステージと、前記ステージの位置と高さを制御するステージ制御手段と、電磁波を生成し、任意の仰角で前記基体へ照射する電磁波照射手段と、前記基体で散乱された電磁波の強度を検出する検出手段と、データ処理手段と、ステージ高さ補正手段と、を持つ。前記データ処理手段は、周期が既知である周期構造の領域に、照射位置を変えながら前記電磁波を照射して得られた検出信号から散乱プロファイルを作成し、該散乱プロファイルから前記周期が既知である周期構造の周期を算出し、算出された周期と前記既知の周期とのズレ量を算出して前記ステージの高さの位置のズレ量を算出する。 （もっと読む）

【課題】 連続した波長を有する白色Ｘ線から、設定した波長範囲の多波長Ｘ線を容易に選択して取り出すことができるＸ線分光システムを提供する。
【解決手段】 白色Ｘ線が入射されるＸ線導波路と、前記Ｘ線導波路から出射した回折角の異なる回折Ｘ線を分離して、前記回折Ｘ線から設定した波長範囲の多波長Ｘ線を選択して取り出すためのＸ線選択手段とを具備するＸ線分光システムであって、前記Ｘ線導波路がコアとクラッドを有し、前記コアは屈折率実部の異なる複数の物質を含む基本構造が周期的に配されている周期性構造体で形成されており、前記クラッドと前記コアとの界面における前記Ｘ線の全反射臨界角が、前記コアの周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角よりも大きいことを特徴とするＸ線分光システム。 （もっと読む）

【課題】微細化あるいはハイアスペクト化された凹部を有する構造体に対するパターン検査の精度を向上させることができるパターン検査方法およびパターン検査装置を提供することである。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、構造体が有する凹部にＸ線または真空紫外線を集光させ、前記集光させた前記Ｘ線または前記真空紫外線を前記凹部の内部において伝播させて前記凹部の底面に到達させ、前記底面で反射または前記底面を透過した前記Ｘ線または前記真空紫外線の強度を検出することにより前記凹部の欠陥の有無を検査することを特徴とするパターン検査方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】分析対象試料に赤外線とＸ線とを同時に透過させて測定することができると共に、装置の小型化を図ることができる赤外透過スペクトル測定装置を提供する。
【解決手段】赤外線を照射するための赤外線発生器１０と、赤外線発生器１０からの赤外線を分析対象試料３０に向けて反射させる第１反射鏡１１と、分析対象試料３０を透過した赤外線を赤外線検出器１３に向けて反射させる第２反射鏡１２とを備え、受光した赤外線をフーリエ変換分光法によって分光して分析対象試料を測定する赤外透過スペクトル測定装置において、分析対象試料３０に照射するためのＸ線発生器２０と、分析対象試料３０を透過したＸ線を受光する小角散乱検出器２１または広角散乱検出器２２のいずれか一方または両方とを備え、Ｘ線を挟んだ一方の側に第１反射鏡１１を配置し、Ｘ線を挟んだ他方の側に第２反射鏡１２を配置した。 （もっと読む）

【課題】多孔質材料の構造を容易かつ詳細に解析することを目的とする。
【解決手段】本発明の多孔質材料の構造解析方法は、小角電子線散乱により多孔質材料の電子線回折像の中央部に現れる小角電子線散乱部分を結像させることで小角電子線散乱像１５を形成することを特徴とする。特に、小角電子線散乱像１５の画像データに構造解析処理を施すことができる。また、小角電子線散乱部分の構造解析処理を併用することができる。さらに、透過像を併用することもできる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線反射率法および中性子反射率法において、均一ではない、面内の場所ごとに異なる構造を持つ薄膜・多層膜について、表面や界面、特定深さ位置における２次元の電子密度分布および核散乱長密度分布を画像化する方法及びその装置を提供する。
【解決手段】本発明では、微小ビームを作製してＸＹスキャンを行う方法によらず、通常のＸ線反射率法および中性子反射率法において用いられるものと同じサイズのビームを用い、数学的な画像再構成のアルゴリズムによって、表面や界面、特定深さ位置における２次元の電子密度分布および核散乱長密度分布の画像が得られる装置を開発した。 （もっと読む）

【課題】 10μm以下のビームサイズの入射X線を使用したX線反射率法で微小領域の膜厚を計測するには、入射角を変えながら、X線の焦点位置、試料表面、回転軸の関係を１μm以下の精度で維持、制御する必要がある。
【解決手段】 本発明は、X線レンズを振幅分割ビームスプリッターと集光光学系として用いることにある。X線レンズで屈折されたX線は、焦点位置で１０μm以下に集光するような角度分布を与える。薄膜積層体を焦点位置に配置し、鏡面反射されたX線を物体波、X線レンズを透過したX線を参照波として薄膜積層体下流に配置したX線レンズで重ね合わせ干渉させる。光路差と薄膜積層体中で生じた位相差を反映した干渉縞の間隔および位置から反射X線の位相を解析し、微小領域の膜厚を計測、検査することを特徴とする薄膜積層体検査方法 （もっと読む）

【課題】試料等の機械的な回転を必要とすることなく、広い移行運動量ｑの範囲のＸ線及び中性子線の反射率曲線を短時間で測定すること。
【解決手段】湾曲結晶で構成される反射型ポリクロメータ１の湾曲面でＸ線（中性子線）を反射させて、試料Ｓの上面から見て扇型に集束されるＸ線束であって、水平方向の集束角に応じて鉛直面内でＸ線ビームと試料表面となす角度が連続的に変化するＸ線束を作成する。試料表面で反射されたＸ線強度分布を二次元検出器２で測定し、その二次元強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化するＸ線反射率曲線を求める。 （もっと読む）