【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】電流駆動型アクティブマトリクス表示装置において、表示領域内で均一にエージング処理を行うことが可能なエージング方法等を提供する。
【解決手段】第１および第２電極からなる電極対と、電極対の間に介挿された発光層と、第１電極に接続された駆動素子と、駆動素子に接続された電源線と、からなる画素１４が行列状に複数配列されてなる表示領域１１を備え、第２電極および電源線の少なくとも一方が複数の画素１４間で共通に設けられている、電流駆動型アクティブマトリクス表示装置１０において、表示領域１１内に相互に隣接する複数の画素１４からなる所定面積のウインドウ１７を設け、ウインドウ１７で囲まれる範囲の複数の画素１４を発光させ、ウインドウ１７の表示領域１１内における位置を、表示領域１１での未移動領域が存在することなく移動させるように、各画素１４の駆動素子を制御する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板２上に一定形状の薄膜パターン４を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材５に薄膜パターン形成領域９に対応して該薄膜パターン４と同形状の貫通する開口パターン６を形成し、磁性部材５が磁力により第１の磁気チャック３の平坦な吸着面３ａに吸着されて保持されたマスク１の開口パターン６を、第２の磁気チャック８上に載置された基板２の薄膜パターン形成領域９に位置合わせするステップと、第２の磁気チャック８の磁力により磁性部材５を吸着してマスク１を第１の磁気チャック３から基板２上に移すステップと、マスク１の開口パターン６を介して基板２上の薄膜パターン形成領域９に成膜し、薄膜パターン４を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子において、有機層への水分の浸入を抑制することができ、有機材料が劣化し難いものとする。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板２と、基板２上に設けられた、発光層を含む複数の有機層３と、有機層３を挟む一対の電極層４，５と、を備える。また、有機ＥＬ素子１は、有機層３の外周縁を囲うように設けられて電極層４と接し、電極層４の導電性を均一化する補助電極層４ａと、補助電極層４ａ上に有機層３と接しないように設けられた吸湿層８と、を有する。この構成によれば、補助電極層４ａ上に設けられた吸湿層８が、水分の浸入をブロックするので、発光層を含む有機層３への水分の浸入を抑制することができ、有機層３の有機材料を劣化し難くすることができる。 （もっと読む）

【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー９１と、基板搬送機から基板６を受取るための基板受けピン６６と、基板ホルダー昇降機構６８と、基板ホルダー９１の端部に設けられ、基板クランプ６１とクランプ支持金具６２とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板６を基板クランプ６１から解放するためのクランプ開閉ピン６７とを備え、クランプ支持金具６２は縦方向に回転し第１の腕６２ａ
と第２の腕６２ｃを有し、第１の腕６２ａの端には基板クランプ６１の一端が固定され、第２の腕６２ｃの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ６１が基板６を基板ホルダー９１に押圧するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】低分子量系有機材料層を含む有機ＥＬ材料を用いた多層型有機ＥＬ発光素子をエレクトロスプレー法（ＥＳ法）により製造することを目的とする。
【解決手段】陽極及び陰極の間に複数の有機材料層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、水の接触角７０度未満の親水性表面を有する陽極又は親水性表面を有する有機材料層に接して、電荷輸送性被覆材料からなる水の接触角７０度以上の疎水性表面を持つ被覆層をＥＳ法以外の手段により形成した後、この被覆層に接して、分子量２，０００以下の有機化合物を溶媒に溶解した溶液を用いてエレクトロスプレー法により成膜して有機材料層として有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する。 （もっと読む）

【課題】厚さが均一なコーティングを得る方法を提供すること。
【解決手段】材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】長期に亘って均一な輝度特性を維持することができる表示パネルを提供する。
【解決手段】映像を表示するための表示領域を規定するように配置された複数の発光画素を備える表示パネルであって、前記表示領域は、該表示領域の中心点を含む又は該中心点に近い第１領域と、該第１領域よりも前記中心点から離れた第２領域と、を含み、前記複数の発光画素は、前記第１領域において発光する第１発光層を有する第１発光画素と、前記第２領域において発光する第２発光層を有する第２発光画素と、を含み、前記第１発光層は、前記第２発光層よりも厚いことを特徴とする表示パネル。 （もっと読む）

【課題】混色が低減されたパターン膜形成部材の製造方法を提供する。
【解決手段】パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら前記基材上に前記液滴を吐出するパスを所定回数行い、前記基材上に前記パターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、前記基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域に前記液滴の着弾を許可する着弾許可領域を設定する着弾許可領域設定工程と、設定された前記着弾許可領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、前記着弾許可領域設定工程では、前記パスの回数に応じて前記着弾許可領域の位置を設定する。 （もっと読む）

【課題】 金属等の導電性の基材を基板として使用する際に絶縁平滑層を設けた場合であっても、初期発光の安定性を向上させ、高温多湿の環境下での劣化を防ぐことのできる有機ＥＬデバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 導電性基板１０１を有する有機ＥＬデバイス１００であって、導電性基板１０１上に絶縁平滑層１０２を有し、絶縁平滑層１０２上にガスバリア層１２０を有し、ガスバリア層１２０上に有機ＥＬ素子１１０を有し、ガスバリア層１２０が、金属および半金属の少なくとも１種を含み、ガスバリア層１２０が、放電処理がされた放電処理層１２０ｂと、放電処理がされていない非放電処理層１２０ａとを含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）