可搬容器
【課題】簡素な構成で基板や容器に付着している汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供する。
【解決手段】基板１の容器であって、容器内を区画するための隔壁５を備え、前記隔壁５には前記基板１を収納する区画Ｋ１とその他の区画とを連通する孔５ａ，５ｂが設けられており、前記その他の区画Ｋ２には前記基板１を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段６を備えた。
【解決手段】基板１の容器であって、容器内を区画するための隔壁５を備え、前記隔壁５には前記基板１を収納する区画Ｋ１とその他の区画とを連通する孔５ａ，５ｂが設けられており、前記その他の区画Ｋ２には前記基板１を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段６を備えた。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を収納する可搬容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板を保護し、且つ、外部からの空気を取り入れる吸排気機構が備えられたものが提案されている。
前記容器は、輸送時や保管時等に用いられ、例えばクリーンルーム内で保管される場合には、クリーンルーム内の清浄された空気を吸排気機構で容器内に取り入れることで常に容器内を清浄化できるようにしている。
【０００３】
また、容器内の空気を外部に排出するための気流発生手段が収納された筐体を容器の上端に備えたものも提案されている。
これは、気流発生手段により発生した空気を外部に排出するための排気部を容器の底部に備えさせて、保管中に基板に付着した汚染物質を気流発生手段で発生する気流により外部へ排出することができるようにしている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４２７８４２６号公報（図３及び図４参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、容器を使用、保管する環境が、例えばクリーンルームであったとしても、クリーンルーム内に分子状の汚染物質が微量であるが存在していることは周知の事実である（なお、ガス、水蒸気、塵埃、その他の分子状の汚染物質などを含め、以後、汚染物質という）。
この分子状の汚染物質を完全に取り除くことは困難であり、そのため、従来のように吸排気機構で取り入れた空気により容器内に存在する汚染物質を外部に排出することができるものの、吸排気機構で順次外部の空気を積極的に取り込む構成であるため、外部に存在する汚染物質が容器内に入り込んで基板や容器に付着してしまうことになる。
また、特許文献１では、気流発生手段により発生した空気を排気部を通して外部に排出する構成であるものの、次のような理由により前述の不都合を招くものであった。つまり、排気部が外部と連通する開口部に形成されていることや容器をパッキン等によりシールしているものの、完全に密閉できないことから、その開口部や容器の微小な隙間を通して容器内に汚染物質が入り込んでしまい、基板や容器に付着してしまうことになる。
例えば、容器の輸送中に外気と容器内の気圧変化により容器内に侵入した空気に汚染物質が含まれており、この汚染物質が基板や容器に付着するという問題もあった。
また、特許文献１では、基板が収納されている容器と気流発生手段が収納されている筐体とが別々に構成されているため、部品点数の増大化を招くだけでなく、それら容器と筐体とを一体化する際に容器と筐体との間のシール処理も行わなければならず、材料コスト及び組付け作業において不利になる不都合があった。
また、特許文献１のように気流発生手段を備えている場合には、その気流発生手段を構成する送風機からの二次的な汚染物質が発生する。そして、特許文献１では、発生した二次的な汚染物質が基板や容器に付着することがあり、改善の余地があった。
【０００６】
本発明は前述の状況に鑑み、解決しようとするところは、簡素な構成で基板や容器に付着している汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の可搬容器は、前述の課題解決のために、基板の容器であって、容器内を区画するための隔壁を備え、前記隔壁には前記基板を収納する区画とその他の区画とを連通する孔が設けられており、前記その他の区画には前記基板を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段を備えたことを特徴としている。
【０００８】
上記構成によれば、基板を収納した区画内に入り込んだ汚染物質は、その他の区画に配置された除去手段により隔壁の孔を通してその他の区画へ取り除くことができる。そして、その他の区画へ取り除いた汚染物質は、隔壁が障害となるため、基板を収納した区画側へ移動し難く、基板や容器へ付着することを抑制することができる。また、容器内を区画するための隔壁を容器内に設けるだけの簡素な構成で複数の区画を形成することができる。また、その他の区画内に例えば送風機を備える場合において、送風機からの二次的な汚染物質が発生する。この二次的な汚染物質が発生しても、前記隔壁が障害となり、二次的に発生した汚染物質が基板を収納した区画側へ移動し難く、二次的な汚染物質が基板や容器へ付着することを抑制することもできる。
【０００９】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段を備えていてもよい。
【００１０】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、汚染物質を吸着するための吸着手段であってもよい。
【００１１】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段と、前記汚染物質を吸着するための吸着手段とを備えていてもよい。
【００１２】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段を備え、前記隔壁には、複数の孔を備え、それら孔の少なくとも一方に前記送風手段を備えていてもよい。
【００１３】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、該除去手段を収納した区画から着脱自在に構成されていてもよい。
【００１４】
また、本発明の可搬容器の対象とする前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段は、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなっていてもよい。
【００１５】
また、本発明の可搬容器は、前記隔壁が着脱自在に構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
基板を収納した区画内に入り込んだ汚染物質は、除去手段により取り除くことができながらも、一旦取り除いた汚染物質が再度基板を収納した区画側へ移動することや、二次的に発生する汚染物質が基板を収納した区画側へ移動することを隔壁により抑制することができる。従って、容器内に隔壁を備えるだけの簡素な構成で、基板や容器に付着した汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】フォトマスク及び除去手段を備えた可搬容器を示し、（ａ）は正面から見た斜視図、（ｂ）は蓋体を開放した状態を示す斜視図である。
【図２】蓋体を取り外した可搬容器本体を示し、（ａ）は正面から見た斜視図、（ｂ）はそれの縦断側面図である。
【図３】除去手段の配置を代えた別の実施形態の蓋体を取り外した可搬容器本体を示し、（ａ）は正面から見た斜視図、（ｂ）は（ａ）の前壁を取り外した状態の正面から見た斜視図（ｃ）はそれの縦断側面図である。
【図４】具体的な除去手段の構成を示す概略図であり、（ａ）は第１の実施形態を示し、（ｂ）は第２の実施形態を示している。
【図５】具体的な除去手段の構成を示す概略図であり、第３の実施形態を示している。
【図６】（ａ），（ｂ）は隔壁の取付部の別の実施形態の側面図をそれぞれ示している。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の第１の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１（ａ），（ｂ）に、基板の一例であるフォトマスク１を収納して保管や運搬（輸送）を行うための可搬容器２を示している。
前記可搬容器２は、前方が開放され、フォトマスク１を収納するための箱型の容器本体３と、この容器本体３の前方の開口を閉じて密閉するための容器本体側が開放された箱型の蓋体４とを備えている。尚、図１（ａ），（ｂ）に、容器本体３に対して蓋体４を閉じた状態を保持するための係止具Ｇ，Ｇを容器本体３の上端及び下端に備えている（図１では上端に備えさせた係止具のみを示している）。又、図２（ａ）では前記係止具Ｇ，Ｇを省略し、図２（ｂ）では、容器本体３の下端に備えさせた１つの係止具Ｇのみを示している。また、容器本体３及び蓋体４の下端のそれぞれには、複数の移動用のキャスターＣ…を備えているが、無くてもよい。
【００１９】
前記フォトマスク１は、所定の大きさに加工されたフォトマスクブランクス上にパターンが形成されて構成されている。このように形成されたフォトマスクを用いて、ガラス基板に転写することによって、半導体素子やフラットパネルディスプレイといった電子部品を製造することができる。ここでは、フォトマスク１を収納しているが、パターンが形成されていないフォトマスクブランクスあるいはその他基板等を収納してもよい。
【００２０】
図２（ａ），（ｂ）に示すように、前記容器本体３と蓋体４とにより形成される空間を複数（図では２つ）の区画Ｋ１，Ｋ２に区分けするための隔壁５を該容器本体３の下部に備えている。該隔壁５には、区画Ｋ１，Ｋ２同士を連通するための左右一対の孔５ａ，５ｂを備えている。そして、該隔壁５により区分けされた２つの区画Ｋ１，Ｋ２のうちの上部の区画Ｋ１内に、フォトマスク１を収納し、残りの下部の区画Ｋ２内に、前記フォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に入り込んだ汚染物質を前記孔５ａ，５ｂを通して取り除くための除去手段６を備えている。
【００２１】
容器本体３は、例えば合成樹脂等の保形性を有するものであればどのような材料で形成されていてもよく、図１（ａ），（ｂ）及び図２（ａ），（ｂ）に示すように、略正方形状で平板状の後壁部３Ａと、この後壁部３Ａの外周縁の４辺から前方側に垂直に延びる上壁部３Ｂ、下壁部３Ｃ、左右壁部３Ｄ，３Ｅとを備えている。そして、前記後壁部３Ａにフォトマスク１を４個の保持具７…を介して固定している。尚、フォトマスク１を容器本体３に固定する具体的構成は、自由に変更できる。
【００２２】
図２（ａ），（ｂ）に示すように、前記構成の容器本体３の下部に、容器本体３の左右幅全域に渡る寸法を有する前記隔壁５を設けている。隔壁５は、上端に位置しかつ前記左右一対の孔５ａ，５ｂを有する水平板部５Ａと、この水平板部５Ａの前端部の下面から下方に延びる縦板部５Ｂとを備えた断面形状が略逆Ｌ字状に構成されている。従って、除去手段６が、孔５ａ，５ｂを通してフォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に入り込んだ汚染物質や区画Ｋ１内に存在する汚染物質を取り除くことができる。
【００２３】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。
第１の実施形態では、除去手段６を、フォトマスク１を収納した区画Ｋ１の下部に配置したが、該区画Ｋ１の左右の両横側部のうちの一方の横側部に配置している。
【００２４】
具体的には、図３（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、容器本体３を左右方向に長い横長状に構成し、紙面に向かって左側の区画Ｋ１と右側の区画Ｋ２とに区分けするための隔壁５を備えている。左側の区画Ｋ１を右側の区画Ｋ２よりも大きくなるように隔壁５を右端寄りに配置し、左側の区画Ｋ１内に前記４個の保持具７…を介してフォトマスク１を固定し、右側の区画Ｋ２内に除去手段６を配置している。
【００２５】
図３に示す容器本体３は、前記合成樹脂等で形成され、略長方形状で平板状の後壁部３Ａと、この後壁部３Ａの外周縁の４辺から前方側に垂直に延びる上壁部３Ｂ、下壁部３Ｃ、左右壁部３Ｄ，３Ｅとを備えている。
【００２６】
前記隔壁５は、容器本体３を左右方向で区画しかつ上下一対の孔８ａ，８ｂを有する前後壁８と、この前後壁８の前端と右壁部３Ｅの前端と上下壁部３Ｂ，３Ｃの前端とで形成される開口を閉じる前壁９とを備え、孔８ａ，８ｂを通してフォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に入り込んだ汚染物質や区画Ｋ１内に存在する汚染物質を除去手段６が取り除くことができるようにしている。尚、前壁９は、図示しない係止構造により着脱自在に構成され、図３（ｂ）に示すように、前壁９を取り外すことによって、除去手段６を取り外すことができるようにしている。尚、除去手段６は、図示していない固定手段により固定解除自在に区画Ｋ２内に固定されている。尚、図３で説明しなかった他の部分は、図２と同一であるため、同一の符号を付すととともに説明は省略する。また、図３では、容器本体３のみしか示していないが、蓋体も横長状で容器本体側が開放された箱型のものから構成されており、形状が異なる以外は図１で示した蓋体４と同一構成である。
【００２７】
前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段６が、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなり、その除去手段６の具体的な構成について図４及び図５に示す概略図に基づいて説明する。尚、容器本体の構成は図２のものを用いることにする。
【００２８】
図４（ａ）に示すように、隔壁５の中心部に１つの孔５Ｋを形成し、この孔５Ｋを通して移動してきた汚染物質、例えばガスを吸着するための吸着手段（除去手段）１０を孔５Ｋに臨むように隔壁５に取り付けてもよい。この吸着手段１０は定期的に交換することができるように隔壁５に対して着脱自在に構成することが好ましい。尚、吸着手段１０が水蒸気を吸収するものであってもよいし、塵埃を捕集するものあってもよい。
【００２９】
また、図４（ｂ）に示すように、除去手段６が、フォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に孔（流出孔）５ａを通して送風する送風手段１１と、該送風手段１１からの送風を濾過するためのフィルター１２を孔（流出孔）５ａを塞ぐように備えていてもよい。このようにフォトマスク１を収納した区画Ｋ１内の空気を清浄にすることによって、汚染物質がフォトマスク１や可搬容器２に付着することを防ぐことができるだけでなく、区画Ｋ１内に存在する汚染物質を取り除くことができるようにしている。尚、前記孔（流出孔）５ａの他に備えている孔（流入孔）５ｂにも別のフィルター１３を備えており、空気と共に移動してきた汚染物質をフィルター１３にて捕集することができるように構成している。これらフィルター１２，１３及び送風手段１１を着脱できるように構成しておけば、容易に定期的な交換が行える。この場合、フィルター１２，１３及び送風手段１１をユニット化しておけば、交換作業が更に容易に行える。また、送風手段１１は、ファンとファンを回転させるモータを備えていることから、例えば潤滑油が排出される場合がある。この場合でも、前記のように隔壁５が設けられていることから、排出される潤滑油がフォトマスク１を収納した区画Ｋ１側へ移動することを隔壁５により抑制することができ、好ましい。
【００３０】
また、図５に示すように、前記隔壁５が、フォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に空気を流出させるための流出孔５ａと、該区画Ｋ１内に流出した空気を前記除去手段６が収納された区画Ｋ２内に戻すための流入孔５ｂとを備え、それら２つの孔５ａ，５ｂの一方５ａに送り出し用の送風手段１４を備え、他方５ｂに空気吸引用の送風手段１５を備えて、前記流出孔５ａから前記区画Ｋ１内に流出した空気を前記流入孔５ｂに取り込むように内部循環型に構成してもよい。このように区画Ｋ１内の空気を循環させて該空気を常に清浄にすることによって、汚染物質がフォトマスク１や可搬容器２に付着することを効果的に防ぐことができるだけでなく、区画Ｋ１内に存在する汚染物質を取り除くことができるようにしている。そして、送風手段１４，１５同士間に取り込んだ汚染物質を吸着する吸着手段１６を配置しておけば、フィルター１４，１５で捕集できなかった汚染物質、例えばガスや水蒸気等をも吸着手段１６にて吸着することができる。尚、前記のように隔壁５に流出孔５ａと流入孔５ｂの２個を備える、あるいは図４（ａ）のように１個の孔を設けるのが好ましいが、隔壁５の一部にのみ設けるのであれば、３個以上の孔を設けてもよい。
【００３１】
前記汚染物質の中でも、分子状の汚染物質がフォトマスク１の可搬容器２内に入り込んで、その分子状の汚染物質がフォトマスク１の表面に付着すると、フォトマスク１の表面に結晶を形成して成長性異物を生成することがある。このような成長性異物がフォトマスク１の表面に生成されると、フォトマスク１上に有するペリクルを剥がして成長性異物を除去してから新たなペリクルを再度貼り付けなければならず、非常に手間のかかるものである。その成長性異物対策用として前述した図４（ａ），（ｂ）及び図５の除去手段６を備えさせることで、基板の表面に結晶を形成することをできる限り防止できるようにしている。
【００３２】
また、図６（ａ）には、図２で示した隔壁５が、着脱式に構成された場合を示している。後壁部３Ａと下壁部３Ｃとに凹部（溝でもよい）３Ｘ，３Ｙを形成し、それら凹部３Ｘ，３Ｙに係止する係止解除自在な係止部５Ｘ，５Ｙを隔壁５に備えさせて、除去手段６の交換や点検時に、隔壁５を取り外すことができるようにしている。また、除去手段６は、上下一対の弾性部材１７，１８により挟持されており、弾性部材１７，１８を上下に押し広げることにより除去手段６を取り外すことができるようにしている。
【００３３】
また、図６（ｂ）では、図６（ａ）で示した隔壁５を揺動開閉式に構成した場合を示している。つまり、隔壁５の縦板部５Ｂの下端を下壁部３Ｃに左右一対のブラケット１９，１９（図では一方のみ図示）を介して枢支連結し、隔壁５の水平板部５Ａの後端に後壁部３Ａに形成された凹部（溝でもよい）３Ｘに係止する係止解除自在な係止部５Ｘを備えさせている。従って、隔壁５の水平板部５Ａの係止部５Ｘと凹部（溝でもよい）３Ｘとの係止を解除することによって、隔壁５を水平軸芯Ｘ周りで前方側へ揺動して２点鎖線で示す開放位置に位置させることができる。除去手段６は、図６（ａ）と同様に、上下一対の弾性部材１７，１８により挟持されており、弾性部材１７，１８を上下に押し広げることにより除去手段６を取り外すことができるようにしている。
【００３４】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００３５】
上記実施形態では、可搬容器２を前後方向で２つに分割した容器本体３と蓋体４とで構成したが、上下方向で２つに分割したものから構成してもよいし、また可搬容器２を２つに分割したものの他、３つ以上に分割したものから構成してもよい。
【００３６】
また、上記実施形態では、フォトマスク１を下側または横側の１箇所に除去手段６を備えさせたが、２箇所以上に除去手段を備えさせてもよい。
【符号の説明】
【００３７】
１…フォトマスク（基板）、２…可搬容器、３…容器本体、３Ａ…後壁部、３Ｂ…上壁部、３Ｃ…下壁部、３Ｄ，３Ｅ…左右壁部、３Ｘ，３Ｙ…凹部、４…蓋体、５…隔壁、５Ａ…水平板部、５Ｂ…縦板部、５Ｋ…孔、５Ｘ，５Ｙ…係止部、５ａ…孔(流出孔)、５ｂ…孔（流入孔）、６…除去手段、７…保持具、８…前後壁、８ａ，８ｂ…孔、９…前壁、１０…吸着手段、１１…送風手段、１２，１３…フィルター、１４，１５…送風手段、１６…吸着手段、１７，１８…弾性部材、１９…ブラケット、Ｃ…キャスター、Ｇ…係止具、Ｋ１，Ｋ２…区画、Ｘ…水平軸芯
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を収納する可搬容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板を保護し、且つ、外部からの空気を取り入れる吸排気機構が備えられたものが提案されている。
前記容器は、輸送時や保管時等に用いられ、例えばクリーンルーム内で保管される場合には、クリーンルーム内の清浄された空気を吸排気機構で容器内に取り入れることで常に容器内を清浄化できるようにしている。
【０００３】
また、容器内の空気を外部に排出するための気流発生手段が収納された筐体を容器の上端に備えたものも提案されている。
これは、気流発生手段により発生した空気を外部に排出するための排気部を容器の底部に備えさせて、保管中に基板に付着した汚染物質を気流発生手段で発生する気流により外部へ排出することができるようにしている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４２７８４２６号公報（図３及び図４参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、容器を使用、保管する環境が、例えばクリーンルームであったとしても、クリーンルーム内に分子状の汚染物質が微量であるが存在していることは周知の事実である（なお、ガス、水蒸気、塵埃、その他の分子状の汚染物質などを含め、以後、汚染物質という）。
この分子状の汚染物質を完全に取り除くことは困難であり、そのため、従来のように吸排気機構で取り入れた空気により容器内に存在する汚染物質を外部に排出することができるものの、吸排気機構で順次外部の空気を積極的に取り込む構成であるため、外部に存在する汚染物質が容器内に入り込んで基板や容器に付着してしまうことになる。
また、特許文献１では、気流発生手段により発生した空気を排気部を通して外部に排出する構成であるものの、次のような理由により前述の不都合を招くものであった。つまり、排気部が外部と連通する開口部に形成されていることや容器をパッキン等によりシールしているものの、完全に密閉できないことから、その開口部や容器の微小な隙間を通して容器内に汚染物質が入り込んでしまい、基板や容器に付着してしまうことになる。
例えば、容器の輸送中に外気と容器内の気圧変化により容器内に侵入した空気に汚染物質が含まれており、この汚染物質が基板や容器に付着するという問題もあった。
また、特許文献１では、基板が収納されている容器と気流発生手段が収納されている筐体とが別々に構成されているため、部品点数の増大化を招くだけでなく、それら容器と筐体とを一体化する際に容器と筐体との間のシール処理も行わなければならず、材料コスト及び組付け作業において不利になる不都合があった。
また、特許文献１のように気流発生手段を備えている場合には、その気流発生手段を構成する送風機からの二次的な汚染物質が発生する。そして、特許文献１では、発生した二次的な汚染物質が基板や容器に付着することがあり、改善の余地があった。
【０００６】
本発明は前述の状況に鑑み、解決しようとするところは、簡素な構成で基板や容器に付着している汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の可搬容器は、前述の課題解決のために、基板の容器であって、容器内を区画するための隔壁を備え、前記隔壁には前記基板を収納する区画とその他の区画とを連通する孔が設けられており、前記その他の区画には前記基板を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段を備えたことを特徴としている。
【０００８】
上記構成によれば、基板を収納した区画内に入り込んだ汚染物質は、その他の区画に配置された除去手段により隔壁の孔を通してその他の区画へ取り除くことができる。そして、その他の区画へ取り除いた汚染物質は、隔壁が障害となるため、基板を収納した区画側へ移動し難く、基板や容器へ付着することを抑制することができる。また、容器内を区画するための隔壁を容器内に設けるだけの簡素な構成で複数の区画を形成することができる。また、その他の区画内に例えば送風機を備える場合において、送風機からの二次的な汚染物質が発生する。この二次的な汚染物質が発生しても、前記隔壁が障害となり、二次的に発生した汚染物質が基板を収納した区画側へ移動し難く、二次的な汚染物質が基板や容器へ付着することを抑制することもできる。
【０００９】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段を備えていてもよい。
【００１０】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、汚染物質を吸着するための吸着手段であってもよい。
【００１１】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段と、前記汚染物質を吸着するための吸着手段とを備えていてもよい。
【００１２】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段を備え、前記隔壁には、複数の孔を備え、それら孔の少なくとも一方に前記送風手段を備えていてもよい。
【００１３】
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、該除去手段を収納した区画から着脱自在に構成されていてもよい。
【００１４】
また、本発明の可搬容器の対象とする前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段は、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなっていてもよい。
【００１５】
また、本発明の可搬容器は、前記隔壁が着脱自在に構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
基板を収納した区画内に入り込んだ汚染物質は、除去手段により取り除くことができながらも、一旦取り除いた汚染物質が再度基板を収納した区画側へ移動することや、二次的に発生する汚染物質が基板を収納した区画側へ移動することを隔壁により抑制することができる。従って、容器内に隔壁を備えるだけの簡素な構成で、基板や容器に付着した汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】フォトマスク及び除去手段を備えた可搬容器を示し、（ａ）は正面から見た斜視図、（ｂ）は蓋体を開放した状態を示す斜視図である。
【図２】蓋体を取り外した可搬容器本体を示し、（ａ）は正面から見た斜視図、（ｂ）はそれの縦断側面図である。
【図３】除去手段の配置を代えた別の実施形態の蓋体を取り外した可搬容器本体を示し、（ａ）は正面から見た斜視図、（ｂ）は（ａ）の前壁を取り外した状態の正面から見た斜視図（ｃ）はそれの縦断側面図である。
【図４】具体的な除去手段の構成を示す概略図であり、（ａ）は第１の実施形態を示し、（ｂ）は第２の実施形態を示している。
【図５】具体的な除去手段の構成を示す概略図であり、第３の実施形態を示している。
【図６】（ａ），（ｂ）は隔壁の取付部の別の実施形態の側面図をそれぞれ示している。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の第１の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１（ａ），（ｂ）に、基板の一例であるフォトマスク１を収納して保管や運搬（輸送）を行うための可搬容器２を示している。
前記可搬容器２は、前方が開放され、フォトマスク１を収納するための箱型の容器本体３と、この容器本体３の前方の開口を閉じて密閉するための容器本体側が開放された箱型の蓋体４とを備えている。尚、図１（ａ），（ｂ）に、容器本体３に対して蓋体４を閉じた状態を保持するための係止具Ｇ，Ｇを容器本体３の上端及び下端に備えている（図１では上端に備えさせた係止具のみを示している）。又、図２（ａ）では前記係止具Ｇ，Ｇを省略し、図２（ｂ）では、容器本体３の下端に備えさせた１つの係止具Ｇのみを示している。また、容器本体３及び蓋体４の下端のそれぞれには、複数の移動用のキャスターＣ…を備えているが、無くてもよい。
【００１９】
前記フォトマスク１は、所定の大きさに加工されたフォトマスクブランクス上にパターンが形成されて構成されている。このように形成されたフォトマスクを用いて、ガラス基板に転写することによって、半導体素子やフラットパネルディスプレイといった電子部品を製造することができる。ここでは、フォトマスク１を収納しているが、パターンが形成されていないフォトマスクブランクスあるいはその他基板等を収納してもよい。
【００２０】
図２（ａ），（ｂ）に示すように、前記容器本体３と蓋体４とにより形成される空間を複数（図では２つ）の区画Ｋ１，Ｋ２に区分けするための隔壁５を該容器本体３の下部に備えている。該隔壁５には、区画Ｋ１，Ｋ２同士を連通するための左右一対の孔５ａ，５ｂを備えている。そして、該隔壁５により区分けされた２つの区画Ｋ１，Ｋ２のうちの上部の区画Ｋ１内に、フォトマスク１を収納し、残りの下部の区画Ｋ２内に、前記フォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に入り込んだ汚染物質を前記孔５ａ，５ｂを通して取り除くための除去手段６を備えている。
【００２１】
容器本体３は、例えば合成樹脂等の保形性を有するものであればどのような材料で形成されていてもよく、図１（ａ），（ｂ）及び図２（ａ），（ｂ）に示すように、略正方形状で平板状の後壁部３Ａと、この後壁部３Ａの外周縁の４辺から前方側に垂直に延びる上壁部３Ｂ、下壁部３Ｃ、左右壁部３Ｄ，３Ｅとを備えている。そして、前記後壁部３Ａにフォトマスク１を４個の保持具７…を介して固定している。尚、フォトマスク１を容器本体３に固定する具体的構成は、自由に変更できる。
【００２２】
図２（ａ），（ｂ）に示すように、前記構成の容器本体３の下部に、容器本体３の左右幅全域に渡る寸法を有する前記隔壁５を設けている。隔壁５は、上端に位置しかつ前記左右一対の孔５ａ，５ｂを有する水平板部５Ａと、この水平板部５Ａの前端部の下面から下方に延びる縦板部５Ｂとを備えた断面形状が略逆Ｌ字状に構成されている。従って、除去手段６が、孔５ａ，５ｂを通してフォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に入り込んだ汚染物質や区画Ｋ１内に存在する汚染物質を取り除くことができる。
【００２３】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。
第１の実施形態では、除去手段６を、フォトマスク１を収納した区画Ｋ１の下部に配置したが、該区画Ｋ１の左右の両横側部のうちの一方の横側部に配置している。
【００２４】
具体的には、図３（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、容器本体３を左右方向に長い横長状に構成し、紙面に向かって左側の区画Ｋ１と右側の区画Ｋ２とに区分けするための隔壁５を備えている。左側の区画Ｋ１を右側の区画Ｋ２よりも大きくなるように隔壁５を右端寄りに配置し、左側の区画Ｋ１内に前記４個の保持具７…を介してフォトマスク１を固定し、右側の区画Ｋ２内に除去手段６を配置している。
【００２５】
図３に示す容器本体３は、前記合成樹脂等で形成され、略長方形状で平板状の後壁部３Ａと、この後壁部３Ａの外周縁の４辺から前方側に垂直に延びる上壁部３Ｂ、下壁部３Ｃ、左右壁部３Ｄ，３Ｅとを備えている。
【００２６】
前記隔壁５は、容器本体３を左右方向で区画しかつ上下一対の孔８ａ，８ｂを有する前後壁８と、この前後壁８の前端と右壁部３Ｅの前端と上下壁部３Ｂ，３Ｃの前端とで形成される開口を閉じる前壁９とを備え、孔８ａ，８ｂを通してフォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に入り込んだ汚染物質や区画Ｋ１内に存在する汚染物質を除去手段６が取り除くことができるようにしている。尚、前壁９は、図示しない係止構造により着脱自在に構成され、図３（ｂ）に示すように、前壁９を取り外すことによって、除去手段６を取り外すことができるようにしている。尚、除去手段６は、図示していない固定手段により固定解除自在に区画Ｋ２内に固定されている。尚、図３で説明しなかった他の部分は、図２と同一であるため、同一の符号を付すととともに説明は省略する。また、図３では、容器本体３のみしか示していないが、蓋体も横長状で容器本体側が開放された箱型のものから構成されており、形状が異なる以外は図１で示した蓋体４と同一構成である。
【００２７】
前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段６が、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなり、その除去手段６の具体的な構成について図４及び図５に示す概略図に基づいて説明する。尚、容器本体の構成は図２のものを用いることにする。
【００２８】
図４（ａ）に示すように、隔壁５の中心部に１つの孔５Ｋを形成し、この孔５Ｋを通して移動してきた汚染物質、例えばガスを吸着するための吸着手段（除去手段）１０を孔５Ｋに臨むように隔壁５に取り付けてもよい。この吸着手段１０は定期的に交換することができるように隔壁５に対して着脱自在に構成することが好ましい。尚、吸着手段１０が水蒸気を吸収するものであってもよいし、塵埃を捕集するものあってもよい。
【００２９】
また、図４（ｂ）に示すように、除去手段６が、フォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に孔（流出孔）５ａを通して送風する送風手段１１と、該送風手段１１からの送風を濾過するためのフィルター１２を孔（流出孔）５ａを塞ぐように備えていてもよい。このようにフォトマスク１を収納した区画Ｋ１内の空気を清浄にすることによって、汚染物質がフォトマスク１や可搬容器２に付着することを防ぐことができるだけでなく、区画Ｋ１内に存在する汚染物質を取り除くことができるようにしている。尚、前記孔（流出孔）５ａの他に備えている孔（流入孔）５ｂにも別のフィルター１３を備えており、空気と共に移動してきた汚染物質をフィルター１３にて捕集することができるように構成している。これらフィルター１２，１３及び送風手段１１を着脱できるように構成しておけば、容易に定期的な交換が行える。この場合、フィルター１２，１３及び送風手段１１をユニット化しておけば、交換作業が更に容易に行える。また、送風手段１１は、ファンとファンを回転させるモータを備えていることから、例えば潤滑油が排出される場合がある。この場合でも、前記のように隔壁５が設けられていることから、排出される潤滑油がフォトマスク１を収納した区画Ｋ１側へ移動することを隔壁５により抑制することができ、好ましい。
【００３０】
また、図５に示すように、前記隔壁５が、フォトマスク１を収納した区画Ｋ１内に空気を流出させるための流出孔５ａと、該区画Ｋ１内に流出した空気を前記除去手段６が収納された区画Ｋ２内に戻すための流入孔５ｂとを備え、それら２つの孔５ａ，５ｂの一方５ａに送り出し用の送風手段１４を備え、他方５ｂに空気吸引用の送風手段１５を備えて、前記流出孔５ａから前記区画Ｋ１内に流出した空気を前記流入孔５ｂに取り込むように内部循環型に構成してもよい。このように区画Ｋ１内の空気を循環させて該空気を常に清浄にすることによって、汚染物質がフォトマスク１や可搬容器２に付着することを効果的に防ぐことができるだけでなく、区画Ｋ１内に存在する汚染物質を取り除くことができるようにしている。そして、送風手段１４，１５同士間に取り込んだ汚染物質を吸着する吸着手段１６を配置しておけば、フィルター１４，１５で捕集できなかった汚染物質、例えばガスや水蒸気等をも吸着手段１６にて吸着することができる。尚、前記のように隔壁５に流出孔５ａと流入孔５ｂの２個を備える、あるいは図４（ａ）のように１個の孔を設けるのが好ましいが、隔壁５の一部にのみ設けるのであれば、３個以上の孔を設けてもよい。
【００３１】
前記汚染物質の中でも、分子状の汚染物質がフォトマスク１の可搬容器２内に入り込んで、その分子状の汚染物質がフォトマスク１の表面に付着すると、フォトマスク１の表面に結晶を形成して成長性異物を生成することがある。このような成長性異物がフォトマスク１の表面に生成されると、フォトマスク１上に有するペリクルを剥がして成長性異物を除去してから新たなペリクルを再度貼り付けなければならず、非常に手間のかかるものである。その成長性異物対策用として前述した図４（ａ），（ｂ）及び図５の除去手段６を備えさせることで、基板の表面に結晶を形成することをできる限り防止できるようにしている。
【００３２】
また、図６（ａ）には、図２で示した隔壁５が、着脱式に構成された場合を示している。後壁部３Ａと下壁部３Ｃとに凹部（溝でもよい）３Ｘ，３Ｙを形成し、それら凹部３Ｘ，３Ｙに係止する係止解除自在な係止部５Ｘ，５Ｙを隔壁５に備えさせて、除去手段６の交換や点検時に、隔壁５を取り外すことができるようにしている。また、除去手段６は、上下一対の弾性部材１７，１８により挟持されており、弾性部材１７，１８を上下に押し広げることにより除去手段６を取り外すことができるようにしている。
【００３３】
また、図６（ｂ）では、図６（ａ）で示した隔壁５を揺動開閉式に構成した場合を示している。つまり、隔壁５の縦板部５Ｂの下端を下壁部３Ｃに左右一対のブラケット１９，１９（図では一方のみ図示）を介して枢支連結し、隔壁５の水平板部５Ａの後端に後壁部３Ａに形成された凹部（溝でもよい）３Ｘに係止する係止解除自在な係止部５Ｘを備えさせている。従って、隔壁５の水平板部５Ａの係止部５Ｘと凹部（溝でもよい）３Ｘとの係止を解除することによって、隔壁５を水平軸芯Ｘ周りで前方側へ揺動して２点鎖線で示す開放位置に位置させることができる。除去手段６は、図６（ａ）と同様に、上下一対の弾性部材１７，１８により挟持されており、弾性部材１７，１８を上下に押し広げることにより除去手段６を取り外すことができるようにしている。
【００３４】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００３５】
上記実施形態では、可搬容器２を前後方向で２つに分割した容器本体３と蓋体４とで構成したが、上下方向で２つに分割したものから構成してもよいし、また可搬容器２を２つに分割したものの他、３つ以上に分割したものから構成してもよい。
【００３６】
また、上記実施形態では、フォトマスク１を下側または横側の１箇所に除去手段６を備えさせたが、２箇所以上に除去手段を備えさせてもよい。
【符号の説明】
【００３７】
１…フォトマスク（基板）、２…可搬容器、３…容器本体、３Ａ…後壁部、３Ｂ…上壁部、３Ｃ…下壁部、３Ｄ，３Ｅ…左右壁部、３Ｘ，３Ｙ…凹部、４…蓋体、５…隔壁、５Ａ…水平板部、５Ｂ…縦板部、５Ｋ…孔、５Ｘ，５Ｙ…係止部、５ａ…孔(流出孔)、５ｂ…孔（流入孔）、６…除去手段、７…保持具、８…前後壁、８ａ，８ｂ…孔、９…前壁、１０…吸着手段、１１…送風手段、１２，１３…フィルター、１４，１５…送風手段、１６…吸着手段、１７，１８…弾性部材、１９…ブラケット、Ｃ…キャスター、Ｇ…係止具、Ｋ１，Ｋ２…区画、Ｘ…水平軸芯
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の容器であって、
容器内を区画するための隔壁を備え、前記隔壁には前記基板を収納する区画とその他の区画とを連通する孔が設けられており、前記その他の区画には前記基板を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段を備えたことを特徴とする可搬容器。
【請求項２】
前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の可搬容器。
【請求項３】
前記除去手段は、汚染物質を吸着するための吸着手段であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の可搬容器。
【請求項４】
前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段と、前記汚染物質を吸着するための吸着手段とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の可搬容器。
【請求項５】
前記除去手段は、基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段を備え、前記隔壁には、複数の孔を備え、それら孔の少なくとも一方に前記送風手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の可搬容器。
【請求項６】
前記除去手段は、該除去手段を収納した区画から着脱自在に構成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の可搬容器。
【請求項７】
前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段は、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなることを特徴とする請求項１又は請求項６に記載の可搬容器。
【請求項８】
前記隔壁が着脱自在に構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の可搬容器。
【請求項１】
基板の容器であって、
容器内を区画するための隔壁を備え、前記隔壁には前記基板を収納する区画とその他の区画とを連通する孔が設けられており、前記その他の区画には前記基板を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段を備えたことを特徴とする可搬容器。
【請求項２】
前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の可搬容器。
【請求項３】
前記除去手段は、汚染物質を吸着するための吸着手段であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の可搬容器。
【請求項４】
前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段と、前記汚染物質を吸着するための吸着手段とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の可搬容器。
【請求項５】
前記除去手段は、基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段を備え、前記隔壁には、複数の孔を備え、それら孔の少なくとも一方に前記送風手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の可搬容器。
【請求項６】
前記除去手段は、該除去手段を収納した区画から着脱自在に構成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の可搬容器。
【請求項７】
前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段は、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなることを特徴とする請求項１又は請求項６に記載の可搬容器。
【請求項８】
前記隔壁が着脱自在に構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の可搬容器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−１６２２３７（Ｐ２０１１−１６２２３７Ａ）
【公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２７６６０（Ｐ２０１０−２７６６０）
【出願日】平成２２年２月１０日（２０１０．２．１０）
【出願人】（３０２００３２４４）株式会社エスケーエレクトロニクス (31)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月１０日（２０１０．２．１０）
【出願人】（３０２００３２４４）株式会社エスケーエレクトロニクス (31)
【Ｆターム（参考）】
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