基板搬送装置
【課題】 基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板を水平に保ちながら方向転換して搬送するための基板搬送装置Ａであって、基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージ１と、エアステージ１に隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動しうるように支持する支持手段２Ａ，２Ｂと、エアステージ１の中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を第１の水平方向Ｆ１から異なる第２の水平方向Ｆ２に方向転換させる回転手段３とを備えている。
【解決手段】 基板を水平に保ちながら方向転換して搬送するための基板搬送装置Ａであって、基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージ１と、エアステージ１に隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動しうるように支持する支持手段２Ａ，２Ｂと、エアステージ１の中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を第１の水平方向Ｆ１から異なる第２の水平方向Ｆ２に方向転換させる回転手段３とを備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、たとえばガラス基板を方向転換して搬送するための基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の基板搬送装置としては、たとえば特許文献１に開示されたものがある。この特許文献１に開示された基板搬送装置においては、第１の水平方向に沿って搬送されてきた基板を９０度方向転換させて第２の水平方向に送り出すように、所定の箇所に多数個の第１のローラおよび第２のローラが設けられている。第１のローラは、基板の下面を全体的に支持しつつ当該基板を第１の水平方向に沿って移動させるように配置されており、第２のローラは、基板の下面を全体的に支持しつつ当該基板を第２の水平方向に沿って移動させるように配置されている。これら第１および第２のローラは、互いに重なり合うことなく排他的に上下動作および回転するように構成されている。すなわち、第１の水平方向に沿って搬送されてきた基板を受け取る際には、第１のローラが高位置をとって回転するとともに第２のローラが低位置をとり、基板は、第１のローラを介して第１の水平方向に移動させられる。一方、第２の水平方向に沿って基板を送り出す際には、上記とは逆に第１のローラが低位置をとるとともに第２のローラが高位置をとって回転し、基板は、第２のローラを介して第２の水平方向に移動させられる。これにより、基板は、第１の水平方向から第２の水平方向に９０°方向転換させられる。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−７７５９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の基板搬送装置では、第１および第２のローラが基板の下面全体を支持するように配置されているため、基板とローラとの接触面積が比較的大きく、回転するローラと基板との摩擦によって静電気が発生しやすい。そのため、基板には、ゴミなどのパーティクルが付きやすく、さらには傷などが付くおそれがあった。一方、基板を方向転換させる際に第１および第２のローラを比較的ゆっくりと上下動作させたり低速で回転させれば、パーティクルの付着や傷付きをある程度緩和できるが、そうすると基板を迅速に方向転換させることができなくなってしまう。
【０００５】
本願発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる基板搬送装置を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【０００７】
本願発明によって提供される基板搬送装置は、平面視矩形状の基板を水平に保ちながら当該基板を方向転換して搬送するための基板搬送装置であって、上記基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージと、上記エアステージに隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の側縁部を第１の水平方向に沿って移動しうるように支持する支持手段と、上記エアステージの中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第１の水平方向から異なる第２の水平方向にあるいはその逆方向に方向転換させる回転手段と、を備えたことを特徴としている。
【０００８】
好ましい実施の形態としては、上記支持手段は、上記第１の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の側縁部を支持し、その後、上記回転手段は、上記支持手段に代わって上記基板の下面中央部を支持しつつ鉛直軸周りに回転することにより、当該基板を上記第１の水平方向から上記第２の水平方向に方向転換させる。
【０００９】
他の好ましい実施の形態としては、上記回転手段は、上記第２の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第２の水平方向から上記第１の水平方向に方向転換させ、その後、上記支持手段は、上記回転手段に替わって上記基板の側縁部を支持することにより、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させる。
【００１０】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージは、全体的に平面視矩形状を呈して上記基板と略同一の面積をもつように構成されている。
【００１１】
他の好ましい実施の形態としては、上記支持手段は、上記エアステージの相対する側部にそれぞれ隣接して一対をなすように設けられている。
【００１２】
このような構成によれば、基板は、その側縁部や下面中央部が支持手段や回転手段に接するものの、それ以外の部分は空気圧の緩衝層を介してエアステージの上方に浮いた状態となる。そのため、基板の接触面積はできる限り小さく抑えられ、たとえば基板を第１の水平方向から第２の水平方向に方向転換して搬送する際には、支持手段および回転手段を比較的高速に動作させるようにしても、静電気がそれほど発生することはない。したがって、本願発明に係る基板搬送装置によれば、基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる。
【００１３】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージは、空気噴出孔を上面に有する複数のエアチャンバーを上記回転手段の周囲に配置するようにして構成されており、これら複数のエアチャンバーのうちの少なくとも１つは、上記第２の水平方向に沿って他の基板搬送装置との間で上記基板を受け渡ししうるように、その際には上記支持手段とともに所定の下位置をとるべく上下動作可能に設けられている。
【００１４】
このような構成によれば、たとえば他の基板搬送装置としてのロボットハンドが第２の水平方向に沿って移動しながら所定の下位置まで下がったエアチャンバーと基板との間に入り込むことができ、他の基板搬送装置に対して基板を受け渡すことができる。
【００１５】
他の好ましい実施の形態としては、上記支持手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ブロックと、上記基板の側縁部を支持するように上記可動ブロックに設けられており、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させるための複数のガイドローラとを有して構成されている。
【００１６】
このような構成によれば、複数のガイドローラによって基板の側縁部を支持しながら当該基板を第１の水平方向にスムーズに移動させることができる。
【００１７】
他の好ましい実施の形態としては、上記可動ブロックの上面には、空気噴出孔が設けられている。
【００１８】
このような構成によれば、基板を方向転換させる際、基板の一部が可動ブロックの上方に差し掛かった状態になるものの、そのような部分も含めて基板の下面全体に空気圧による緩衝層を形成することができる。
【００１９】
他の好ましい実施の形態としては、上記回転手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ベースと、この可動ベースに設けられた回転用のモータと、このモータによって鉛直軸周りに回転させられる回転ユニットと、上記基板の下面中央部を真空吸着するように上記回転ユニットの上部に設けられた複数の真空吸着盤と、これら複数の真空吸着盤に真空状態を発生させるための真空ポンプとを有して構成されている。
【００２０】
このような構成によれば、基板を真空吸着盤により回転ユニットの上部に確実に保持した状態で当該基板を鉛直軸周りに回転させることができる。
【００２１】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージの中央部には、開口部が形成されているとともに、この中央開口部と対応する位置に上記回転手段が配置されており、上記回転手段はさらに、上記複数の真空吸着盤が嵌入可能な複数の穴をもち、上記回転ユニットの上部に緩衝器を介して支持された補助プレートを有しており、この補助プレートは、上記可動ベースが所定の下位置をとるとき、上記複数の真空吸着盤よりも上方に位置して上記中央開口部を平坦に塞ぐように構成されている。
【００２２】
このような構成によれば、エアステージ上に基板が搬送されてくる際、基板の先端部がエアステージの中央開口部に差し掛かった状態になるものの、当該中央開口部が補助プレートによって平坦に塞がれるため、基板の先端部が垂れて中央開口部に引っ掛かるといったことを防ぐことができる。
【００２３】
他の好ましい実施の形態としては、上記補助プレートは、上記エアステージ上に上記基板が配置された状態で上記可動ベースが所定の上位置をとるとき、上記基板に押し返されることで上記緩衝器の弾力に抗して変位させられ、上記複数の真空吸着盤が上記複数の穴に嵌入した状態で当該基板の下面中央部を真空吸着するように構成されている。
【００２４】
このような構成によれば、真空吸着盤を用いて基板を保持する際、補助プレートに妨げられることなくこの補助プレートの穴を介して基板の下面中央部に真空吸着盤を接触させることができ、真空吸着によって確実に基板を保持することができる。
【００２５】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージには、上記基板の相対する角部を挟持可能なクランプ機構が設けられている。
【００２６】
このような構成によれば、エアステージ上における基板の姿勢をクランプ機構によって矯正することができる。
【００２７】
他の好ましい実施の形態としては、上記クランプ機構は、上記エアステージの端部上方に設けられており、上記基板の角部に当接可能なローラを鉛直方向および水平方向に移動させるように構成されている。
【００２８】
このような構成によれば、基板を方向転換させる際には、基板に対してクランプ機構のローラが接触しないようにこのローラを鉛直方向上側に移動させておくことがき、基板の姿勢を矯正する際には、上記ローラを鉛直方向下側に移動させた状態で水平方向に前進させ、このローラを基板の角部に当接させることができる。
【００２９】
他の好ましい実施の形態としては、上記クランプ機構が位置する上記エアステージの端部には、当該エアステージの下方適部に緩衝器を介して支持された補助プレートが設けられており、この補助プレートは、上記クランプ機構のローラが所定の上位置をとるとき、上記エアステージの上面に沿って平坦な面をなす一方、上記ローラが所定の下位置をとるとき、このローラに押されることで上記緩衝器の弾力に抗して下方に変位させられ、そのまま当該ローラが水平方向に前進移動して上記基板の角部に当接するように構成されている。
【００３０】
このような構成によれば、エアステージ上において基板が回転させられる際には、クランプ機構が位置するエアステージの端部が補助プレートによって平坦な面をなすため、この端部を通過する基板の側縁部などが垂れてエアステージの端部に引っ掛かるといったことを防ぐことができる。一方、基板の姿勢を矯正する際には、補助プレートに妨げられることなくこの補助プレートを弾性的に押し下げるようにして基板の角部にローラを当接させることができる。
【００３１】
本願発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本願発明の好ましい実施の形態を、図面を参照して具体的に説明する。図１〜１５は、本願発明に係る基板搬送装置の一実施形態を示している。
【００３３】
図１や図７などに示されているように、本願発明に係る基板搬送装置Ａは、他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４，Ｃとともにガラス基板Ｇを水平に保ちながら搬送するためのものであって、この基板搬送装置Ａは、第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２にガラス基板Ｇを９０度方向転換して搬送しうるように設置されている。他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４は、第２の水平方向Ｆ２から第１の水平方向Ｆ１にガラス基板Ｇを搬送して基板搬送装置Ａへと送り出すように設置されており、これらの基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４は、基板搬送装置Ａと同一または類似の構成要素を備えている。さらに別の基板搬送装置Ｃは、既知のロボットハンドを有するものであって、基板搬送装置Ａとの間でガラス基板Ｇを第２の水平方向Ｆ２に沿って受け渡ししうるように設置されている。なお、搬送の対象となるものとしては、ガラス基板Ｇに限らず、平面視矩形状で薄板状のものであればよい。
【００３４】
図１〜４によく示されているように、基板搬送装置Ａは、エアステージ１、支持手段２Ａ，２Ｂ、および回転手段３をフレーム台４に設けて構成されている。エアステージ１は、ガラス基板Ｇの下面との間に空気圧による緩衝層を形成するためのものであって、複数のエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂを有して構成されている。支持手段２Ａ，２Ｂは、エアステージ１上におけるガラス基板Ｇの側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動可能に支持するものであって、支持手段２Ａ，２Ｂのそれぞれは、たとえばエア駆動方式による上下動作用のアクチュエータ２０、このアクチュエータ２０によって上下させられる可動ブロック２１、およびガラス基板Ｇの側縁部を支持するように可動ブロック２１に設けられた複数のガイドローラ２２を有して構成されている。回転手段３は、エアステージ１の中央開口部１Ａにおいて上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、この回転手段３は、所定の上位置をとる状態でエアステージ１上におけるガラス基板Ｇの下面中央部を支持するとともに、さらに鉛直軸周りに回転することでガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２に９０度方向転換させるものである。
【００３５】
図２によく示されているように、エアステージ１は、複数のエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂを回転手段３の周囲に配置して中央開口部１Ａを形成するように構成されており、全体的には平面視矩形状を呈してガラス基板Ｇと略同一の面積をもつ。図６によく示されているように、エアチャンバー１０Ａ，１０Ｂは、空気供給源（図示略）から可撓性のエアパイプ１１を介して送られてきた圧縮空気が内部に導かれるようになっている。このような空気供給源は、装置ごとに設置されている。エアチャンバー１０Ａ，１０Ｂの上面１０ａには、内部側から外部側へと空気を噴出するための複数の空気噴出孔１０ｂが設けられており、これらの空気噴出孔１０ｂには、空気を通す多孔質部材１２が嵌め込まれている。このようなエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂの上面１０ａは、全体として一様に平坦な面をなしており、その上方に位置するガラス基板Ｇとの間に空気の緩衝層を形成しやすい形状となっている。図２や図４によく示されているように、第１の水平方向Ｆ１から見て前後両端の位置や他の基板搬送装置Ｃのハンド部Ｃ１と対応する位置のエアチャンバー１０Ａは、支持手段２Ａ，２Ｂのものと同様のアクチュエータ２０を介してフレーム台４に支持されており、このアクチュエータ２０によって所定の上位置と下位置との間で上下させられる。その他のエアチャンバー１０Ｂは、フレーム台４に対して固定的に支持されている。
【００３６】
図２および図３によく示されているように、支持手段２Ａ，２Ｂは、エアステージ１の相対する側部にそれぞれ隣接して一対をなすように設けられている。このような支持手段２Ａ，２Ｂの本体となる可動ブロック２１は、第１の水平方向Ｆ１に沿うように配置されているとともに、アクチュエータ２０を介してフレーム台４に支持されており、この可動ブロック２１は、アクチュエータ２０によって所定の上位置と下位置との間で上下させられる。また、可動ブロック２１は、先述したエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂと同様の構造をもっており、可動ブロック２１の上面からは、内部に導かれた空気が複数の空気噴出孔２１ｂを通じて外部へと噴出される。このような可動ブロック２１の上面もまた、全体として一様に平坦な面をなしており、その上方に位置するガラス基板Ｇとの間に空気の緩衝層を形成しやすい形状となっている。図２および図５によく示されているように、エアステージ１に対向する側となる可動ブロック２１の側部には、ガラス基板Ｇの側縁部を支持しながらこのガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１に沿って強制的に移動させるための複数のガイドローラ２２が軸支されており、これらのガイドローラ２２は、第１の水平方向Ｆ１に沿って一定間隔おきに設けられている。可動ブロック２１の適部には、ガイドローラ２２を回転させるためのローラ回転用モータ２３や伝動ベルト２４、プーリギヤ２５が内蔵されている（図５参照）。各ガイドローラ２２は、エアステージ１よりも上方でガラス基板Ｇの下面側縁部に接する小径部２２ａと、この小径部２２ａよりも可動ブロック２１側に位置してガラス基板Ｇの側縁部を規制する大径部２２ｂとをもつ。ローラ回転用モータ２３の回転力は、伝動ベルト２４およびプーリギヤ２５を介して複数のガイドローラ２２に伝わり、これにより複数のガイドローラ２２が同時かつ所定の回転方向に回転する。このようなガイドローラ２２によれば、ガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１に沿って真っ直ぐ移動させることができ、ガラス基板Ｇの位置ずれを防ぐことができる。
【００３７】
図４によく示されているように、回転手段３は、支持手段２Ａ，２Ｂなどのものと同様のアクチュエータ２０、このアクチュエータ２０によって上下させられる可動ベース３０、この可動ベース３０に固定された回転用モータ３１、この回転用モータ３１によって鉛直軸周りに回転させられる回転ユニット３２、ガラス基板Ｇの下面中央部を真空吸着するように回転ユニット３２の上部４箇所に配置された真空吸着盤３３、および真空吸着盤３３に真空状態を発生させるように回転ユニット３２に内蔵された真空ポンプ（図示略）を有して構成されている。可動ベース３０は、エアステージ１の中央開口部１Ａの下方に配置されているとともに、アクチュエータ２０を介してフレーム台４に支持されており、この可動ベース３０は、アクチュエータ２０によって所定の上位置と下位置との間で上下させられる。ガラス基板Ｇが支持手段２Ａ，２Ｂによって支持された後、真空吸着盤３３は、回転ユニット３２などと一体となって所定の上位置まで移動する。これにより、真空吸着盤３３は、支持手段２Ａ，２Ｂのガイドローラ２２よりも上方においてガラス基板Ｇの下面に接する。このとき、真空ポンプによって真空吸着盤３３が真空状態とされるため、これらの真空吸着盤３３がガラス基板Ｇの下面中央部付近となる４箇所を確実に吸着保持する。このようにしてガラス基板Ｇが真空吸着盤３３に吸着保持された後、回転ユニット３２が回転用モータ３１によって９０度回転させられる。その結果、真空吸着盤３３に吸着保持されたガラス基板Ｇが第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２に９０度方向転換する。その後、真空ポンプの動作が停止するとともに、回転ユニット３２が支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１とともに所定の下位置まで移動する。これにより、ガラス基板Ｇがエアステージ１上に保持された状態となる。
【００３８】
他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４は、基板搬送装置Ａと同一または類似の構成要素を用いて構成されているため、これらの構成要素については、図１などに同一符号を付してその説明を省略する。基板搬送装置Ｂ１，Ｂ２は、フレーム台４に固定された複数のエアチャンバー１０Ｂからなるエアステージ１と、ガラス基板Ｇの側縁部を第２の水平方向Ｆ２に沿って移動可能に支持する複数の固定ブロック５とを有して構成されている。固定ブロック５には、基板搬送装置Ａのものと同様のガイドローラ２２が設けられている。これらの基板搬送装置Ｂ１，Ｂ２は、基板搬送装置Ｂ１にセットされたガラス基板Ｇを第２の水平方向Ｆ２に沿って基板搬送装置Ｂ３へと送り出す役割をもつ。
【００３９】
基板搬送装置Ｂ３は、フレーム台４に固定された複数のエアチャンバー１０Ｂからなるエアステージ１と、第１の水平方向Ｆ１に沿うガラス基板Ｇの側縁部を第１の水平方向Ｆ１に移動可能に支持する第１の支持手段２Ａ，２Ｂと、第２の水平方向Ｆ２に沿うガラス基板Ｇの側縁部を第２の水平方向Ｆ２に移動可能に支持する第２の支持手段２Ｃ，２Ｄとを有して構成されている。これら第１および第２の支持手段２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄのうち、ガラス基板Ｇの通過位置にある２つの支持手段２Ｂ，２Ｃについては、先述したエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂと同様の構造をもっている。このような基板搬送装置Ｂ３は、ガラス基板Ｇの向きを変えることなく当該ガラス基板Ｇの搬送方向を第２の水平方向Ｆ２から第１の水平方向Ｆ１に切り換える役割をもつ。
【００４０】
基板搬送装置Ｂ４は、フレーム台４に固定された複数のエアチャンバー１０Ｂからなるエアステージ１と、ガラス基板Ｇの側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動可能に支持する支持手段２Ａ，２Ｂとを有して構成されている。このような基板搬送装置Ｂ４は、基板搬送装置Ｂ３から第１の水平方向Ｆ１に沿って移動してきたガラス基板Ｇをさらに基板搬送装置Ａへと送り出す役割をもつ。
【００４１】
基板搬送装置Ｃのロボットハンドには、第２の水平方向Ｆ２に沿う複数のハンド部Ｃ１が設けられている。これらのハンド部Ｃ１は、基板搬送装置Ａのエアチャンバー１０Ａが所定の下位置にある状態において、第２の水平方向Ｆ２に前進移動するようにしてエアチャンバー１０Ａとガラス基板Ｇとの間に差し入れられる。その後、ハンド部Ｃ１は、エアステージ１よりも上方に位置した状態となり、そのまま第２の水平方向Ｆ２に沿って後退移動する。これにより、ハンド部Ｃ１によってエアステージ１上のガラス基板Ｇが受け取られる。そうした後、ハンド部Ｃ１は、たとえば１８０度方向転換することで基板搬送装置Ａに対して逆向きの姿勢となり、そのまま第２の水平方向Ｆ２に沿って前進移動する。これにより、ガラス基板Ｇが基板搬送装置Ａから第２の水平方向Ｆ２に沿って離間した所定の箇所に送られる。
【００４２】
次に、基板搬送装置Ａの動作を他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４，Ｃの動作とともに説明する。
【００４３】
図７および図８に示されているように、基板搬送装置Ｂ１にセットされたガラス基板Ｇは、ガイドローラ２２によって側縁部のみが支持された状態で第２の水平方向Ｆ２に沿って基板搬送装置Ｂ３へと送り出される。このとき、基板搬送装置Ｂ３における第１の支持手段２Ａ，２Ｂは、エアチャンバー１０Ｂと上面が一致するように所定の下位置にある一方、基板搬送装置Ｂ３における第２の支持手段２Ｃ，２Ｄは、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置するまでは所定の上位置にある。そのため、基板搬送装置Ｂ３へと搬送されてきたガラス基板Ｇは、第２の支持手段２Ｃ，２Ｄのガイドローラ２２によって対応する側縁部が支持される。その後、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置した状態になると、上記とは逆に第２の支持手段２Ｃ，２Ｄがエアチャンバー１０Ｂと上面が一致するように所定の下位置をとる一方、第１の支持手段２Ａ，２Ｂが所定の上位置をとる。これにより、ガラス基板Ｇを支持するものが第２の支持手段２Ｃ，２Ｄから第１の支持手段２Ａ，２Ｂに切り替わり、基板搬送装置Ｂ３は、ガラス基板Ｇを第２の水平方向Ｆ２から第１の水平方向Ｆ１に沿って移動しうる状態となる。
【００４４】
その後、図９に示されているように、ガラス基板Ｇは、基板搬送装置Ｂ３から基板搬送装置Ｂ４を介して基板搬送装置Ａへと送り出され、ガイドローラ２２によって側縁部のみが支持された状態で第１の水平方向Ｆ１に搬送される。このとき、基板搬送装置Ａにおける支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１は、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置するまでは所定の上位置にある。一方、基板搬送装置Ａにおいて上下動作可能なエアチャンバー１０Ａは、固定式のエアチャンバー１０Ｂと上面が一致する位置にある。そのため、基板搬送装置Ａへと搬送されてきたガラス基板Ｇは、支持手段２Ａ，２Ｂのガイドローラ２２によって対応する側縁部が支持された状態で第１の水平方向Ｆ１に移動する。その後、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置した状態になると、ガイドローラ２２の駆動が停止させられる。なお、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置した状態か否かは、エアステージ１の端部などに設けられたセンサ（図示略）がガラス基板Ｇの先端部を検出することで判定される。
【００４５】
以上のようにして基板搬送装置Ｂ１から基板搬送装置Ａへとガラス基板Ｇを搬送する際、基板搬送装置Ａ，Ｂ１〜Ｂ４における全てのエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂやこれらと同じ構造をもつ支持手段２Ａ，２Ｂ，２Ｃは、上面側から空気を噴出している。そのため、ガラス基板Ｇは、側縁部を除く部分がエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂや支持手段２Ａ，２Ｂ，２Ｃとの間に空気圧による緩衝層を介して若干浮上させられた状態にある。これにより、ガラス基板Ｇの側縁部とガイドローラ２２との転がり摩擦が低減することとなり、ガラス基板Ｇに対するパーティクルの付着や傷付きのおそれがほとんどない。
【００４６】
基板搬送装置Ａにおいて、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置して停止した状態になると、図１０および図１１に示されているように、支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１は、所定の下位置まで下げられる。また、その直後かあるいはそれと同時に、真空吸着盤３３は、エアステージ１の中央開口部１Ａを抜けて上側に突き出るように所定の上位置へと移動する。これにより、エアステージ１上におけるガラス基板Ｇは、その下面中央部の複数箇所に真空吸着盤３３が真空吸着した状態となり、これらの真空吸着盤３３によって確実に保持された状態となる。その後、ガラス基板Ｇを保持した状態のまま真空吸着盤３３が全体的に９０度回転する。その結果、ガラス基板Ｇは、エアステージ１上において９０度方向転換した姿勢となる。ガラス基板Ｇが９０度方向転換する際には、ガラス基板Ｇの一部、特にガラス基板Ｇの角部や側縁部などがエアステージ１から逸れて可動ブロック２１の上方に差し掛かった状態になる。そのような状態になるのは一時的ではあるが、その際においても可動ブロック２１の上面側から空気が噴出している。そのため、ガラス基板Ｇが９０度方向転換するといった動作中にあっても、エアステージ１から逸れる角部や側縁部などを含めてガラス基板Ｇの下面全体に空気圧による緩衝層を形成することができ、これによってガラス基板Ｇに対するパーティクルの付着や傷付きを防ぐことができる。
【００４７】
ガラス基板Ｇが９０度方向転換した後、図１２および図１３に示されているように、支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１は、さらに下方となる所定の下位置まで下げられる。また、基板搬送装置Ｃのハンド部Ｃ１と対応する位置にあるエアチャンバー１０Ａも、可動ブロック２１と同程度の下位置まで下げられる。このとき、真空吸着盤３３も真空状態を解除して所定の下位置まで下げられることにより、ガラス基板Ｇは、真空吸着盤３３から離脱してエアチャンバー１０Ｂ上に置かれた状態となる。
【００４８】
そうした後、図１４および図１５に示されているように、基板搬送装置Ｃのハンド部Ｃ１が第２の水平方向Ｆ２に前進移動することでガラス基板Ｇとエアチャンバー１０Ａとの間にハンド部Ｃ１が差し込まれ、このハンド部Ｃ１が十分差し込まれた状態で上方に移動する。その結果、エアチャンバー１０Ｂ上に置かれたガラス基板Ｇがハンド部Ｃ１に受けられた状態となる。その後、ハンド部Ｃ１は、第２の水平方向Ｆ２に沿って後退移動してから１８０度方向転換することで基板搬送装置Ａに対して逆向きの姿勢をとり、そのまま第２の水平方向Ｆ２に沿ってさらに前進移動する。これにより、ガラス基板Ｇは、基板搬送装置Ａから第２の水平方向Ｆ２に沿って離間した所定の箇所へとハンド部Ｃ１によって持ち運ばれる。なお、上記説明した順序とは逆の順序で各基板搬送装置Ａ，Ｂ１〜Ｂ４，Ｃを動作させることにより、上記とは逆方向にガラス基板Ｇを搬送することも可能である。
【００４９】
したがって、本実施形態の基板搬送装置Ａによれば、ガラス基板Ｇは、その側縁部や下面中央部がガイドローラ２２や真空吸着盤３３に接するものの、それ以外の部分が空気圧の緩衝層を介してエアステージ１の上方に浮いた状態とされる。そのため、ガラス基板Ｇに対する接触面積ができる限り小さく抑えられることとなり、ガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２に９０度方向転換して搬送する際には、ガイドローラ２２や真空吸着盤３３などを比較的高速に回転させるようにしても、静電気がそれほど発生することはない。これにより、基板搬送装置Ａによれば、ガラス基板Ｇに対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、ガラス基板Ｇを迅速に方向転換して搬送することができる。
【００５０】
図１６〜２７は、本願発明に係る基板搬送装置の他の実施形態を示している。なお、先述した実施形態の構成要素と同一あるいは類似のものについては、同一符号を付してその説明を省略する。
【００５１】
図１６〜１９の実施形態に係る基板搬送装置Ａ１も、第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２にガラス基板Ｇを９０度方向転換して搬送しうるように設置されたものであるが、この基板搬送装置Ａ１は、ロボットハンドのハンド部Ｃ１に対してガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１に沿って受け渡ししうるように設置されている。
【００５２】
図１６によく示されているように、エアステージ１は、複数のエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂを平面視矩形状に並べて構成されており、支持手段２Ａ，２Ｂは、複数の可動ブロック２１をエアステージ１の両側部に沿うように並べて構成されている。これらエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂおよび可動ブロック２１は、ガラス基板Ｇの回転移動範囲Ｇ１を全面的に占めるように配置されている。このような配置形態によれば、ガラス基板Ｇがエアステージ１上において回転させられる際、ガラス基板Ｇの下面全体にわたって空気圧の緩衝層が形成されるため、ガラス基板Ｇの側縁部や角部が中央部よりも垂れてエアステージ１の端部などに引っ掛かるといったおそれがない。
【００５３】
図１７〜１９に示されているように、回転手段３は、先述した実施形態によるものと同様に回転ユニット３２や真空吸着盤３３などを有するのに加え、エアステージ１の中央開口部１Ａを平坦に塞ぐための補助プレート３４と、この補助プレート３４の下面中央部を回転ユニット３２の上部に弾性的に支持する緩衝器３５とを有して構成されている。補助プレート３４には、各真空吸着盤３３に対応してこれらの嵌入可能な穴３４Ａが設けられている。緩衝器３５は、ピストン状の可動部材３５Ａとシリンダ状の固定部材３５Ｂとの間にバネ３５Ｃを装填して構成されている。
【００５４】
図１７に示されているように、ガラス基板Ｇがエアステージ１上に搬送されてくる際には、可動ベース（図示略）などとともに回転ユニット３２が所定の下位置まで引き下げられた状態にある。このとき、補助プレート３４は、緩衝器３５を介して真空吸着盤３３よりも上方に支持された状態にあり、隣接するエアチャンバー１０Ｂと上面が概ね一致している。つまり、エアステージ１の中央開口部１Ａが補助プレート３４によって平坦に塞がれている。そのため、ガラス基板Ｇの先端部が中央開口部１Ａを通過する際には、ガラス基板Ｇの先端部付近にも空気圧による緩衝層が確実に形成される。これにより、ガラス基板Ｇの先端部が垂れて中央開口部１Ａの縁に引っ掛かるといったおそれはない。
【００５５】
その後、図１８に示されているように、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置して停止した状態になると、回転ユニット３２が所定の下位置から上位置へと上昇させられる。このとき、ガラス基板Ｇは、空気圧の緩衝層によってエアステージ１上で浮上させられた状態にあり、このガラス基板Ｇの下面中央部に補助プレート３４が当接する。補助プレート３４がガラス基板Ｇに当接すると、このガラス基板Ｇによって緩衝器３５のバネ３５Ｃが徐々に縮められ、それに伴い補助プレート３４と真空吸着盤３３との距離が次第に短くなる。
【００５６】
さらにそうして回転ユニット３２が所定の上位置まで上昇すると、図１９に示されているように、真空吸着盤３３は、中央開口部１Ａを抜けて上側に突き出た状態で補助プレート３４の穴３４Ａに嵌入し、この補助プレート３４と一体になってガラス基板Ｇの下面中央部に接する。これにより、エアステージ１上のガラス基板Ｇは、真空吸着盤３３によって真空吸着された状態で保持される。その後、ガラス基板Ｇを保持した状態のまま真空吸着盤３３が全体的に９０度回転する。その結果、ガラス基板Ｇは、エアステージ１上において９０度方向転換した姿勢となる。このとき、補助プレート３４は、ガラス基板Ｇと静的に接した状態で真空吸着盤３３とともに回転するため、ガラス基板Ｇに傷などが付くおそれはない。
【００５７】
ガラス基板Ｇが９０度方向転換した後、真空吸着盤３３は、真空状態を解除して図１７に示されるような元の所定の下位置まで下げられる。その後、真空吸着盤３３から離脱したガラス基板Ｇは、先述した実施形態と同様にハンド部Ｃ１によってエアステージ上１から他の箇所へと持ち運ばれる。
【００５８】
したがって、本実施形態の基板搬送装置Ａ１によれば、先述した実施形態によるものと同様の効果が得られるのに加え、エアステージ１上へとガラス基板Ｇを適切に搬送することができるとともに、エアステージ１上においてもガラス基板Ｇを安定して回転させることができる。
【００５９】
なお、図２０に示されているように、補助プレート３４とこれに隣接するエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂとの間隔が比較的大きくなる場合には、補助プレート３４に対向するエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂの側部にこれらと同様の空気を噴出するエアパイプ４０を設けてもよい。これによれば、エアステージ１上へとガラス基板Ｇが搬送されてくる際、ガラス基板Ｇの先端部が補助プレート３４とエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂとの間に引っ掛かるといったことを効果的に防止することができる。
【００６０】
また、図２１に示されているように、補助プレート３４を支持する緩衝器３５については、補助プレート３４の複数箇所を支えるように設けてもよい。これによれば、補助プレート３４をより安定した水平姿勢に保つことができる。
【００６１】
図２２の実施形態に係る基板搬送装置Ａ２においては、エアステージ１上に保持された例えばガラス基板Ｇの角部を対角方向（第１の水平方向Ｆ１あるいは第２の水平方向Ｆ２と４５度をなす水平方向）から挟持するように、エアステージ１の４箇所にクランプ機構７が設けられている。このクランプ機構７は、エアステージ１の下方適部から対角方向に沿って外側に延びる水平ロッド７０と、水平ロッド７０の先端に固定された平面視Ｍ字状の金具７１と、この金具７１の各先端に回転自在に支持されたローラ７２を有して構成されている。特に図示しないが、エアステージ１の下方適部には、水平ロッド７０を対角方向に動かすためのアクチュエータが設けられている。このようなクランプ機構７によれば、ガラス基板Ｇがガイドローラ２２から真空吸着盤３３へと移る際や、真空吸着盤３３からエアステージ１へと移った直後、ガラス基板Ｇの角部にローラ７２が当接するように水平ロッド７０が動かされる。これにより、ガラス基板Ｇがガイドローラ２２によって規制されない状態となっても、ガラス基板Ｇの角部が対角方向から挟持されるため、ガラス基板Ｇの姿勢を適切な姿勢に矯正することができる。
【００６２】
図２３〜２７の実施形態に係る基板搬送装置Ａ３においては、クランプ機構７がエアステージ１の端部上方に設けられており（図２３参照）、ガラス基板Ｇの角部に当接するローラ７２が鉛直方向移動用のアクチュエータ７３および水平方向移動用のアクチュエータ７４によって移動させられるように構成されている（図２５〜２７参照）。ローラ７２の下部中心には、他の部材に接しながら回転するボール７２Ａが設けられている。また、図２４によく示されているように、クランプ機構７が位置するエアステージ１の端部には、ガラス基板Ｇの角部に対応して切り欠き端部１Ｂが形成されている。この切り欠き端部１Ｂには、エアステージ１の下方適部に緩衝器８５を介して支持された補助プレート８４が設けられている（図２５〜２７参照）。補助プレート８４は、切り欠き端部１Ｂを平坦に塞ぐように設けられており、緩衝器８５は、先述した実施形態と同様に、ピストン状の可動部材８５Ａとシリンダ状の固定部材８５Ｂとの間にバネ８５Ｃを装填して構成されている。
【００６３】
図２５に示されているように、ガラス基板Ｇがエアステージ１上に搬送されてくる際や回転させられる際には、クランプ機構７のローラ７２がガラス基板Ｇに当接しない所定の上位置にあり、補助プレート８４は、エアチャンバー１０Ｂと上面が概ね一致した状態で緩衝器８５に保持されている。つまり、エアステージ１の切り欠き端部１Ｂが補助プレート８４によって平坦に塞がれている。そのため、エアステージ１上においてガラス基板Ｇが移動や回転する際には、ガラス基板Ｇの角部が垂れて切り欠き部１Ｂの縁に引っ掛かるといったおそれはない。
【００６４】
その後、図２６に示されているように、ガラス基板Ｇの姿勢を矯正する際には、クランプ機構７のローラ７２が所定の上位置から下位置へと下降させられる。このとき、ローラ７２の下部中心に設けられたボール７２Ａが補助プレート８４に当接しながら補助プレート８４を押し下げる。これにより、緩衝器８５のバネ８５Ｃが縮められ、補助プレート８４がエアチャンバー１０Ｂの上面よりも下方に位置した状態となる。その結果、ローラ７２も、エアチャンバー１０Ｂの上面より若干下がった位置に配置され、ガラス基板Ｇの角部に対して適切に当接可能な体勢をなる。
【００６５】
さらにそうした後、図２７に示されているように、補助プレート８４を押し下げた状態のままローラ７２が水平方向に前進移動させられ、このローラ７２がガラス基板Ｇの角部に当接する。これにより、ガラス基板Ｇの角部がローラ７２によって挟持された状態となり、エアステージ１上におけるガラス基板Ｇの姿勢が適切に矯正される。以上のようにしてガラス基板Ｇの姿勢を矯正した後、ローラ７２は、図２５に示されるような元の所定の上位置まで引き上げられ、さらにその後、ガラス基板Ｇは、適正な姿勢を保ちながら搬送される。
【００６６】
したがって、本実施形態の基板搬送装置Ａ３によれば、先述した実施形態によるものと同様の効果が得られるほか、例えばエアステージ１上においてガラス基板Ｇが回転させられる際には、ガラス基板Ｇの角部が通過するエアステージ１の切り欠き端部１Ｂが補助プレート８４によって平坦な面をなすため、ガラス基板Ｇの角部が垂れてエアステージ１の切り欠き端部１Ｂに引っ掛かるといったことを防ぐことができる。一方、ガラス基板Ｇの姿勢を矯正する際には、補助プレート８４に妨げられることなくこの補助プレート８４を弾性的に押し下げるようにしてガラス基板Ｇの角部に姿勢矯正用のローラ７２を当接させることができる。また、クランプ機構７は、エアステージ１の上方に設けられているため、クランプ機構７を含む基板搬送装置Ａ３の設置スペースをできる限り抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本願発明に係る基板搬送装置の一実施形態を示す全体斜視図である。
【図２】図１に示す基板搬送装置の上面図である。
【図３】図１に示す基板搬送装置の側面図である。
【図４】図１に示す基板搬送装置の内部構造図である。
【図５】図１に示す基板搬送装置に含まれる支持手段の一部断面図である。
【図６】図１に示す基板搬送装置に含まれるエアステージの一部断面図である。
【図７】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図８】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図９】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１０】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１１】図１０に示す状態の基板搬送装置の内部構造図である。
【図１２】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１３】図１２に示す状態の基板搬送装置の内部構造図である。
【図１４】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１５】図１４に示す状態の基板搬送装置の内部構造図である。
【図１６】他の実施形態に係る基板搬送装置の上面図である。
【図１７】図１６に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図１８】図１６に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図１９】図１６に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図２０】他の実施形態に係る基板搬送装置の要部断面図である。
【図２１】他の実施形態に係る基板搬送装置の要部上面図である。
【図２２】他の実施形態に係る基板搬送装置の上面図である。
【図２３】他の実施形態に係る基板搬送装置の上面図である。
【図２４】図２３に示す基板搬送装置の要部上面図である。
【図２５】図２３に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図２６】図２３に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図２７】図２３に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
Ａ 基板搬送装置
Ｇ ガラス基板
Ｆ１ 第１の水平方向
Ｆ２ 第２の水平方向
１ エアステージ
１Ａ 中央開口部
１Ｂ 切り欠き端部
１０ｂ 空気噴出孔
１０Ａ，１０Ｂ エアチャンバー
２Ａ，２Ｂ 支持手段
２０ アクチュエータ
２１ 可動ブロック
２１ｂ 空気噴出孔
２２ ガイドローラ
３ 回転手段
３０ 可動ベース
３１ 回転用のモータ
３２ 回転ユニット
３３ 真空吸着盤
３４ 補助プレート
３５ 緩衝器
７ クランプ機構
７２ ローラ
８４ 補助プレート
８５ 緩衝器
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、たとえばガラス基板を方向転換して搬送するための基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の基板搬送装置としては、たとえば特許文献１に開示されたものがある。この特許文献１に開示された基板搬送装置においては、第１の水平方向に沿って搬送されてきた基板を９０度方向転換させて第２の水平方向に送り出すように、所定の箇所に多数個の第１のローラおよび第２のローラが設けられている。第１のローラは、基板の下面を全体的に支持しつつ当該基板を第１の水平方向に沿って移動させるように配置されており、第２のローラは、基板の下面を全体的に支持しつつ当該基板を第２の水平方向に沿って移動させるように配置されている。これら第１および第２のローラは、互いに重なり合うことなく排他的に上下動作および回転するように構成されている。すなわち、第１の水平方向に沿って搬送されてきた基板を受け取る際には、第１のローラが高位置をとって回転するとともに第２のローラが低位置をとり、基板は、第１のローラを介して第１の水平方向に移動させられる。一方、第２の水平方向に沿って基板を送り出す際には、上記とは逆に第１のローラが低位置をとるとともに第２のローラが高位置をとって回転し、基板は、第２のローラを介して第２の水平方向に移動させられる。これにより、基板は、第１の水平方向から第２の水平方向に９０°方向転換させられる。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−７７５９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の基板搬送装置では、第１および第２のローラが基板の下面全体を支持するように配置されているため、基板とローラとの接触面積が比較的大きく、回転するローラと基板との摩擦によって静電気が発生しやすい。そのため、基板には、ゴミなどのパーティクルが付きやすく、さらには傷などが付くおそれがあった。一方、基板を方向転換させる際に第１および第２のローラを比較的ゆっくりと上下動作させたり低速で回転させれば、パーティクルの付着や傷付きをある程度緩和できるが、そうすると基板を迅速に方向転換させることができなくなってしまう。
【０００５】
本願発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる基板搬送装置を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【０００７】
本願発明によって提供される基板搬送装置は、平面視矩形状の基板を水平に保ちながら当該基板を方向転換して搬送するための基板搬送装置であって、上記基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージと、上記エアステージに隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の側縁部を第１の水平方向に沿って移動しうるように支持する支持手段と、上記エアステージの中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第１の水平方向から異なる第２の水平方向にあるいはその逆方向に方向転換させる回転手段と、を備えたことを特徴としている。
【０００８】
好ましい実施の形態としては、上記支持手段は、上記第１の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の側縁部を支持し、その後、上記回転手段は、上記支持手段に代わって上記基板の下面中央部を支持しつつ鉛直軸周りに回転することにより、当該基板を上記第１の水平方向から上記第２の水平方向に方向転換させる。
【０００９】
他の好ましい実施の形態としては、上記回転手段は、上記第２の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第２の水平方向から上記第１の水平方向に方向転換させ、その後、上記支持手段は、上記回転手段に替わって上記基板の側縁部を支持することにより、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させる。
【００１０】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージは、全体的に平面視矩形状を呈して上記基板と略同一の面積をもつように構成されている。
【００１１】
他の好ましい実施の形態としては、上記支持手段は、上記エアステージの相対する側部にそれぞれ隣接して一対をなすように設けられている。
【００１２】
このような構成によれば、基板は、その側縁部や下面中央部が支持手段や回転手段に接するものの、それ以外の部分は空気圧の緩衝層を介してエアステージの上方に浮いた状態となる。そのため、基板の接触面積はできる限り小さく抑えられ、たとえば基板を第１の水平方向から第２の水平方向に方向転換して搬送する際には、支持手段および回転手段を比較的高速に動作させるようにしても、静電気がそれほど発生することはない。したがって、本願発明に係る基板搬送装置によれば、基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる。
【００１３】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージは、空気噴出孔を上面に有する複数のエアチャンバーを上記回転手段の周囲に配置するようにして構成されており、これら複数のエアチャンバーのうちの少なくとも１つは、上記第２の水平方向に沿って他の基板搬送装置との間で上記基板を受け渡ししうるように、その際には上記支持手段とともに所定の下位置をとるべく上下動作可能に設けられている。
【００１４】
このような構成によれば、たとえば他の基板搬送装置としてのロボットハンドが第２の水平方向に沿って移動しながら所定の下位置まで下がったエアチャンバーと基板との間に入り込むことができ、他の基板搬送装置に対して基板を受け渡すことができる。
【００１５】
他の好ましい実施の形態としては、上記支持手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ブロックと、上記基板の側縁部を支持するように上記可動ブロックに設けられており、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させるための複数のガイドローラとを有して構成されている。
【００１６】
このような構成によれば、複数のガイドローラによって基板の側縁部を支持しながら当該基板を第１の水平方向にスムーズに移動させることができる。
【００１７】
他の好ましい実施の形態としては、上記可動ブロックの上面には、空気噴出孔が設けられている。
【００１８】
このような構成によれば、基板を方向転換させる際、基板の一部が可動ブロックの上方に差し掛かった状態になるものの、そのような部分も含めて基板の下面全体に空気圧による緩衝層を形成することができる。
【００１９】
他の好ましい実施の形態としては、上記回転手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ベースと、この可動ベースに設けられた回転用のモータと、このモータによって鉛直軸周りに回転させられる回転ユニットと、上記基板の下面中央部を真空吸着するように上記回転ユニットの上部に設けられた複数の真空吸着盤と、これら複数の真空吸着盤に真空状態を発生させるための真空ポンプとを有して構成されている。
【００２０】
このような構成によれば、基板を真空吸着盤により回転ユニットの上部に確実に保持した状態で当該基板を鉛直軸周りに回転させることができる。
【００２１】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージの中央部には、開口部が形成されているとともに、この中央開口部と対応する位置に上記回転手段が配置されており、上記回転手段はさらに、上記複数の真空吸着盤が嵌入可能な複数の穴をもち、上記回転ユニットの上部に緩衝器を介して支持された補助プレートを有しており、この補助プレートは、上記可動ベースが所定の下位置をとるとき、上記複数の真空吸着盤よりも上方に位置して上記中央開口部を平坦に塞ぐように構成されている。
【００２２】
このような構成によれば、エアステージ上に基板が搬送されてくる際、基板の先端部がエアステージの中央開口部に差し掛かった状態になるものの、当該中央開口部が補助プレートによって平坦に塞がれるため、基板の先端部が垂れて中央開口部に引っ掛かるといったことを防ぐことができる。
【００２３】
他の好ましい実施の形態としては、上記補助プレートは、上記エアステージ上に上記基板が配置された状態で上記可動ベースが所定の上位置をとるとき、上記基板に押し返されることで上記緩衝器の弾力に抗して変位させられ、上記複数の真空吸着盤が上記複数の穴に嵌入した状態で当該基板の下面中央部を真空吸着するように構成されている。
【００２４】
このような構成によれば、真空吸着盤を用いて基板を保持する際、補助プレートに妨げられることなくこの補助プレートの穴を介して基板の下面中央部に真空吸着盤を接触させることができ、真空吸着によって確実に基板を保持することができる。
【００２５】
他の好ましい実施の形態としては、上記エアステージには、上記基板の相対する角部を挟持可能なクランプ機構が設けられている。
【００２６】
このような構成によれば、エアステージ上における基板の姿勢をクランプ機構によって矯正することができる。
【００２７】
他の好ましい実施の形態としては、上記クランプ機構は、上記エアステージの端部上方に設けられており、上記基板の角部に当接可能なローラを鉛直方向および水平方向に移動させるように構成されている。
【００２８】
このような構成によれば、基板を方向転換させる際には、基板に対してクランプ機構のローラが接触しないようにこのローラを鉛直方向上側に移動させておくことがき、基板の姿勢を矯正する際には、上記ローラを鉛直方向下側に移動させた状態で水平方向に前進させ、このローラを基板の角部に当接させることができる。
【００２９】
他の好ましい実施の形態としては、上記クランプ機構が位置する上記エアステージの端部には、当該エアステージの下方適部に緩衝器を介して支持された補助プレートが設けられており、この補助プレートは、上記クランプ機構のローラが所定の上位置をとるとき、上記エアステージの上面に沿って平坦な面をなす一方、上記ローラが所定の下位置をとるとき、このローラに押されることで上記緩衝器の弾力に抗して下方に変位させられ、そのまま当該ローラが水平方向に前進移動して上記基板の角部に当接するように構成されている。
【００３０】
このような構成によれば、エアステージ上において基板が回転させられる際には、クランプ機構が位置するエアステージの端部が補助プレートによって平坦な面をなすため、この端部を通過する基板の側縁部などが垂れてエアステージの端部に引っ掛かるといったことを防ぐことができる。一方、基板の姿勢を矯正する際には、補助プレートに妨げられることなくこの補助プレートを弾性的に押し下げるようにして基板の角部にローラを当接させることができる。
【００３１】
本願発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本願発明の好ましい実施の形態を、図面を参照して具体的に説明する。図１〜１５は、本願発明に係る基板搬送装置の一実施形態を示している。
【００３３】
図１や図７などに示されているように、本願発明に係る基板搬送装置Ａは、他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４，Ｃとともにガラス基板Ｇを水平に保ちながら搬送するためのものであって、この基板搬送装置Ａは、第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２にガラス基板Ｇを９０度方向転換して搬送しうるように設置されている。他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４は、第２の水平方向Ｆ２から第１の水平方向Ｆ１にガラス基板Ｇを搬送して基板搬送装置Ａへと送り出すように設置されており、これらの基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４は、基板搬送装置Ａと同一または類似の構成要素を備えている。さらに別の基板搬送装置Ｃは、既知のロボットハンドを有するものであって、基板搬送装置Ａとの間でガラス基板Ｇを第２の水平方向Ｆ２に沿って受け渡ししうるように設置されている。なお、搬送の対象となるものとしては、ガラス基板Ｇに限らず、平面視矩形状で薄板状のものであればよい。
【００３４】
図１〜４によく示されているように、基板搬送装置Ａは、エアステージ１、支持手段２Ａ，２Ｂ、および回転手段３をフレーム台４に設けて構成されている。エアステージ１は、ガラス基板Ｇの下面との間に空気圧による緩衝層を形成するためのものであって、複数のエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂを有して構成されている。支持手段２Ａ，２Ｂは、エアステージ１上におけるガラス基板Ｇの側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動可能に支持するものであって、支持手段２Ａ，２Ｂのそれぞれは、たとえばエア駆動方式による上下動作用のアクチュエータ２０、このアクチュエータ２０によって上下させられる可動ブロック２１、およびガラス基板Ｇの側縁部を支持するように可動ブロック２１に設けられた複数のガイドローラ２２を有して構成されている。回転手段３は、エアステージ１の中央開口部１Ａにおいて上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、この回転手段３は、所定の上位置をとる状態でエアステージ１上におけるガラス基板Ｇの下面中央部を支持するとともに、さらに鉛直軸周りに回転することでガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２に９０度方向転換させるものである。
【００３５】
図２によく示されているように、エアステージ１は、複数のエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂを回転手段３の周囲に配置して中央開口部１Ａを形成するように構成されており、全体的には平面視矩形状を呈してガラス基板Ｇと略同一の面積をもつ。図６によく示されているように、エアチャンバー１０Ａ，１０Ｂは、空気供給源（図示略）から可撓性のエアパイプ１１を介して送られてきた圧縮空気が内部に導かれるようになっている。このような空気供給源は、装置ごとに設置されている。エアチャンバー１０Ａ，１０Ｂの上面１０ａには、内部側から外部側へと空気を噴出するための複数の空気噴出孔１０ｂが設けられており、これらの空気噴出孔１０ｂには、空気を通す多孔質部材１２が嵌め込まれている。このようなエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂの上面１０ａは、全体として一様に平坦な面をなしており、その上方に位置するガラス基板Ｇとの間に空気の緩衝層を形成しやすい形状となっている。図２や図４によく示されているように、第１の水平方向Ｆ１から見て前後両端の位置や他の基板搬送装置Ｃのハンド部Ｃ１と対応する位置のエアチャンバー１０Ａは、支持手段２Ａ，２Ｂのものと同様のアクチュエータ２０を介してフレーム台４に支持されており、このアクチュエータ２０によって所定の上位置と下位置との間で上下させられる。その他のエアチャンバー１０Ｂは、フレーム台４に対して固定的に支持されている。
【００３６】
図２および図３によく示されているように、支持手段２Ａ，２Ｂは、エアステージ１の相対する側部にそれぞれ隣接して一対をなすように設けられている。このような支持手段２Ａ，２Ｂの本体となる可動ブロック２１は、第１の水平方向Ｆ１に沿うように配置されているとともに、アクチュエータ２０を介してフレーム台４に支持されており、この可動ブロック２１は、アクチュエータ２０によって所定の上位置と下位置との間で上下させられる。また、可動ブロック２１は、先述したエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂと同様の構造をもっており、可動ブロック２１の上面からは、内部に導かれた空気が複数の空気噴出孔２１ｂを通じて外部へと噴出される。このような可動ブロック２１の上面もまた、全体として一様に平坦な面をなしており、その上方に位置するガラス基板Ｇとの間に空気の緩衝層を形成しやすい形状となっている。図２および図５によく示されているように、エアステージ１に対向する側となる可動ブロック２１の側部には、ガラス基板Ｇの側縁部を支持しながらこのガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１に沿って強制的に移動させるための複数のガイドローラ２２が軸支されており、これらのガイドローラ２２は、第１の水平方向Ｆ１に沿って一定間隔おきに設けられている。可動ブロック２１の適部には、ガイドローラ２２を回転させるためのローラ回転用モータ２３や伝動ベルト２４、プーリギヤ２５が内蔵されている（図５参照）。各ガイドローラ２２は、エアステージ１よりも上方でガラス基板Ｇの下面側縁部に接する小径部２２ａと、この小径部２２ａよりも可動ブロック２１側に位置してガラス基板Ｇの側縁部を規制する大径部２２ｂとをもつ。ローラ回転用モータ２３の回転力は、伝動ベルト２４およびプーリギヤ２５を介して複数のガイドローラ２２に伝わり、これにより複数のガイドローラ２２が同時かつ所定の回転方向に回転する。このようなガイドローラ２２によれば、ガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１に沿って真っ直ぐ移動させることができ、ガラス基板Ｇの位置ずれを防ぐことができる。
【００３７】
図４によく示されているように、回転手段３は、支持手段２Ａ，２Ｂなどのものと同様のアクチュエータ２０、このアクチュエータ２０によって上下させられる可動ベース３０、この可動ベース３０に固定された回転用モータ３１、この回転用モータ３１によって鉛直軸周りに回転させられる回転ユニット３２、ガラス基板Ｇの下面中央部を真空吸着するように回転ユニット３２の上部４箇所に配置された真空吸着盤３３、および真空吸着盤３３に真空状態を発生させるように回転ユニット３２に内蔵された真空ポンプ（図示略）を有して構成されている。可動ベース３０は、エアステージ１の中央開口部１Ａの下方に配置されているとともに、アクチュエータ２０を介してフレーム台４に支持されており、この可動ベース３０は、アクチュエータ２０によって所定の上位置と下位置との間で上下させられる。ガラス基板Ｇが支持手段２Ａ，２Ｂによって支持された後、真空吸着盤３３は、回転ユニット３２などと一体となって所定の上位置まで移動する。これにより、真空吸着盤３３は、支持手段２Ａ，２Ｂのガイドローラ２２よりも上方においてガラス基板Ｇの下面に接する。このとき、真空ポンプによって真空吸着盤３３が真空状態とされるため、これらの真空吸着盤３３がガラス基板Ｇの下面中央部付近となる４箇所を確実に吸着保持する。このようにしてガラス基板Ｇが真空吸着盤３３に吸着保持された後、回転ユニット３２が回転用モータ３１によって９０度回転させられる。その結果、真空吸着盤３３に吸着保持されたガラス基板Ｇが第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２に９０度方向転換する。その後、真空ポンプの動作が停止するとともに、回転ユニット３２が支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１とともに所定の下位置まで移動する。これにより、ガラス基板Ｇがエアステージ１上に保持された状態となる。
【００３８】
他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４は、基板搬送装置Ａと同一または類似の構成要素を用いて構成されているため、これらの構成要素については、図１などに同一符号を付してその説明を省略する。基板搬送装置Ｂ１，Ｂ２は、フレーム台４に固定された複数のエアチャンバー１０Ｂからなるエアステージ１と、ガラス基板Ｇの側縁部を第２の水平方向Ｆ２に沿って移動可能に支持する複数の固定ブロック５とを有して構成されている。固定ブロック５には、基板搬送装置Ａのものと同様のガイドローラ２２が設けられている。これらの基板搬送装置Ｂ１，Ｂ２は、基板搬送装置Ｂ１にセットされたガラス基板Ｇを第２の水平方向Ｆ２に沿って基板搬送装置Ｂ３へと送り出す役割をもつ。
【００３９】
基板搬送装置Ｂ３は、フレーム台４に固定された複数のエアチャンバー１０Ｂからなるエアステージ１と、第１の水平方向Ｆ１に沿うガラス基板Ｇの側縁部を第１の水平方向Ｆ１に移動可能に支持する第１の支持手段２Ａ，２Ｂと、第２の水平方向Ｆ２に沿うガラス基板Ｇの側縁部を第２の水平方向Ｆ２に移動可能に支持する第２の支持手段２Ｃ，２Ｄとを有して構成されている。これら第１および第２の支持手段２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄのうち、ガラス基板Ｇの通過位置にある２つの支持手段２Ｂ，２Ｃについては、先述したエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂと同様の構造をもっている。このような基板搬送装置Ｂ３は、ガラス基板Ｇの向きを変えることなく当該ガラス基板Ｇの搬送方向を第２の水平方向Ｆ２から第１の水平方向Ｆ１に切り換える役割をもつ。
【００４０】
基板搬送装置Ｂ４は、フレーム台４に固定された複数のエアチャンバー１０Ｂからなるエアステージ１と、ガラス基板Ｇの側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動可能に支持する支持手段２Ａ，２Ｂとを有して構成されている。このような基板搬送装置Ｂ４は、基板搬送装置Ｂ３から第１の水平方向Ｆ１に沿って移動してきたガラス基板Ｇをさらに基板搬送装置Ａへと送り出す役割をもつ。
【００４１】
基板搬送装置Ｃのロボットハンドには、第２の水平方向Ｆ２に沿う複数のハンド部Ｃ１が設けられている。これらのハンド部Ｃ１は、基板搬送装置Ａのエアチャンバー１０Ａが所定の下位置にある状態において、第２の水平方向Ｆ２に前進移動するようにしてエアチャンバー１０Ａとガラス基板Ｇとの間に差し入れられる。その後、ハンド部Ｃ１は、エアステージ１よりも上方に位置した状態となり、そのまま第２の水平方向Ｆ２に沿って後退移動する。これにより、ハンド部Ｃ１によってエアステージ１上のガラス基板Ｇが受け取られる。そうした後、ハンド部Ｃ１は、たとえば１８０度方向転換することで基板搬送装置Ａに対して逆向きの姿勢となり、そのまま第２の水平方向Ｆ２に沿って前進移動する。これにより、ガラス基板Ｇが基板搬送装置Ａから第２の水平方向Ｆ２に沿って離間した所定の箇所に送られる。
【００４２】
次に、基板搬送装置Ａの動作を他の基板搬送装置Ｂ１〜Ｂ４，Ｃの動作とともに説明する。
【００４３】
図７および図８に示されているように、基板搬送装置Ｂ１にセットされたガラス基板Ｇは、ガイドローラ２２によって側縁部のみが支持された状態で第２の水平方向Ｆ２に沿って基板搬送装置Ｂ３へと送り出される。このとき、基板搬送装置Ｂ３における第１の支持手段２Ａ，２Ｂは、エアチャンバー１０Ｂと上面が一致するように所定の下位置にある一方、基板搬送装置Ｂ３における第２の支持手段２Ｃ，２Ｄは、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置するまでは所定の上位置にある。そのため、基板搬送装置Ｂ３へと搬送されてきたガラス基板Ｇは、第２の支持手段２Ｃ，２Ｄのガイドローラ２２によって対応する側縁部が支持される。その後、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置した状態になると、上記とは逆に第２の支持手段２Ｃ，２Ｄがエアチャンバー１０Ｂと上面が一致するように所定の下位置をとる一方、第１の支持手段２Ａ，２Ｂが所定の上位置をとる。これにより、ガラス基板Ｇを支持するものが第２の支持手段２Ｃ，２Ｄから第１の支持手段２Ａ，２Ｂに切り替わり、基板搬送装置Ｂ３は、ガラス基板Ｇを第２の水平方向Ｆ２から第１の水平方向Ｆ１に沿って移動しうる状態となる。
【００４４】
その後、図９に示されているように、ガラス基板Ｇは、基板搬送装置Ｂ３から基板搬送装置Ｂ４を介して基板搬送装置Ａへと送り出され、ガイドローラ２２によって側縁部のみが支持された状態で第１の水平方向Ｆ１に搬送される。このとき、基板搬送装置Ａにおける支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１は、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置するまでは所定の上位置にある。一方、基板搬送装置Ａにおいて上下動作可能なエアチャンバー１０Ａは、固定式のエアチャンバー１０Ｂと上面が一致する位置にある。そのため、基板搬送装置Ａへと搬送されてきたガラス基板Ｇは、支持手段２Ａ，２Ｂのガイドローラ２２によって対応する側縁部が支持された状態で第１の水平方向Ｆ１に移動する。その後、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置した状態になると、ガイドローラ２２の駆動が停止させられる。なお、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置した状態か否かは、エアステージ１の端部などに設けられたセンサ（図示略）がガラス基板Ｇの先端部を検出することで判定される。
【００４５】
以上のようにして基板搬送装置Ｂ１から基板搬送装置Ａへとガラス基板Ｇを搬送する際、基板搬送装置Ａ，Ｂ１〜Ｂ４における全てのエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂやこれらと同じ構造をもつ支持手段２Ａ，２Ｂ，２Ｃは、上面側から空気を噴出している。そのため、ガラス基板Ｇは、側縁部を除く部分がエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂや支持手段２Ａ，２Ｂ，２Ｃとの間に空気圧による緩衝層を介して若干浮上させられた状態にある。これにより、ガラス基板Ｇの側縁部とガイドローラ２２との転がり摩擦が低減することとなり、ガラス基板Ｇに対するパーティクルの付着や傷付きのおそれがほとんどない。
【００４６】
基板搬送装置Ａにおいて、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置して停止した状態になると、図１０および図１１に示されているように、支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１は、所定の下位置まで下げられる。また、その直後かあるいはそれと同時に、真空吸着盤３３は、エアステージ１の中央開口部１Ａを抜けて上側に突き出るように所定の上位置へと移動する。これにより、エアステージ１上におけるガラス基板Ｇは、その下面中央部の複数箇所に真空吸着盤３３が真空吸着した状態となり、これらの真空吸着盤３３によって確実に保持された状態となる。その後、ガラス基板Ｇを保持した状態のまま真空吸着盤３３が全体的に９０度回転する。その結果、ガラス基板Ｇは、エアステージ１上において９０度方向転換した姿勢となる。ガラス基板Ｇが９０度方向転換する際には、ガラス基板Ｇの一部、特にガラス基板Ｇの角部や側縁部などがエアステージ１から逸れて可動ブロック２１の上方に差し掛かった状態になる。そのような状態になるのは一時的ではあるが、その際においても可動ブロック２１の上面側から空気が噴出している。そのため、ガラス基板Ｇが９０度方向転換するといった動作中にあっても、エアステージ１から逸れる角部や側縁部などを含めてガラス基板Ｇの下面全体に空気圧による緩衝層を形成することができ、これによってガラス基板Ｇに対するパーティクルの付着や傷付きを防ぐことができる。
【００４７】
ガラス基板Ｇが９０度方向転換した後、図１２および図１３に示されているように、支持手段２Ａ，２Ｂの可動ブロック２１は、さらに下方となる所定の下位置まで下げられる。また、基板搬送装置Ｃのハンド部Ｃ１と対応する位置にあるエアチャンバー１０Ａも、可動ブロック２１と同程度の下位置まで下げられる。このとき、真空吸着盤３３も真空状態を解除して所定の下位置まで下げられることにより、ガラス基板Ｇは、真空吸着盤３３から離脱してエアチャンバー１０Ｂ上に置かれた状態となる。
【００４８】
そうした後、図１４および図１５に示されているように、基板搬送装置Ｃのハンド部Ｃ１が第２の水平方向Ｆ２に前進移動することでガラス基板Ｇとエアチャンバー１０Ａとの間にハンド部Ｃ１が差し込まれ、このハンド部Ｃ１が十分差し込まれた状態で上方に移動する。その結果、エアチャンバー１０Ｂ上に置かれたガラス基板Ｇがハンド部Ｃ１に受けられた状態となる。その後、ハンド部Ｃ１は、第２の水平方向Ｆ２に沿って後退移動してから１８０度方向転換することで基板搬送装置Ａに対して逆向きの姿勢をとり、そのまま第２の水平方向Ｆ２に沿ってさらに前進移動する。これにより、ガラス基板Ｇは、基板搬送装置Ａから第２の水平方向Ｆ２に沿って離間した所定の箇所へとハンド部Ｃ１によって持ち運ばれる。なお、上記説明した順序とは逆の順序で各基板搬送装置Ａ，Ｂ１〜Ｂ４，Ｃを動作させることにより、上記とは逆方向にガラス基板Ｇを搬送することも可能である。
【００４９】
したがって、本実施形態の基板搬送装置Ａによれば、ガラス基板Ｇは、その側縁部や下面中央部がガイドローラ２２や真空吸着盤３３に接するものの、それ以外の部分が空気圧の緩衝層を介してエアステージ１の上方に浮いた状態とされる。そのため、ガラス基板Ｇに対する接触面積ができる限り小さく抑えられることとなり、ガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２に９０度方向転換して搬送する際には、ガイドローラ２２や真空吸着盤３３などを比較的高速に回転させるようにしても、静電気がそれほど発生することはない。これにより、基板搬送装置Ａによれば、ガラス基板Ｇに対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、ガラス基板Ｇを迅速に方向転換して搬送することができる。
【００５０】
図１６〜２７は、本願発明に係る基板搬送装置の他の実施形態を示している。なお、先述した実施形態の構成要素と同一あるいは類似のものについては、同一符号を付してその説明を省略する。
【００５１】
図１６〜１９の実施形態に係る基板搬送装置Ａ１も、第１の水平方向Ｆ１から第２の水平方向Ｆ２にガラス基板Ｇを９０度方向転換して搬送しうるように設置されたものであるが、この基板搬送装置Ａ１は、ロボットハンドのハンド部Ｃ１に対してガラス基板Ｇを第１の水平方向Ｆ１に沿って受け渡ししうるように設置されている。
【００５２】
図１６によく示されているように、エアステージ１は、複数のエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂを平面視矩形状に並べて構成されており、支持手段２Ａ，２Ｂは、複数の可動ブロック２１をエアステージ１の両側部に沿うように並べて構成されている。これらエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂおよび可動ブロック２１は、ガラス基板Ｇの回転移動範囲Ｇ１を全面的に占めるように配置されている。このような配置形態によれば、ガラス基板Ｇがエアステージ１上において回転させられる際、ガラス基板Ｇの下面全体にわたって空気圧の緩衝層が形成されるため、ガラス基板Ｇの側縁部や角部が中央部よりも垂れてエアステージ１の端部などに引っ掛かるといったおそれがない。
【００５３】
図１７〜１９に示されているように、回転手段３は、先述した実施形態によるものと同様に回転ユニット３２や真空吸着盤３３などを有するのに加え、エアステージ１の中央開口部１Ａを平坦に塞ぐための補助プレート３４と、この補助プレート３４の下面中央部を回転ユニット３２の上部に弾性的に支持する緩衝器３５とを有して構成されている。補助プレート３４には、各真空吸着盤３３に対応してこれらの嵌入可能な穴３４Ａが設けられている。緩衝器３５は、ピストン状の可動部材３５Ａとシリンダ状の固定部材３５Ｂとの間にバネ３５Ｃを装填して構成されている。
【００５４】
図１７に示されているように、ガラス基板Ｇがエアステージ１上に搬送されてくる際には、可動ベース（図示略）などとともに回転ユニット３２が所定の下位置まで引き下げられた状態にある。このとき、補助プレート３４は、緩衝器３５を介して真空吸着盤３３よりも上方に支持された状態にあり、隣接するエアチャンバー１０Ｂと上面が概ね一致している。つまり、エアステージ１の中央開口部１Ａが補助プレート３４によって平坦に塞がれている。そのため、ガラス基板Ｇの先端部が中央開口部１Ａを通過する際には、ガラス基板Ｇの先端部付近にも空気圧による緩衝層が確実に形成される。これにより、ガラス基板Ｇの先端部が垂れて中央開口部１Ａの縁に引っ掛かるといったおそれはない。
【００５５】
その後、図１８に示されているように、ガラス基板Ｇ全体がエアステージ１上に位置して停止した状態になると、回転ユニット３２が所定の下位置から上位置へと上昇させられる。このとき、ガラス基板Ｇは、空気圧の緩衝層によってエアステージ１上で浮上させられた状態にあり、このガラス基板Ｇの下面中央部に補助プレート３４が当接する。補助プレート３４がガラス基板Ｇに当接すると、このガラス基板Ｇによって緩衝器３５のバネ３５Ｃが徐々に縮められ、それに伴い補助プレート３４と真空吸着盤３３との距離が次第に短くなる。
【００５６】
さらにそうして回転ユニット３２が所定の上位置まで上昇すると、図１９に示されているように、真空吸着盤３３は、中央開口部１Ａを抜けて上側に突き出た状態で補助プレート３４の穴３４Ａに嵌入し、この補助プレート３４と一体になってガラス基板Ｇの下面中央部に接する。これにより、エアステージ１上のガラス基板Ｇは、真空吸着盤３３によって真空吸着された状態で保持される。その後、ガラス基板Ｇを保持した状態のまま真空吸着盤３３が全体的に９０度回転する。その結果、ガラス基板Ｇは、エアステージ１上において９０度方向転換した姿勢となる。このとき、補助プレート３４は、ガラス基板Ｇと静的に接した状態で真空吸着盤３３とともに回転するため、ガラス基板Ｇに傷などが付くおそれはない。
【００５７】
ガラス基板Ｇが９０度方向転換した後、真空吸着盤３３は、真空状態を解除して図１７に示されるような元の所定の下位置まで下げられる。その後、真空吸着盤３３から離脱したガラス基板Ｇは、先述した実施形態と同様にハンド部Ｃ１によってエアステージ上１から他の箇所へと持ち運ばれる。
【００５８】
したがって、本実施形態の基板搬送装置Ａ１によれば、先述した実施形態によるものと同様の効果が得られるのに加え、エアステージ１上へとガラス基板Ｇを適切に搬送することができるとともに、エアステージ１上においてもガラス基板Ｇを安定して回転させることができる。
【００５９】
なお、図２０に示されているように、補助プレート３４とこれに隣接するエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂとの間隔が比較的大きくなる場合には、補助プレート３４に対向するエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂの側部にこれらと同様の空気を噴出するエアパイプ４０を設けてもよい。これによれば、エアステージ１上へとガラス基板Ｇが搬送されてくる際、ガラス基板Ｇの先端部が補助プレート３４とエアチャンバー１０Ａ，１０Ｂとの間に引っ掛かるといったことを効果的に防止することができる。
【００６０】
また、図２１に示されているように、補助プレート３４を支持する緩衝器３５については、補助プレート３４の複数箇所を支えるように設けてもよい。これによれば、補助プレート３４をより安定した水平姿勢に保つことができる。
【００６１】
図２２の実施形態に係る基板搬送装置Ａ２においては、エアステージ１上に保持された例えばガラス基板Ｇの角部を対角方向（第１の水平方向Ｆ１あるいは第２の水平方向Ｆ２と４５度をなす水平方向）から挟持するように、エアステージ１の４箇所にクランプ機構７が設けられている。このクランプ機構７は、エアステージ１の下方適部から対角方向に沿って外側に延びる水平ロッド７０と、水平ロッド７０の先端に固定された平面視Ｍ字状の金具７１と、この金具７１の各先端に回転自在に支持されたローラ７２を有して構成されている。特に図示しないが、エアステージ１の下方適部には、水平ロッド７０を対角方向に動かすためのアクチュエータが設けられている。このようなクランプ機構７によれば、ガラス基板Ｇがガイドローラ２２から真空吸着盤３３へと移る際や、真空吸着盤３３からエアステージ１へと移った直後、ガラス基板Ｇの角部にローラ７２が当接するように水平ロッド７０が動かされる。これにより、ガラス基板Ｇがガイドローラ２２によって規制されない状態となっても、ガラス基板Ｇの角部が対角方向から挟持されるため、ガラス基板Ｇの姿勢を適切な姿勢に矯正することができる。
【００６２】
図２３〜２７の実施形態に係る基板搬送装置Ａ３においては、クランプ機構７がエアステージ１の端部上方に設けられており（図２３参照）、ガラス基板Ｇの角部に当接するローラ７２が鉛直方向移動用のアクチュエータ７３および水平方向移動用のアクチュエータ７４によって移動させられるように構成されている（図２５〜２７参照）。ローラ７２の下部中心には、他の部材に接しながら回転するボール７２Ａが設けられている。また、図２４によく示されているように、クランプ機構７が位置するエアステージ１の端部には、ガラス基板Ｇの角部に対応して切り欠き端部１Ｂが形成されている。この切り欠き端部１Ｂには、エアステージ１の下方適部に緩衝器８５を介して支持された補助プレート８４が設けられている（図２５〜２７参照）。補助プレート８４は、切り欠き端部１Ｂを平坦に塞ぐように設けられており、緩衝器８５は、先述した実施形態と同様に、ピストン状の可動部材８５Ａとシリンダ状の固定部材８５Ｂとの間にバネ８５Ｃを装填して構成されている。
【００６３】
図２５に示されているように、ガラス基板Ｇがエアステージ１上に搬送されてくる際や回転させられる際には、クランプ機構７のローラ７２がガラス基板Ｇに当接しない所定の上位置にあり、補助プレート８４は、エアチャンバー１０Ｂと上面が概ね一致した状態で緩衝器８５に保持されている。つまり、エアステージ１の切り欠き端部１Ｂが補助プレート８４によって平坦に塞がれている。そのため、エアステージ１上においてガラス基板Ｇが移動や回転する際には、ガラス基板Ｇの角部が垂れて切り欠き部１Ｂの縁に引っ掛かるといったおそれはない。
【００６４】
その後、図２６に示されているように、ガラス基板Ｇの姿勢を矯正する際には、クランプ機構７のローラ７２が所定の上位置から下位置へと下降させられる。このとき、ローラ７２の下部中心に設けられたボール７２Ａが補助プレート８４に当接しながら補助プレート８４を押し下げる。これにより、緩衝器８５のバネ８５Ｃが縮められ、補助プレート８４がエアチャンバー１０Ｂの上面よりも下方に位置した状態となる。その結果、ローラ７２も、エアチャンバー１０Ｂの上面より若干下がった位置に配置され、ガラス基板Ｇの角部に対して適切に当接可能な体勢をなる。
【００６５】
さらにそうした後、図２７に示されているように、補助プレート８４を押し下げた状態のままローラ７２が水平方向に前進移動させられ、このローラ７２がガラス基板Ｇの角部に当接する。これにより、ガラス基板Ｇの角部がローラ７２によって挟持された状態となり、エアステージ１上におけるガラス基板Ｇの姿勢が適切に矯正される。以上のようにしてガラス基板Ｇの姿勢を矯正した後、ローラ７２は、図２５に示されるような元の所定の上位置まで引き上げられ、さらにその後、ガラス基板Ｇは、適正な姿勢を保ちながら搬送される。
【００６６】
したがって、本実施形態の基板搬送装置Ａ３によれば、先述した実施形態によるものと同様の効果が得られるほか、例えばエアステージ１上においてガラス基板Ｇが回転させられる際には、ガラス基板Ｇの角部が通過するエアステージ１の切り欠き端部１Ｂが補助プレート８４によって平坦な面をなすため、ガラス基板Ｇの角部が垂れてエアステージ１の切り欠き端部１Ｂに引っ掛かるといったことを防ぐことができる。一方、ガラス基板Ｇの姿勢を矯正する際には、補助プレート８４に妨げられることなくこの補助プレート８４を弾性的に押し下げるようにしてガラス基板Ｇの角部に姿勢矯正用のローラ７２を当接させることができる。また、クランプ機構７は、エアステージ１の上方に設けられているため、クランプ機構７を含む基板搬送装置Ａ３の設置スペースをできる限り抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本願発明に係る基板搬送装置の一実施形態を示す全体斜視図である。
【図２】図１に示す基板搬送装置の上面図である。
【図３】図１に示す基板搬送装置の側面図である。
【図４】図１に示す基板搬送装置の内部構造図である。
【図５】図１に示す基板搬送装置に含まれる支持手段の一部断面図である。
【図６】図１に示す基板搬送装置に含まれるエアステージの一部断面図である。
【図７】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図８】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図９】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１０】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１１】図１０に示す状態の基板搬送装置の内部構造図である。
【図１２】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１３】図１２に示す状態の基板搬送装置の内部構造図である。
【図１４】図１に示す基板搬送装置の動作を説明するための全体斜視図である。
【図１５】図１４に示す状態の基板搬送装置の内部構造図である。
【図１６】他の実施形態に係る基板搬送装置の上面図である。
【図１７】図１６に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図１８】図１６に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図１９】図１６に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図２０】他の実施形態に係る基板搬送装置の要部断面図である。
【図２１】他の実施形態に係る基板搬送装置の要部上面図である。
【図２２】他の実施形態に係る基板搬送装置の上面図である。
【図２３】他の実施形態に係る基板搬送装置の上面図である。
【図２４】図２３に示す基板搬送装置の要部上面図である。
【図２５】図２３に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図２６】図２３に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【図２７】図２３に示す基板搬送装置の要部断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
Ａ 基板搬送装置
Ｇ ガラス基板
Ｆ１ 第１の水平方向
Ｆ２ 第２の水平方向
１ エアステージ
１Ａ 中央開口部
１Ｂ 切り欠き端部
１０ｂ 空気噴出孔
１０Ａ，１０Ｂ エアチャンバー
２Ａ，２Ｂ 支持手段
２０ アクチュエータ
２１ 可動ブロック
２１ｂ 空気噴出孔
２２ ガイドローラ
３ 回転手段
３０ 可動ベース
３１ 回転用のモータ
３２ 回転ユニット
３３ 真空吸着盤
３４ 補助プレート
３５ 緩衝器
７ クランプ機構
７２ ローラ
８４ 補助プレート
８５ 緩衝器
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面視矩形状の基板を水平に保ちながら当該基板を方向転換して搬送するための基板搬送装置であって、
上記基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージと、
上記エアステージに隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の側縁部を第１の水平方向に沿って移動しうるように支持する支持手段と、
上記エアステージの中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第１の水平方向から異なる第２の水平方向にあるいはその逆方向に方向転換させる回転手段と、
を備えたことを特徴とする、基板搬送装置。
【請求項２】
上記支持手段は、上記第１の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の側縁部を支持し、その後、上記回転手段は、上記支持手段に替わって上記基板の下面中央部を支持しつつ鉛直軸周りに回転することにより、当該基板を上記第１の水平方向から上記第２の水平方向に方向転換させる、請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
上記回転手段は、上記第２の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第２の水平方向から上記第１の水平方向に方向転換させ、その後、上記支持手段は、上記回転手段に替わって上記基板の側縁部を支持することにより、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させる、請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
上記エアステージは、全体的に平面視矩形状を呈して上記基板と略同一の面積をもつように構成されている、請求項１ないし３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
上記支持手段は、上記エアステージの相対する側部にそれぞれ隣接して一対をなすように設けられている、請求項４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
上記エアステージは、空気噴出孔を上面に有する複数のエアチャンバーを上記回転手段の周囲に配置するようにして構成されており、これら複数のエアチャンバーのうちの少なくとも１つは、上記第２の水平方向に沿って他の基板搬送装置との間で上記基板を受け渡ししうるように、その際には上記支持手段とともに所定の下位置をとるべく上下動作可能に設けられている、請求項１ないし５のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項７】
上記支持手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ブロックと、上記基板の側縁部を支持するように上記可動ブロックに設けられており、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させるための複数のガイドローラとを有して構成されている、請求項１ないし６のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項８】
上記可動ブロックの上面には、空気噴出孔が設けられている、請求項７に記載の基板搬送装置。
【請求項９】
上記回転手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ベースと、この可動ベースに設けられた回転用のモータと、このモータによって鉛直軸周りに回転させられる回転ユニットと、上記基板の下面中央部を真空吸着するように上記回転ユニットの上部に設けられた複数の真空吸着盤と、これら複数の真空吸着盤に真空状態を発生させるための真空ポンプとを有して構成されている、請求項１ないし８のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項１０】
上記エアステージの中央部には、開口部が形成されているとともに、この中央開口部と対応する位置に上記回転手段が配置されており、
上記回転手段はさらに、上記複数の真空吸着盤が嵌入可能な複数の穴をもち、上記回転ユニットの上部に緩衝器を介して支持された補助プレートを有しており、この補助プレートは、上記可動ベースが所定の下位置をとるとき、上記複数の真空吸着盤よりも上方に位置して上記中央開口部を平坦に塞ぐように構成されている、請求項９に記載の基板搬送装置。
【請求項１１】
上記補助プレートは、上記エアステージ上に上記基板が配置された状態で上記可動ベースが所定の上位置をとるとき、上記基板に押し返されることで上記緩衝器の弾力に抗して変位させられ、上記複数の真空吸着盤が上記複数の穴に嵌入した状態で当該基板の下面中央部を真空吸着するように構成されている、請求項１０に記載の基板搬送装置。
【請求項１２】
上記エアステージには、上記基板の相対する角部を挟持可能なクランプ機構が設けられている、請求項１ないし１１のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項１３】
上記クランプ機構は、上記エアステージの端部上方に設けられており、上記基板の角部に当接可能なローラを鉛直方向および水平方向に移動させるように構成されている、請求項１２に記載の基板搬送装置。
【請求項１４】
上記クランプ機構が位置する上記エアステージの端部には、当該エアステージの下方適部に緩衝器を介して支持された補助プレートが設けられており、この補助プレートは、上記クランプ機構のローラが所定の上位置をとるとき、上記エアステージの上面に沿って平坦な面をなす一方、上記ローラが所定の下位置をとるとき、このローラに押されることで上記緩衝器の弾力に抗して下方に変位させられ、そのまま当該ローラが水平方向に前進移動して上記基板の角部に当接するように構成されている、請求項１３に記載の基板搬送装置。
【請求項１】
平面視矩形状の基板を水平に保ちながら当該基板を方向転換して搬送するための基板搬送装置であって、
上記基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージと、
上記エアステージに隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の側縁部を第１の水平方向に沿って移動しうるように支持する支持手段と、
上記エアステージの中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、上記エアステージ上における上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第１の水平方向から異なる第２の水平方向にあるいはその逆方向に方向転換させる回転手段と、
を備えたことを特徴とする、基板搬送装置。
【請求項２】
上記支持手段は、上記第１の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の側縁部を支持し、その後、上記回転手段は、上記支持手段に替わって上記基板の下面中央部を支持しつつ鉛直軸周りに回転することにより、当該基板を上記第１の水平方向から上記第２の水平方向に方向転換させる、請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
上記回転手段は、上記第２の水平方向に沿って上記エアステージへと搬送されてきた上記基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を上記第２の水平方向から上記第１の水平方向に方向転換させ、その後、上記支持手段は、上記回転手段に替わって上記基板の側縁部を支持することにより、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させる、請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
上記エアステージは、全体的に平面視矩形状を呈して上記基板と略同一の面積をもつように構成されている、請求項１ないし３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
上記支持手段は、上記エアステージの相対する側部にそれぞれ隣接して一対をなすように設けられている、請求項４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
上記エアステージは、空気噴出孔を上面に有する複数のエアチャンバーを上記回転手段の周囲に配置するようにして構成されており、これら複数のエアチャンバーのうちの少なくとも１つは、上記第２の水平方向に沿って他の基板搬送装置との間で上記基板を受け渡ししうるように、その際には上記支持手段とともに所定の下位置をとるべく上下動作可能に設けられている、請求項１ないし５のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項７】
上記支持手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ブロックと、上記基板の側縁部を支持するように上記可動ブロックに設けられており、当該基板を上記第１の水平方向に沿って移動させるための複数のガイドローラとを有して構成されている、請求項１ないし６のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項８】
上記可動ブロックの上面には、空気噴出孔が設けられている、請求項７に記載の基板搬送装置。
【請求項９】
上記回転手段は、上下動作用のアクチュエータと、このアクチュエータによって上下させられる可動ベースと、この可動ベースに設けられた回転用のモータと、このモータによって鉛直軸周りに回転させられる回転ユニットと、上記基板の下面中央部を真空吸着するように上記回転ユニットの上部に設けられた複数の真空吸着盤と、これら複数の真空吸着盤に真空状態を発生させるための真空ポンプとを有して構成されている、請求項１ないし８のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項１０】
上記エアステージの中央部には、開口部が形成されているとともに、この中央開口部と対応する位置に上記回転手段が配置されており、
上記回転手段はさらに、上記複数の真空吸着盤が嵌入可能な複数の穴をもち、上記回転ユニットの上部に緩衝器を介して支持された補助プレートを有しており、この補助プレートは、上記可動ベースが所定の下位置をとるとき、上記複数の真空吸着盤よりも上方に位置して上記中央開口部を平坦に塞ぐように構成されている、請求項９に記載の基板搬送装置。
【請求項１１】
上記補助プレートは、上記エアステージ上に上記基板が配置された状態で上記可動ベースが所定の上位置をとるとき、上記基板に押し返されることで上記緩衝器の弾力に抗して変位させられ、上記複数の真空吸着盤が上記複数の穴に嵌入した状態で当該基板の下面中央部を真空吸着するように構成されている、請求項１０に記載の基板搬送装置。
【請求項１２】
上記エアステージには、上記基板の相対する角部を挟持可能なクランプ機構が設けられている、請求項１ないし１１のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項１３】
上記クランプ機構は、上記エアステージの端部上方に設けられており、上記基板の角部に当接可能なローラを鉛直方向および水平方向に移動させるように構成されている、請求項１２に記載の基板搬送装置。
【請求項１４】
上記クランプ機構が位置する上記エアステージの端部には、当該エアステージの下方適部に緩衝器を介して支持された補助プレートが設けられており、この補助プレートは、上記クランプ機構のローラが所定の上位置をとるとき、上記エアステージの上面に沿って平坦な面をなす一方、上記ローラが所定の下位置をとるとき、このローラに押されることで上記緩衝器の弾力に抗して下方に変位させられ、そのまま当該ローラが水平方向に前進移動して上記基板の角部に当接するように構成されている、請求項１３に記載の基板搬送装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【公開番号】特開２００６−１８２５６０（Ｐ２００６−１８２５６０Ａ）
【公開日】平成１８年７月１３日（２００６．７．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１７４７２７（Ｐ２００５−１７４７２７）
【出願日】平成１７年６月１５日（２００５．６．１５）
【出願人】（００００００２６２）株式会社ダイヘン (990)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年７月１３日（２００６．７．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年６月１５日（２００５．６．１５）
【出願人】（００００００２６２）株式会社ダイヘン (990)
【Ｆターム（参考）】
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