露光装置
【課題】 基板ＢとフォトマスクＭ及びプラテン５の除塵を効率的に行うことにより、歩留まりの高い露光を実現する。
【解決手段】
第１クリーニングヘッド１は搬入ハンド３の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬入ハンド３の搬入と退避動作の際に、所定位置で第１クリーニングヘッド１が下降してプラテン５の上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴ってプラテン５上を移動しつつ除塵を行う。その後搬入ハンド３が搬入部３０に退避する際には、第１クリーニングヘッド１は基板Ｂの上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴って基板Ｂ上を移動しつつ除塵を行う。
第２クリーニングヘッド２は搬出ハンド４の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬出ハンド４の露光部１０への移動と搬出動作の際に、２回フォトマスクＭの除塵を行う。
【解決手段】
第１クリーニングヘッド１は搬入ハンド３の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬入ハンド３の搬入と退避動作の際に、所定位置で第１クリーニングヘッド１が下降してプラテン５の上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴ってプラテン５上を移動しつつ除塵を行う。その後搬入ハンド３が搬入部３０に退避する際には、第１クリーニングヘッド１は基板Ｂの上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴って基板Ｂ上を移動しつつ除塵を行う。
第２クリーニングヘッド２は搬出ハンド４の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬出ハンド４の露光部１０への移動と搬出動作の際に、２回フォトマスクＭの除塵を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
プリント配線基板の露光装置において、フォトマスクと基板との間に塵埃が存在すると、その部分が未露光となり製品不良となる問題がある。
この塵埃には、例えば銅箔のようにそれ自体が粘着性を持たない塵埃と、ドライフィルムフォトレジストやソルダーレジストのようにそれ自体が粘着性を持った塵埃とがあり、このような塵埃を除去するために露光装置に除塵装置を設ける提案が種々なされている。
【０００３】
【特許文献１】特許第３５３３３８０号
【特許文献２】特許第２８４７８０８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、例えば特許文献１に示すものは、基板搬入側にある１台の除塵装置によりフォトマスクと基板の除塵をそれぞれ１回行うのみであり、プラテンの除塵はできない上、フォトマスクについて１回のみの除塵では十分な除塵ができないことが予想される。特許文献２の構成もまたフォトマスクと基板の除塵を１回のみ行うものであり、特許文献１と同じ問題がある。
本発明は上記従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、基板とフォトマスク及びプラテンを除塵できる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明は、露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、前記基板搬入装置に連動して移動し、前記基板搬入時に前記プラテンを除塵し、基板搬入後の退避時に、前記プラテン上に載置された基板を除塵する第１の除塵装置と、前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第２の除塵装置と、を備えたことを特徴とする。
第１及び第２の除塵装置は、好適実施例においては、それぞれ基板搬入装置と基板搬出装置に取り付けられており、これらの移動と共に移動しつつ除塵を行うように構成されている。
基板搬入装置は、基板を保持しつつ露光部のプラテン上まで基板を搬送する。搬送中に第１除塵装置はプラテンを除塵する。そして、搬送装置が除塵後のプラテン上に基板を載置し、元の位置に退避する際に、第１除塵装置は基板の上面を除塵しつつ退避する。
以上の基板搬入装置の出入りの動作中にプラテンと基板の両方の除塵が完了する。
基板の露光が終了すると、基板搬出装置がプラテン上まで移動する。この時、第２除塵装置は、フォトマスクを除塵する。そして、基板搬出装置が基板を保持して、露光部外へ基板を搬出する際にも再びフォトマスクの除塵を行う。したがって、フォトマスクは１回の露光につき２回の除塵が行われる。
前記除塵装置としては、種々の構成が可能であるが、好適実施例では粘着性ローラと吸引集塵手段とを備える。前記した粘着性を持った塵埃については、粘着性を有するローラによる除塵手段が有効であり、粘着性を持たない塵埃に対しては吸引による除塵手段が有効であるためである。このように両除塵手段を併せ持つことにより塵埃の除去率を向上させることができる。
また、導電性のブラシ等の除電装置を備えることも可能である。これにより除塵前及び／又は除塵後において、除塵する部位が帯びている静電気を除去することができ、除塵前では除塵効率を向上させ、除塵後では塵埃の再付着を防止することが可能になる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の露光装置によれば、効率的に除塵が行われるから、歩留まりの高い露光を実現できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施されたプリント配線基板Ｂはプラテン５上に載置され、露光ステージ７によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。露光部１０において、基板Ｂの上方にはマスクフォルダ６に装着されたフォトマスクＭが配置されており、更にその上に光源９が設けられている。光源９からの露光光はフォトマスクＭに描かれたパターンを基板Ｂに露光するようになっている。
【０００８】
上記露光部１０の一方側には搬入部３０が設けられ、ここに前工程から基板Ｂが搬送されてくる。搬入部３０には搬入ハンド３が設けられており、この搬入ハンド３により基板Ｂを吸着固定し、基板Ｂをプラテン５上まで運搬するようになっている。
【０００９】
露光部１０の他方側には搬出部４０が設けられており、露光部１０で露光された基板Ｂがここに搬送され、後工程に送られるように構成されている。搬出部４０には搬出ハンド４が設けられており、搬出ハンド４がプラテン５上の基板Ｂの位置まで移動し、基板Ｂを吸着固定して搬出部４０まで移送するように構成されている。
【００１０】
前記搬入ハンド３には第１クリーニングヘッド１が装着されている。第１クリーニングヘッド１は搬入ハンド３の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬入ハンド３の搬入と退避動作の際に、プラテン５と基板Ｂ上面の除塵を行うようになっている。即ち、搬入ハンド３が露光部１０方向に移動する際に、所定位置で第１クリーニングヘッド１が下降してプラテン５の上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴ってプラテン５上を移動しつつ除塵を行う。搬入ハンド３がプラテン５上に達すると、プラテン５が上昇して基板Ｂを受け取り、吸着固定して下降する。その後搬入ハンド３は搬入部３０に退避するが、この退避の際にも第１クリーニングヘッド１は下降し、基板Ｂの上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴って基板Ｂ上を移動しつつ除塵を行う。
以上の動作により、第１クリーニングヘッド１によりプラテン５と基板Ｂの除塵を行うように構成されている。
【００１１】
図２と図３に第１クリーニングヘッド１の構成を示す。後述する第２クリーニングヘッド２も同一の構成になっている。
第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２は粘着ローラ１１と吸引集塵機１２及び除電ブラシ１３を備えている。粘着ローラ１１は粘着性を有するローラであり、主としてレジストのような粘着性を有する塵埃をこの粘着ローラにより捕集する。吸引集塵機１２は主として粘着性を持たない塵埃を吸引して除塵するようになっている。このように、粘着ローラ１１と吸引集塵機１２の両方を備えることにより粘着性塵埃と粘着性のない塵埃を両方とも効果的に除塵することができる。
搬入部３０の露光部１０側には粘着テープロール部１９が昇降可能に設けられおり、搬入ハンド３が搬入部３０に戻ると粘着テープロール部１９が上昇し粘着ローラ１１に接触し、粘着テープロール部１９が回転して粘着ローラ１１に付着している塵埃を粘着テープロール部１９に転写するように構成されている。
【００１２】
この実施形態では、更に２つの除電ブラシ１３を備えており、プラテン５表面又は基板Ｂ表面（第２クリーニングヘッド２においてはフォトマスクＭ）の静電気を除去するようになっている。除電ブラシ１３は粘着ローラ１１と吸引集塵機１２の前後に設けられており、一方は除塵前に静電気を除去して除塵効率を向上させる。また他方の除電ブラシ１３は除塵後に静電気を除去し、除塵後に塵埃の再付着を防止する機能を有している。
【００１３】
次に搬出ハンド４について説明する。搬出ハンド４には第２クリーニングヘッド２が装着されている。第２クリーニングヘッド２は搬出ハンド４の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬出ハンド４の露光部１０への移動と搬出動作の際に、フォトマスクＭの除塵を行うようになっている。即ち、搬出ハンド４が露光部１０方向に移動する際に、所定位置で第２クリーニングヘッド２が上昇してフォトマスクＭに接触或いは近接し、搬出ハンド４の移動に伴ってフォトマスクＭ上を移動しつつ除塵を行う。搬出ハンド４が基板Ｂ上に達すると、搬出ハンド４が基板Ｂを吸着固定し、プラテン５が下降する。その後搬出ハンド４は搬出部４０に移動して基板Ｂを搬出するが、この搬出の際にも第２クリーニングヘッド２は上昇し、フォトマスクＭに接触或いは近接し、搬出ハンド４の移動に伴ってフォトマスクＭ上を移動しつつ除塵を行う。
以上の動作により、第２クリーニングヘッド２によりフォトマスクＭの除塵を２回行うことができる。
なお、搬出ハンド４は上向きに装着されていることを除いて第１クリーニングヘッド１と全く同一の構成であり、図２と図３に示す構成を備えている。また粘着テープロール部１９を備えており、同じく露光部１０の塵埃を粘着テープロール部１９に転写する。
【００１４】
以上の構成における動作を説明する。
最初に第１クリーニングヘッド１の動作を説明する。まず、前工程から基板Ｂが搬入部３０に搬入される。搬入部３０に待機している搬入ハンド３が基板Ｂをチャッキング（吸着固定）し、このまま搬入ハンド３がプラテン５上の基板受け渡し位置まで移動（往路）する。搬入ハンド３移動中の所定位置で、第１クリーニングヘッド１が下降し、粘着ローラ１１がプラテン５の上面に接触する。搬入ハンド３は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ１１は回転し、プラテン５に付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機１２による集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。搬入ハンド３が基板受け渡し位置に到達したら、プラテン５が上昇し基板Ｂを受け取る。この時、粘着ローラ１１はプラテン５の外位置にありプラテン５とは接触はしない。
【００１５】
次に、プラテン５は基板Ｂを吸着固定し下降退避する。そして、搬入ハンド３は搬入部３０まで戻り（復路）、この時粘着ローラ１１はプラテン５に吸着固定された基板Ｂの上面の塵埃を除去する。同時に吸引集塵機１２による集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。そして、搬入ハンド３移動中の所定位置で、第１クリーニングヘッド１は上昇し原点位置に戻る。搬入ハンド３が搬入部３０に戻ると粘着テープロール部１９が上昇し粘着ローラ１１に接触し、粘着テープロール部１９が回転して粘着ローラ１１は連れ回り、粘着ローラ１１に付着している塵埃が粘着テープロール部１９に転写される。
この間にプラテン５が上昇し、基板ＢとフォトマスクＭとが密着し光源９が点灯し露光が行われる。
【００１６】
次に第２クリーニングヘッド２の動作を説明する。
基板Ｂの露光が完了すると、プラテン５と基板Ｂが下降し、搬出ハンド４が搬出部４０からプラテン５上の基板受け渡し位置まで移動（往路）する。搬出ハンド４移動中の所定位置で、第２クリーニングヘッド２が上昇し、粘着ローラ１１がフォトマスクＭに接触し、搬出ハンド４は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ１１は回転し、フォトマスクＭに付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機１２による集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。搬出ハンド４が基板受け渡し位置に到達したら、露光ステージ７とプラテン５が上昇し、プラテン５上の露光済み基板Ｂを搬出ハンド４がチャキング（吸着固定）する。そして、プラテン５が下降退避し、搬出ハンド４が搬出部４０に移動（復路）する。この時も往路と同様に粘着ローラ１１と吸引集塵機１２によるフォトマスクＭの除塵集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。
【００１７】
以上説明した構成によれば、基板Ｂとプラテン５の除塵が行え、またフォトマスクＭについては１回の露光につき２回の除塵が行える。特にプラテン５の除塵により基板Ｂの露光面の反対面にドライフィルムフォトレジストやソルダレジストなどの付着を防止できる効果がある。また粘着ローラ１１と吸引集塵機１２の両方を備えているため、粘着性の塵埃と粘着性のない塵埃を効果的に除去でき、確実な除塵が可能である。更に除電ブラシ１３により静電気が除去されるので、除塵効率が上がり、また除塵後の塵埃の付着が防止できる。
また、第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２は搬入ハンド３と搬出ハンド４に装着されているため、新たな駆動機構などを設ける必要がない等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略正面図。
【図２】本発明の一実施形態の第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２の構成を示す概略正面図。
【図３】本発明の一実施形態の第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２の構成を示す概略平面図。
【符号の説明】
【００１９】
１：第１クリーニングヘッド、２：第２クリーニングヘッド、３：搬入ハンド、４：搬出ハンド、５：プラテン、６：マスクフォルダ、７：露光ステージ、９：光源、１０：露光部、１１：粘着ローラ、１２：吸引集塵機、１３：除電ブラシ、１４：昇降装置、１９：粘着テープロール部、３０：搬入部、４０：搬出部。
【技術分野】
【０００１】
この発明は、露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
プリント配線基板の露光装置において、フォトマスクと基板との間に塵埃が存在すると、その部分が未露光となり製品不良となる問題がある。
この塵埃には、例えば銅箔のようにそれ自体が粘着性を持たない塵埃と、ドライフィルムフォトレジストやソルダーレジストのようにそれ自体が粘着性を持った塵埃とがあり、このような塵埃を除去するために露光装置に除塵装置を設ける提案が種々なされている。
【０００３】
【特許文献１】特許第３５３３３８０号
【特許文献２】特許第２８４７８０８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、例えば特許文献１に示すものは、基板搬入側にある１台の除塵装置によりフォトマスクと基板の除塵をそれぞれ１回行うのみであり、プラテンの除塵はできない上、フォトマスクについて１回のみの除塵では十分な除塵ができないことが予想される。特許文献２の構成もまたフォトマスクと基板の除塵を１回のみ行うものであり、特許文献１と同じ問題がある。
本発明は上記従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、基板とフォトマスク及びプラテンを除塵できる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明は、露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、前記基板搬入装置に連動して移動し、前記基板搬入時に前記プラテンを除塵し、基板搬入後の退避時に、前記プラテン上に載置された基板を除塵する第１の除塵装置と、前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第２の除塵装置と、を備えたことを特徴とする。
第１及び第２の除塵装置は、好適実施例においては、それぞれ基板搬入装置と基板搬出装置に取り付けられており、これらの移動と共に移動しつつ除塵を行うように構成されている。
基板搬入装置は、基板を保持しつつ露光部のプラテン上まで基板を搬送する。搬送中に第１除塵装置はプラテンを除塵する。そして、搬送装置が除塵後のプラテン上に基板を載置し、元の位置に退避する際に、第１除塵装置は基板の上面を除塵しつつ退避する。
以上の基板搬入装置の出入りの動作中にプラテンと基板の両方の除塵が完了する。
基板の露光が終了すると、基板搬出装置がプラテン上まで移動する。この時、第２除塵装置は、フォトマスクを除塵する。そして、基板搬出装置が基板を保持して、露光部外へ基板を搬出する際にも再びフォトマスクの除塵を行う。したがって、フォトマスクは１回の露光につき２回の除塵が行われる。
前記除塵装置としては、種々の構成が可能であるが、好適実施例では粘着性ローラと吸引集塵手段とを備える。前記した粘着性を持った塵埃については、粘着性を有するローラによる除塵手段が有効であり、粘着性を持たない塵埃に対しては吸引による除塵手段が有効であるためである。このように両除塵手段を併せ持つことにより塵埃の除去率を向上させることができる。
また、導電性のブラシ等の除電装置を備えることも可能である。これにより除塵前及び／又は除塵後において、除塵する部位が帯びている静電気を除去することができ、除塵前では除塵効率を向上させ、除塵後では塵埃の再付着を防止することが可能になる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の露光装置によれば、効率的に除塵が行われるから、歩留まりの高い露光を実現できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施されたプリント配線基板Ｂはプラテン５上に載置され、露光ステージ７によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。露光部１０において、基板Ｂの上方にはマスクフォルダ６に装着されたフォトマスクＭが配置されており、更にその上に光源９が設けられている。光源９からの露光光はフォトマスクＭに描かれたパターンを基板Ｂに露光するようになっている。
【０００８】
上記露光部１０の一方側には搬入部３０が設けられ、ここに前工程から基板Ｂが搬送されてくる。搬入部３０には搬入ハンド３が設けられており、この搬入ハンド３により基板Ｂを吸着固定し、基板Ｂをプラテン５上まで運搬するようになっている。
【０００９】
露光部１０の他方側には搬出部４０が設けられており、露光部１０で露光された基板Ｂがここに搬送され、後工程に送られるように構成されている。搬出部４０には搬出ハンド４が設けられており、搬出ハンド４がプラテン５上の基板Ｂの位置まで移動し、基板Ｂを吸着固定して搬出部４０まで移送するように構成されている。
【００１０】
前記搬入ハンド３には第１クリーニングヘッド１が装着されている。第１クリーニングヘッド１は搬入ハンド３の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬入ハンド３の搬入と退避動作の際に、プラテン５と基板Ｂ上面の除塵を行うようになっている。即ち、搬入ハンド３が露光部１０方向に移動する際に、所定位置で第１クリーニングヘッド１が下降してプラテン５の上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴ってプラテン５上を移動しつつ除塵を行う。搬入ハンド３がプラテン５上に達すると、プラテン５が上昇して基板Ｂを受け取り、吸着固定して下降する。その後搬入ハンド３は搬入部３０に退避するが、この退避の際にも第１クリーニングヘッド１は下降し、基板Ｂの上面に接触或いは近接し、搬入ハンド３の移動に伴って基板Ｂ上を移動しつつ除塵を行う。
以上の動作により、第１クリーニングヘッド１によりプラテン５と基板Ｂの除塵を行うように構成されている。
【００１１】
図２と図３に第１クリーニングヘッド１の構成を示す。後述する第２クリーニングヘッド２も同一の構成になっている。
第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２は粘着ローラ１１と吸引集塵機１２及び除電ブラシ１３を備えている。粘着ローラ１１は粘着性を有するローラであり、主としてレジストのような粘着性を有する塵埃をこの粘着ローラにより捕集する。吸引集塵機１２は主として粘着性を持たない塵埃を吸引して除塵するようになっている。このように、粘着ローラ１１と吸引集塵機１２の両方を備えることにより粘着性塵埃と粘着性のない塵埃を両方とも効果的に除塵することができる。
搬入部３０の露光部１０側には粘着テープロール部１９が昇降可能に設けられおり、搬入ハンド３が搬入部３０に戻ると粘着テープロール部１９が上昇し粘着ローラ１１に接触し、粘着テープロール部１９が回転して粘着ローラ１１に付着している塵埃を粘着テープロール部１９に転写するように構成されている。
【００１２】
この実施形態では、更に２つの除電ブラシ１３を備えており、プラテン５表面又は基板Ｂ表面（第２クリーニングヘッド２においてはフォトマスクＭ）の静電気を除去するようになっている。除電ブラシ１３は粘着ローラ１１と吸引集塵機１２の前後に設けられており、一方は除塵前に静電気を除去して除塵効率を向上させる。また他方の除電ブラシ１３は除塵後に静電気を除去し、除塵後に塵埃の再付着を防止する機能を有している。
【００１３】
次に搬出ハンド４について説明する。搬出ハンド４には第２クリーニングヘッド２が装着されている。第２クリーニングヘッド２は搬出ハンド４の露光部１０側に装着され、昇降装置１４により上下方向移動可能になっており、搬出ハンド４の露光部１０への移動と搬出動作の際に、フォトマスクＭの除塵を行うようになっている。即ち、搬出ハンド４が露光部１０方向に移動する際に、所定位置で第２クリーニングヘッド２が上昇してフォトマスクＭに接触或いは近接し、搬出ハンド４の移動に伴ってフォトマスクＭ上を移動しつつ除塵を行う。搬出ハンド４が基板Ｂ上に達すると、搬出ハンド４が基板Ｂを吸着固定し、プラテン５が下降する。その後搬出ハンド４は搬出部４０に移動して基板Ｂを搬出するが、この搬出の際にも第２クリーニングヘッド２は上昇し、フォトマスクＭに接触或いは近接し、搬出ハンド４の移動に伴ってフォトマスクＭ上を移動しつつ除塵を行う。
以上の動作により、第２クリーニングヘッド２によりフォトマスクＭの除塵を２回行うことができる。
なお、搬出ハンド４は上向きに装着されていることを除いて第１クリーニングヘッド１と全く同一の構成であり、図２と図３に示す構成を備えている。また粘着テープロール部１９を備えており、同じく露光部１０の塵埃を粘着テープロール部１９に転写する。
【００１４】
以上の構成における動作を説明する。
最初に第１クリーニングヘッド１の動作を説明する。まず、前工程から基板Ｂが搬入部３０に搬入される。搬入部３０に待機している搬入ハンド３が基板Ｂをチャッキング（吸着固定）し、このまま搬入ハンド３がプラテン５上の基板受け渡し位置まで移動（往路）する。搬入ハンド３移動中の所定位置で、第１クリーニングヘッド１が下降し、粘着ローラ１１がプラテン５の上面に接触する。搬入ハンド３は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ１１は回転し、プラテン５に付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機１２による集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。搬入ハンド３が基板受け渡し位置に到達したら、プラテン５が上昇し基板Ｂを受け取る。この時、粘着ローラ１１はプラテン５の外位置にありプラテン５とは接触はしない。
【００１５】
次に、プラテン５は基板Ｂを吸着固定し下降退避する。そして、搬入ハンド３は搬入部３０まで戻り（復路）、この時粘着ローラ１１はプラテン５に吸着固定された基板Ｂの上面の塵埃を除去する。同時に吸引集塵機１２による集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。そして、搬入ハンド３移動中の所定位置で、第１クリーニングヘッド１は上昇し原点位置に戻る。搬入ハンド３が搬入部３０に戻ると粘着テープロール部１９が上昇し粘着ローラ１１に接触し、粘着テープロール部１９が回転して粘着ローラ１１は連れ回り、粘着ローラ１１に付着している塵埃が粘着テープロール部１９に転写される。
この間にプラテン５が上昇し、基板ＢとフォトマスクＭとが密着し光源９が点灯し露光が行われる。
【００１６】
次に第２クリーニングヘッド２の動作を説明する。
基板Ｂの露光が完了すると、プラテン５と基板Ｂが下降し、搬出ハンド４が搬出部４０からプラテン５上の基板受け渡し位置まで移動（往路）する。搬出ハンド４移動中の所定位置で、第２クリーニングヘッド２が上昇し、粘着ローラ１１がフォトマスクＭに接触し、搬出ハンド４は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ１１は回転し、フォトマスクＭに付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機１２による集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。搬出ハンド４が基板受け渡し位置に到達したら、露光ステージ７とプラテン５が上昇し、プラテン５上の露光済み基板Ｂを搬出ハンド４がチャキング（吸着固定）する。そして、プラテン５が下降退避し、搬出ハンド４が搬出部４０に移動（復路）する。この時も往路と同様に粘着ローラ１１と吸引集塵機１２によるフォトマスクＭの除塵集塵と除電ブラシ１３による除電を行う。
【００１７】
以上説明した構成によれば、基板Ｂとプラテン５の除塵が行え、またフォトマスクＭについては１回の露光につき２回の除塵が行える。特にプラテン５の除塵により基板Ｂの露光面の反対面にドライフィルムフォトレジストやソルダレジストなどの付着を防止できる効果がある。また粘着ローラ１１と吸引集塵機１２の両方を備えているため、粘着性の塵埃と粘着性のない塵埃を効果的に除去でき、確実な除塵が可能である。更に除電ブラシ１３により静電気が除去されるので、除塵効率が上がり、また除塵後の塵埃の付着が防止できる。
また、第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２は搬入ハンド３と搬出ハンド４に装着されているため、新たな駆動機構などを設ける必要がない等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略正面図。
【図２】本発明の一実施形態の第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２の構成を示す概略正面図。
【図３】本発明の一実施形態の第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２の構成を示す概略平面図。
【符号の説明】
【００１９】
１：第１クリーニングヘッド、２：第２クリーニングヘッド、３：搬入ハンド、４：搬出ハンド、５：プラテン、６：マスクフォルダ、７：露光ステージ、９：光源、１０：露光部、１１：粘着ローラ、１２：吸引集塵機、１３：除電ブラシ、１４：昇降装置、１９：粘着テープロール部、３０：搬入部、４０：搬出部。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、
前記基板搬入装置に連動して移動し、前記基板搬入時に前記プラテンを除塵し、基板搬入後の退避時に、前記プラテン上に載置された基板を除塵する第１の除塵装置と、
前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第２の除塵装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２の除塵装置は、前記基板搬出装置が基板位置まで移動する際にフォトマスクを除塵し、前記基板搬出装置が基板を搬出する際にフォトマスクを再度除塵する、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記除塵装置が、
粘着性ローラと吸引集塵手段とを備える、
請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記除塵装置が除電装置を備える、
請求項１又は２又は３に記載の露光装置。
【請求項１】
露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、
前記基板搬入装置に連動して移動し、前記基板搬入時に前記プラテンを除塵し、基板搬入後の退避時に、前記プラテン上に載置された基板を除塵する第１の除塵装置と、
前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第２の除塵装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２の除塵装置は、前記基板搬出装置が基板位置まで移動する際にフォトマスクを除塵し、前記基板搬出装置が基板を搬出する際にフォトマスクを再度除塵する、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記除塵装置が、
粘着性ローラと吸引集塵手段とを備える、
請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記除塵装置が除電装置を備える、
請求項１又は２又は３に記載の露光装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００７−２５４３６（Ｐ２００７−２５４３６Ａ）
【公開日】平成１９年２月１日（２００７．２．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２０９６９１（Ｐ２００５−２０９６９１）
【出願日】平成１７年７月２０日（２００５．７．２０）
【出願人】（３０００９１６７０）株式会社アドテックエンジニアリング (23)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月１日（２００７．２．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年７月２０日（２００５．７．２０）
【出願人】（３０００９１６７０）株式会社アドテックエンジニアリング (23)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]