【課題】本発明の課題は、金属錯体の使用量を低減でき、且つ分子量を制御可能な、アルキレンオキシドと二酸化炭素との共重合体の製造方法を提供すること、また、分子量が制御されたアルキレンオキシドと二酸化炭素との共重合体を提供することである。
【解決手段】ポルフィリン系化合物が配位した金属錯体の存在下で、活性水素を有する連鎖移動剤を用いて、アルキレンオキシドと二酸化炭素とを共重合させる、共重合体の製造方法であり、前記活性水素を前記金属錯体に対して等モル以上用いる。また、一分子内に２個以上の活性水素を有する連鎖移動剤を用いて製造されてなり、ＧＰＣ測定により得られた数平均分子量に対してＯＨ当量が、０．８以下であることを特徴とするアルキレンオキシドと二酸化炭素との共重合体である。
である。 （もっと読む）

【課題】光ディスクの再生特性を向上させることができる位相差素子を提供すること。
【解決手段】位相差素子１０は、第１の位相板１１および第２の位相板１２を備え、波長λ_１と波長λ_２との間の波長をλ_ｍ、波長λ_ｍの入射光に対する各位相板の位相差をＲｄ_１ｍおよびＲｄ_２ｍ、波長λ_ｍの入射光の偏光方向と各位相板の進相軸とのなす角をθ_１およびθ_２とするとき、Ｒｄ_１ｍ＝１８０（度）、Ｒｄ_２ｍ＝１００〜１７０（度）または１９０〜２２０（度）であり、角θ_１およびθ_２と、第２の位相板１２の位相差Ｒｄ_２ｍとの関係が、θ_１＝Ａ１×Ｒｄ_２ｍ＋Ｂ１（度）、θ_２＝Ａ２×Ｒｄ_２ｍ＋Ｂ２（度）である。 （もっと読む）

【課題】高い表示品質を有する液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかる液晶表示パネル１は、観察面側から反観察面側に向けて、順に配置された透明基板１１〜１３と、透明基板１１〜１３同士の間にそれぞれ設けられた液晶／硬化物複合体層５１、５２とを備えている。また、最も観察面側に配置された透明基板１１の背面上と、最も反観測面側に配置された透明基板１３の前面上と、最前面および最背面の基板の間に挟まれた透明基板１２の前面上および背面上とに、透明電極２１〜２４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】気相反応合成法により均一な組成の金属ガラスを合成するための微粒子合成用バーナーを提供する。
【解決手段】微粒子原料ガス、燃焼ガスおよび燃焼支燃ガスを反応させ微粒子集合体を合成するためのバーナーであって、該バーナーは、バーナー中央から外側に向かって吹き出し口として、微粒子原料ガスおよび燃焼ガス吹き出し口、不活性ガス吹き出し口、燃焼支燃ガス吹き出し口とをこの順に同心状に備え、それぞれの吹き出し口の形状は短軸と長軸との比が２０以上の楕円形であり、燃焼ガス吹き出し口先端部の高さが不活性ガス吹き出し口または燃焼支燃ガス吹き出し口の少なくともいずれか一方の吹き出し口先端部の高さより低いことを特徴とする微粒子合成用バーナー。 （もっと読む）

【課題】光ディスクの再生特性を向上させることができる位相差素子を提供すること。
【解決手段】位相差素子１０は、第１の位相板１１および第２の位相板１２を備え、入射光の波長を波長λ_１およびλ_２、第１の位相板１１の波長λ_１の光に対する位相差をＲｄ_１１、入射偏光方向と進相軸とのなす角をθ_１、第２の位相板１２の波長λ_２の光に対する位相差をＲｄ_２２、入射偏光方向と進相軸とのなす角をθ_２としたとき、Ｒｄ_１１＝９０度、Ｒｄ_２２＝１８０度であり、（θ_１、θ_２）＝（４５度、０度）、（θ_１、θ_２）＝（４５度、９０度）、（θ_１、θ_２）＝（１３５度、０度）および（θ_１、θ_２）＝（１３５度、９０度）のいずれかである。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜用材料およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料であって、ポリフルオロアルキル基含有ビニル系単量体（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位（Ｆ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）を含み、デカリンに対する後退角が４０°以上のレジスト保護膜用材料、および、レジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト用材料およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられる酸の作用によりアルカリ溶解性が増大するレジスト用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含み、デカリンに対する後退角が３０°以上であるレジスト用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、前記レジスト用材料を含むレジスト形成組成物を基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】ディップコート法によって磁気記録媒体表面に塗布した場合でも、膜厚の均一性が高い潤滑剤層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤溶液を提供する。
【解決手段】潤滑剤と溶媒とを含み、潤滑剤がパーフルオロポリエーテルまたはフォスファゼン系化合物であり、溶媒が１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルと他の有機溶媒とを含み、溶媒の２５℃における表面張力が１５．０ｍＮ／ｍ以下である磁気記録媒体用潤滑剤溶液。 （もっと読む）

【課題】生産性および外観に優れ、観察者に対する耐擦傷性にも優れた表示装置用反射防止フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板の片面上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する工程と、前記ガラス基板を所定の大きさに切断した後切断部分を面取する工程と、前記ガラス基板全体を熱処理し強化する工程と、前記ガラス基板の反射防止膜を成膜する面とは反対側に電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程とをこの順に含むことを特徴とする表示装置用反射防止フィルターの製造方法。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜用のアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含みデカリンに対する後退角が４０°以上であるレジスト保護膜用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、感光性レジストを基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜上に前記レジスト保護膜用材料を含むレジスト保護膜形成組成物を塗布してレジスト膜上にレジスト保護膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）