【課題】 半導体チップの基板への実装を、工程及び材料の大幅な削減を図りつつ、確実に行うことができ、しかも鉛入りはんだを用いることなく、チップ側電極と基板側電極を接合できるようにする。
【解決手段】 接続端子１０ａの表面に、レジスト４０をマスクとして無電解めっきでチップ側電極４２を選択的に形成した半導体チップ４８を、該半導体チップ４８と基板５０との間にレジスト４０を介在させつつ、チップ側電極４２と基板５０に設けられた基板側電極５２とを互いに接合させて、基板５０に実装した。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハのノッチとベベルの研磨を一つの装置内で効率よく行うことのできる半導体ウエハ周縁研磨装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の装置１０は、半導体ウエハＷを保持するためのウエハステージ２３を有するウエハステージユニット２０、ウエハステージユニット２０を、ウエハステージ２３の表面と平行な方向に移動させるためのステージ移動手段３０、３２、ウエハステージ２３に保持した半導体ウエハＷのノッチを研磨するノッチ研磨部４０、及びウエハステージ２３に保持した半導体ウエハＷのベベルを研磨するベベル研磨部５０から構成される。ハウジング１１内に搬入された半導体ウエハＷをウエハステージ２３に載置し、またウエハステージ２３に保持した半導体ウエハＷをウエハステージ２３から取り上げるためのウエハチャック手段８０からさらに構成される。 （もっと読む）

【課題】 余分なコストを掛けることなく、しかも信頼性の高い空運転防止機能を有する給水装置を提供する。
【解決手段】 この給水装置は、ポンプ１０と、ポンプ１０の駆動モータを可変速制御するインバータ１４とを有する。さらに、ポンプの回転数および駆動電流値からポンプの空運転状態を検出する第１の空運転検出手段３４，３６，３８，４０と、ポンプの回転数、吐出し側の圧力および水量からポンプの空運転状態を検出する第２の空運転検出手段３４，４２，４４，４６を備えている。 （もっと読む）

基板処理装置（１）は、基板（Ｗ）の周縁部を研磨する第１、第２研磨ユニット（７０Ａ，７０Ｂ）と、基板（Ｗ）を洗浄する１次洗浄ユニット（１００）と、１次洗浄ユニット（１００）で洗浄された基板（Ｗ）の乾燥を行う２次洗浄・乾燥ユニット（１１０）と、基板（Ｗ）の周縁部の測定を行う測定ユニット（３０）を備えている。測定ユニット（３０）は、直径計測機構、断面形状測定機構、表面状態測定機構など、第１、第２研磨ユニット（７０Ａ，７０Ｂ）の研磨に必要な測定を行なう機構を備えている。
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【課題】高スループットで電位コントラストの測定等を高信頼性で行うことができ、構造が簡単な電子線装置、及び該装置を用いて歩留まり良くデバイスを製造するためのデバイス製造方法を提供すること
【解決手段】パターンが形成された試料を電子線で照射し、該試料の評価を行うための電子線装置は、電子線源ＥＧ、対物レンズ１４、電磁偏向器１１、１２及び二次電子線検出器１７を収容した電子光学鏡筒１を備え、対物レンズ１４は、上部電極１８、中央電極１９及び下部電極２０から構成され、上部電極１８、中央電極１９及び下部電極２０に電圧を印加するための制御電源２１を更に備え、制御電源２１は、中央電極１９に一定値の電圧を印加し、上部電極１８でダイナミック・フォーカスを行って対物レンズ１４が合焦条件を満たすよう動作する。 （もっと読む）

【課題】高くて均一なろ過フラックスと低くて均一なろ過水濁度が確保、維持できる活性汚泥処理水の固液分離方法及びその装置を提供する。
【解決手段】被処理水を活性汚泥処理生物反応槽に導入し、生物反応槽の汚泥混合液を複数のろ過モジュールを浸漬設置するろ過分離槽に導入し、水頭圧でろ過モジュールからろ過水を得て、ろ過後の汚泥混合液を生物反応槽に返送する処理法において、ろ過分離槽内ろ過モジュール間に仕切り壁を設置し、各ろ過モジュール下部に散気管を設け、ろ過時は仕切り壁を介した両側のろ過モジュールからろ過水を得ながら、ろ過モジュール下部散気管への通気は仕切り壁を介した一方に対して行った後、他方に行い、切り換えて交互に行い、ろ過モジュールの洗浄時は、ろ過を停止し、ろ過モジュールの空気洗浄は所定時間毎に仕切り壁を介した両方のろ過モジュールに対して交互に実施する固液分離方法、装置。 （もっと読む）

基板処理装置（１）は基板の周縁部を研磨する第１研磨ユニット（４００Ａ）および第２研磨ユニット（４００Ｂ）を備えている。２台の研磨ユニット（４００Ａ，４００Ｂ）はそれぞれ基板の周縁部を研磨するベベル研磨部（４５０Ａ，４５０Ｂ）と基板のノッチ部を研磨するノッチ研磨部（４８０Ａ，４８０Ｂ）を具備し、基板処理装置（１）は２台の研磨ユニット（４００Ａ，４００Ｂ）の間に配設されたメンテナンス用のスペース（７）を具備する。２台の研磨ユニット（４００Ａ，４００Ｂ）のベベル研磨部（４５０Ａ，４５０Ｂ）はメンテナンス用のスペース（７）に面した位置に設置され、該メンテナンス用のスペース（７）からアクセスできるようになっている。
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【課題】直径３００ｍｍ以上の基板などの大型の被処理物を処理することができ、しかも均一でプラズマポテンシャルの低い高密度プラズマを生成することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、被処理物が収容されるプラズマ生成室１と、互いに対向する少なくとも１対の端面５ａ，５ｂを有する磁路構造体５と、磁路構造体５に巻きつけられたアンテナコイル１１と、アンテナコイル１１に高周波電流を供給する高周波発生源とを備え、プラズマ生成室１は、端面５ａ，５ｂの間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】 曲面を含む表面の全体をドライ洗浄することができる表面洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】 本発明の表面洗浄方法は、被洗浄物２を回転させ、被洗浄物２の被洗浄表面４に対して斜めにエネルギー粒子１を照射し、洗浄工程には、前記回転および前記照射を同時に実行する時間帯及び／または前記回転および前記照射の一方のみを実行する時間帯が存在する。また、本発明の表面洗浄装置は、被洗浄物２を保持する保持部５と、被洗浄物２を回転させる回転機構３０と、被洗浄物２にエネルギー粒子１を照射するエネルギー粒子照射機構１６とを備え、エネルギー粒子１は、保持部５に保持された被洗浄物２の被洗浄表面４に対して斜めに照射される。 （もっと読む）

【課題】一般的で安価なマッチングボックスを用いて装置のコストを低く抑えるとともに、被処理物の歩留まりを高く維持することでプロセス全体のコストを下げることができる誘導結合型プラズマ源を提供する。
【解決手段】誘導結合型プラズマ源は、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室２と、プラズマ生成室２の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポート３と、プラズマ生成室２の壁に沿って配置されたアンテナ２０とを備えている。アンテナ２０の両端部２１，２２の中間点２５は電気的に接地される。誘導結合型プラズマ源は、アンテナ２０の両端部２５に高周波電力を供給してプラズマ生成室２の内部に誘導結合型プラズマＰを生成する高周波電源８を備えている。 （もっと読む）