【課題】構造が簡単で、ポンプの排水性能を低下させることがなく、しかも既存のポンプ装置に容易に取り付けることができる渦防止装置を提供する。
【解決手段】渦防止装置３５は、ポンプ１０の吸込管に取り付けられる。この渦防止装置３５は、吸込管１１の吸込口１１ａの径方向外側に配置され、略水平に延びるプレート状の水平張り出し部材３５ａを備える。水平張り出し部材３５ａは、液体の流れ方向に関して吸込管１１の下流側に配置される。 （もっと読む）

【課題】事前に多数の研磨試験などを行うことなく、より精密な研磨プロファイル制御を行うことができるようにする。
【解決手段】研磨面５２ａを有する研磨テーブル２２と、研磨対象物Ｗを保持し研磨面５２ａに押圧するトップリング２４と、研磨面５２ａに研磨液を供給する研磨液供給ノズル２６と、研磨液供給ノズル２６の研磨液供給位置２６ａを研磨面５２ａの略半径方向に沿って移動させる移動機構７０と、移動機構７０を制御するコントローラ６６と、研磨液供給ノズル２６の研磨液供給位置２６ａと研磨プロファイルとの関係を予測しシミュレーションを行ってコントローラに出力するシミュレータ７２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】配管内壁面に付着したダストを確実に除去でき、クリーニングガスの噴射を行う場合もクリーニングガス量が少なくて済む排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】排ガスを酸化分解する排ガス処理装置用ダスト除去装置であって、シャフト５７にダスト掻き取り部材５６を取りつけ、ダスト掻き取り部材５６を、排ガスを酸化分解する空間３０の内壁に対して往復動させることにより、空間３０の内壁に付着したダストを掻き落とす。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い摩耗検知を行うことができる水中軸受の摩耗検知機構を備えた立軸ポンプを提供する。
【解決手段】
本発明の立軸ポンプは、羽根車１０と、羽根車１０に連結された回転軸６と、羽根車１０および回転軸６を収容するポンプケーシング２と、回転軸６を回転自在に支持する滑り接触面を有する水中軸受１２，１５と、ポンプケーシング２の外部に配置された導通検知器３５と、水中軸受１２，１５に隣接して配置された一対の導体３７，３７と、一対の導体３７，３７と導通検知器３５とを接続する一対のケーブル４０，４０とを備え、一対の導体３７，３７の各端部は、水中軸受１２，１５の滑り接触面から回転軸６の径方向において所定の距離だけ離間しており、一対のケーブル４０，４０は、それぞれ少なくとも３本の導線４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃを有する。 （もっと読む）

【課題】発光デバイスや電子デバイスの材料として重要性が高まっているＧａＮ，ＧａＡｓ，ＧａＰ等のＧａ（ガリウム）元素を含有する化合物半導体の基板表面を、実用的な加工時間で、かつ表面精度高く平坦に加工できるようにする。
【解決手段】Ｇａイオンを含有する液性が中性域のｐＨ緩衝溶液からなる処理溶液１４の存在下でＧａ元素を含有する化合物半導体の基板１６を研磨具１０に接触させ、基板１６の表面に光を照射するか、若しくは基板１６にバイアス電位を印加して基板１６の表面にＧａ酸化物１６ａを形成し、または基板１６の表面に光を照射しながら基板１６にバイアス電位を印加して基板１６の表面にＧａ酸化物１６ａを形成し、同時に基板１６と研磨具１０を相対運動させて該基板１６の表面に形成されたＧａ酸化物１６ａを研磨除去する。 （もっと読む）

【課題】センサの出力信号がパターンの密度や構造の異なるエリアから受ける影響、あるいは、成膜工程で生じる周方向の膜厚のばらつきから受ける影響を軽減して、精度のよい研磨終点検知および膜厚均一性を実現することができる研磨方法および研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明の研磨方法は、被研磨物をトップリング１１４で保持しつつ回転させ、回転する研磨テーブル１１２上の研磨面に被研磨物Ｗを押圧して該被研磨物Ｗを研磨し、研磨テーブル１１２に設置されたセンサ１５０で研磨中の被研磨物Ｗの表面状態をモニタリングする工程を含み、所定の測定時間内にセンサ１５０が被研磨物Ｗの表面に描く軌跡が被研磨物Ｗの表面の全周にわたって略均等に分布するようにトップリング１１４と研磨テーブル１１２の回転速度を設定する。 （もっと読む）

【課題】ポンプの振動傾向を正確に管理することができるポンプ装置および方法を提供する。
【解決手段】本発明は、吸込水槽内の液体を汲み上げるポンプ装置に関する。このポンプ装置は、回転軸６、該回転軸６に固定された羽根車１０、および回転軸６を回転自在に支持する軸受１２，１５を有するポンプと、吸込水槽４０の液面位置を計測する液面計３０と、ポンプの振動を計測する振動計測器３４と、振動計測器３４の計測値を記録する記録装置４５と、記録装置４５による振動計測器３４の計測値の記録を開始および停止させる記録制御部４６とを備えている。記録制御部４６は、ポンプの吐出流量および吸込水槽４０の液面位置がそれぞれ所定の範囲内にあるときに、記録装置４５に計測値を記録させる。 （もっと読む）

【課題】比較的高い研磨レートを維持したまま、研磨液の消費量をより削減することができるようにする。
【解決手段】研磨面５２ａを有する研磨テーブル２２と、研磨対象物Ｗを保持し該研磨対象物Ｗを研磨面５２ａに押圧するトップリング２４と、研磨液供給ライン７２に接続されて研磨面５２ａに研磨液Ｑを供給する研磨液供給ノズル２６と、研磨面５２ａ上の研磨液量を研磨中に監視する研磨液量監視手段６０と、研磨液量監視手段６０の出力に応じて研磨液供給ノズル２６から研磨面５２ａに供給する研磨液Ｑの液量を調整する液量調整部７４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】たとえＣＭＰ後洗浄の場合等、残留物が基板に強固に付着して、既存の二流体ジェット洗浄を単に適用するだけでは十分な洗浄性能が得られない場合であっても、二流体ジェット洗浄をより有効に利用して、洗浄能力を高めた洗浄を行うことができるようにする。
【解決手段】基板に付着した汚染物を洗浄する基板の洗浄方法において、基板と基板上に付着している汚染物のゼータ電位の絶対値を増加させる処理を行い、しかる後、基板の表面に洗浄具を接触させて基板の表面を洗浄する接触洗浄と、ガスと液体を基板表面に向け同時に噴射して基板表面を洗浄する二流体ジェット洗浄とを行う。 （もっと読む）

【課題】温度変化によって部材が伸縮しても改質触媒が脱落することを防止する改質装置を提供すること。
【解決手段】原料ｒを改質して水素含有ガスを生成する改質装置は、改質熱を発生させる発熱装置１２と、原料ｒが流れる原料流路１８が形成された流路形成部材１５と、原料流路１８に充填された改質触媒ＲＣと、改質触媒ＲＣの落下を防止しつつ流体ｒ、ｓ、ｊを通過させる受板３１と、受板３１の変形を抑制する補強部材３２とを備える。流路形成部材１５は、発熱装置１２を内部に収容する第１の筒状部材１６と、第１の筒状部材１６を内部に収容する第２の筒状部材１７とを有する。原料流路１８は第１の筒状部材１６と第２の筒状部材１７との間に形成されている。受板３１は第１の筒状部材１６に固定されているが第２の筒状部材１７には固定されていない。補強部材３２は、平板状に形成され、第１の筒状部材１６と受板３１とに固定されている。 （もっと読む）