【課題】たとえＣＭＰ後洗浄の場合等、残留物が基板に強固に付着して、既存の二流体ジェット洗浄を単に適用するだけでは十分な洗浄性能が得られない場合であっても、二流体ジェット洗浄をより有効に利用して、洗浄能力を高めた洗浄を行うことができるようにする。
【解決手段】基板に付着した汚染物を洗浄する基板の洗浄方法において、基板と基板上に付着している汚染物のゼータ電位の絶対値を増加させる処理を行い、しかる後、基板の表面に洗浄具を接触させて基板の表面を洗浄する接触洗浄と、ガスと液体を基板表面に向け同時に噴射して基板表面を洗浄する二流体ジェット洗浄とを行う。 （もっと読む）

【課題】排ガスの有する熱を有効利用する排ガス処理装置および排ガス処理方法を提供する。
【解決手段】排ガス処理装置１０ａは、被処理ガスを処理する第１の処理剤５１が充填された第１の処理槽１１と、２重管構造の処理槽であって、内側に配置された内筒２２と外側に配置された外筒２３で第１の空間ａが形成され、内筒２２の内側に第２の空間ｂが形成され、内筒２２は第１の空間ａと第２の空間ｂとの間で熱交換する熱交換器を構成し、第１の空間ａと第２の空間ｂのうち一方に第１の処理剤５１とは異なる第２の処理剤５２が充填された第２の処理槽２１とを備える。さらに、第１の空間ａと第２の空間ｂのうち他方を通過した排ガスを第１の処理槽１１に送る第１の配管４２とを備える。また、第１の処理槽１１は排ガス排出口１２を有し、排ガス排出口１２は第２の処理剤５２が充填された空間と連通するように該空間に接続される。 （もっと読む）

【課題】特に、近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮを、加工効率が高く、且つ任意の形状に、比較的容易に加工できるようにする。
【解決手段】 液体１０中に被加工物１４と電極１６とを互いに対向させて配置し、被加工物１４と電極１６との間隙に酸素原子を含有する気体２０を供給しながら、被加工物１４と電極１６の間に高周波電圧を印加して、被加工物１４と電極１６との間隙に供給される気体２０にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】ケーシング内部に収納した回転体をケーシングから取り出すことなく、回転体を軸支している転がり軸受を容易に取り換えることができる横軸円筒型水力機械の軸受交換装置及び軸受交換方法を提供すること。
【解決手段】横置きにしたケーシング１１内部に羽根車１５と回転軸３３，３５とを含む回転体を収納し、回転軸３３，３５を転がり軸受４１，４３にて回転自在に軸支してなるチューブラポンプ（横軸円筒型水力機械）１０である。転がり軸受４１，４３を内蔵している軸受ケ−ス３７，３９を上下動することで回転体（羽根車１５及び回転軸３３，３５）を上下動させるジャッキボルト６５，６９と、ジャッキボルト６５，６９によって回転体を上下動することで回転体を載せて転がり軸受４１，４３の代りに回転体の重量を支える回転体支持ビーム８１，８３及び台座７５，７９とを有する。 （もっと読む）

【課題】燃料電池の運転を安定させつつ過昇温による停止を回避する。
【解決手段】燃料電池システム１は、系統電力９８に連系された燃料電池２０と、冷却水ｃと熱交換媒体ｈとで熱交換を行わせる熱交換器３０と、冷却水ライン２１Ａに設けられたヒータ５０と、吐出流量が可変に構成された冷却水ポンプ２２と、出口温度検出器６８と、入口温度検出器６７と、加熱後温度検出器６９と、冷却水ポンプ２２の吐出流量を調節して燃料電池２０を好適な温度に維持する定常運転制御を行う制御装置６０とを備える。さらに制御装置６０は、加熱後温度検出器６９が所定の温度を検出したとき又はヒータ５０に電力が供給されたことを検出したときに定常運転制御を一時中断して、冷却水ポンプ２２の吐出流量を所定の流量に増加させる制御を、所定の時間行った後又は加熱後温度検出器６９で検出された温度が所定の温度未満となるまで行った後に再び定常運転制御を行う。 （もっと読む）

【課題】小水量管理運転を用いた際の管理運転水量を通常排水量に近づけることで、より信頼性の高い管理運転が可能となるポンプ設備を提供すること。
【解決手段】吸込水槽１０内の液体を揚水するポンプ３０と、ポンプ３０の吐出側に設けた吐出弁４７とを有するポンプ設備１−１である。吐出弁４７の上流側に切替弁５３を有する管理運転用のバイパス管５１を接続する。バイパス管５１は途中で２つに分岐する分岐管であり、分岐した第１，第２の分岐管５１Ａ，５１Ｂの各吐出口を吸込水槽１０の複数個所に開口させる。 （もっと読む）

【課題】電源装置の容量を大きくすることなく、ポンプ内に異物が混入し噛み込み等が発生し、一時的に高トルク運転が必要となった場合でも、簡単な構成で一時的に大きな電動機軸出力を出力させ、噛み込みを解消できるドライ真空ポンプ用電源装置を提供すること。
【解決手段】整流器、平滑コンデンサを備えた直流回路、インバータ回路を備え、交流電源からの交流電力を整流器で直流電力に変換し、直流回路を介しインバータ回路に供給し、インバータ回路で所定周波数の交流電力に変換し、ドライ真空ポンプの駆動電動機に供給するように構成したドライ真空ポンプ用電源装置であって、補助電力回路と、駆動電動機が定格軸出力より大きい軸出力を必要とする場合、補助電力回路から所定のタイミングで直流回路に補助電力を供給し直流回路の電圧又は電流を増大させ、大きい軸出力が不必要となった場合、所定のタイミングで補助電力の供給を停止する切替手段とを設けた。 （もっと読む）

【課題】配管内に流体を注入しなくても事前に流体漏れ検査が行なえ、これによって組み立て作業性が向上して工期の短縮が図れ、工事コストの低減化が図れるルーズ短管式管継手およびポンプ機構を提供すること。
【解決手段】第１の配管１０の端部と隙間Ｓ１を介して配置される第２の配管２０と、第１の配管１０に連結されるとともに第２の配管２０の外周を囲むルーズ短管４０と、ルーズ短管４０の内周面と第２の配管２０の外周面間の間隙を密閉して漏れ検査空間Ｋ１を形成する第１，第２弾性体リング６０，７０とを具備するルーズ短管式管継手１−１である。ルーズ短管４０には漏れ検査空間Ｋ１の漏れを検出する漏れ検査用の穴４９，５１を設ける。 （もっと読む）

【課題】稼働停止時における電力等のユーティリティを低減する。
【解決手段】ＣＭＰ装置１の回転定盤１７に取り付けた研磨パッド１６とトップリング１８との間に半導体ウエハＷを保持して相対回転させてウエハＷを研磨する。リンス水供給管１１にリンス水流量調整弁１３を設けて、研磨部２内の研磨パッド１６に間欠的に純水を供給して湿潤状態に保つ。洗浄部３には研磨した半導体ウエハＷを洗浄用スポンジローラ２６，２７で挟持して洗浄して搬送する。リンス水供給管１２ａ、１２ｂにリンス水流量調整弁１４、１４を設けて、洗浄用スポンジローラ２６，２７に間欠的に純水を供給して湿潤状態に保つ。純水の供給間隔をｔ分とし、１回毎の純水の供給継続時間をｄｔ秒として、下記の（１）式と（２）式を満足する。ｄｔ＝２０{１．６−ｅｘｐ（−０．０１７８３ｔ）} ……（１）、１０≦ｔ≦３０ ……（２） （もっと読む）

【課題】工場などから出される排熱より低圧蒸気を製造し、その低圧蒸気を昇圧することで排熱の用途を拡大することのできる、排熱を利用した蒸気発生システムＡを実現する。
【解決手段】蒸気発生システムＡは、第１蒸気発生源Ｂとしてのヒートポンプ１０と、中圧蒸気製造手段Ｃを構成する第２蒸気発生源であるボイラ２０と蒸気昇圧装置としてのエゼクター３０とを備える。エゼクター３０にはボイラ２０からの第２の蒸気が駆動蒸気として供給され、またヒートポンプ１０の第１の蒸気が吸引蒸気として供給される。それにより、排熱を利用しながら、エゼクター３０から、工場で熱源として広く使用されている０．１〜１．０ＭＰａ程度の中圧の吐出蒸気を得ることができる。 （もっと読む）