【解決手段】(I)酸でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位及びラクトン構造含有繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂として含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1レジスト膜を形成し露光、アルカリ現像して短辺が200nm以上のポジパターンである大面積パターンを含む第1レジストパターンを形成する工程、
(II)第1レジストパターン上に共役酸pKaが4以上の塩基性含窒素化合物を有するレジスト変性用組成物を塗布し、加熱して第1レジストパターンの変性処理を行う工程、
(III)その上に第2ポジ型レジスト材料を塗布し露光、アルカリ現像して第2レジストパターンを形成する工程
を含む多重パターン形成方法であり、第2レジストパターン形成後の第1レジストパターン中の大面積パターン残膜率が50%以上のパターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト変性用組成物を用いたダブルパターニングプロセスにおいて、有効なアライメントマークの形成が可能。 （もっと読む）

【課題】ペリクルはペリクルフレームの粘着剤をフォトマスクに圧力をかけて押し当てることで貼り付けが行われる。フォトマスクはその光エネルギーによって昇温し、その熱により粘着剤が膨張したり、軟化したりしてフォトマスクとペリクルの位置関係にズレが生じてしまう。
【解決手段】フォトマスクに生じた熱を速やかに外部に放熱し、フォトマスクに貼着したペリクル１が、露光により昇温したフォトマスクの熱によって位置ズレを起こすのを防止するため、粘着層１３に金属粉末等の熱伝導性充填剤を配合する。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）


（Ｒ^a、Ｒ^bは−ＡＲ¹又は−ＯＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴であり、それぞれ異なる。Ｒ¹〜Ｒ⁶は１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。Ａは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−又は２価有機基であり、エーテル基、カルボニル基、エステル基、スルフィド基又はジスルフィド基を含んでもよい。Ｂは２価有機基であり、炭素原子の１個以上がＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）
で示される保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物。
【効果】本発明の保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物は、精製、保存中も安定に存在し、加水分解時は脱保護されることで加水分解も容易に行われる。また、これを用いて無機材料等の表面処理を行うことで、親水性を付与したり、表面の撥水性、撥油性、転落角や転落速度等、表面滑り性の制御をすることができる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）熱硬化性オルガノポリシロキサン、
（Ｂ）白色顔料、
（Ｃ）無機充填剤（但し、白色顔料を除く）、
（Ｄ）硬化触媒、
（Ｅ）離型材、
（Ｆ）シランカップリング剤
を必須成分とする光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物において、（Ｂ）成分の白色顔料がアルミナ又はシリカとアルミナで表面処理されている単位格子がアナタース型構造の二酸化チタンであり、波長３５０〜４００ｎｍで光反射率が８０％以上である光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
【効果】本発明の白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物は、光半導体ケース形成用として使用した場合、波長３５０〜４００ｎｍにおいて８０％以上と高い光反射率を維持する硬化物を与えるものである。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位、酸不安定基含有繰り返し単位及びカーバメート構造含有繰り返し単位を共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布し第1レジスト膜を形成する工程、第1レジスト膜を露光後加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して酸に対して不活性化し、基板上の第1レジストパターン上にC3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して第2レジスト膜を形成する工程、第2レジスト膜を露光し、PEB後現像して第2レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）熱硬化性オルガノポリシロキサン、
（Ｂ）白色顔料、
（Ｃ）無機充填剤、
（Ｄ）硬化触媒、
（Ｅ）離型材
（Ｆ）シランカップリング剤
を必須成分とする光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物において、（Ｆ）シランカップリング剤として、一般式（１）
（Ｒ³Ｏ）_dＳｉＲ⁴_e （１）
（Ｒ³は同一又は異種の炭素数１〜４の有機基を示し、ｄは１又は２、ｅは２又は３を表す。Ｒ⁴はアルケニル基を含む炭素数が１〜１０の有機基である。）
で表されるシランカップリング剤が配合され、パラジウムでメッキされたリードフレーム基板への接着力が５ＭＰａ以上であるシリコーン樹脂組成物。
【効果】本発明の白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物は、光半導体ケース形成用として使用した場合、パラジウムでメッキされたリードフレーム基板に対する接着性に優れる硬化物を与えるものである。 （もっと読む）

【解決手段】直接火炎加水分解法により得られ、０〜２５０℃における線熱膨張係数が−３００〜３００ｐｐｂ／℃の範囲内であって、２５℃における線熱膨張係数分布が１００ｐｐｂ／℃以下であるチタニアドープ石英ガラスを使用することを特徴とするナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス。
【効果】本発明によれば、微細パターン転写時のモールドの温度変化による変形を抑制することができ、位置精度の高いナノインプリントによる微細パターンの転写が可能となる。 （もっと読む）

【解決手段】重量平均分子量が３００〜２００，０００であり、１分子当たり少なくとも１個の(Ｒ¹ＳｉＯ_3/2)単位(Ｒ¹は式(１)で示される有機基)を有するオルガノポリシロキサン化合物を含有する化粧料。


【効果】このオルガノポリシロキサン化合物は、ピロリドンカルボキシル基を含む有機基が連結したケイ素原子から３方向にポリシロキサン鎖が伸びた構造をとり、このためこのオルガノポリシロキサン化合物を配合することで、効果的な毛髪、粉体の表面処理ができる化粧料が得られ、更に、べたつきがなく、化粧持ちも良い化粧料が得られる。 （もっと読む）

【課題】繊維、毛髪、紙、無機充填剤等の表面処理を行うことができるシロキサン分岐構造を有する新規オルガノポリシロキサン化合物を提供。
【解決手段】重量平均分子量が３００〜２００，０００であり、（ＳｉＯ₂）単位及び（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）単位のうちの少なくとも１個を有するオルガノポリシロキサン化合物。（Ｒ¹は、アルキレン基およびイミノ基で、珪素原子と連結されたピロリドン環を有し、ピロリドン環に置換基として−ＣＯＯＲ²を有し（Ｒ²は、水素原子、アルキル基、又はアルカリ金属）した置換基である。）
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【課題】複数の害虫を対象として制御された同時放出を可能とし、害虫の発生期間に適合させて性フェロモンを放出することができる性フェロモンの徐放性製剤及びその防除方法を提供する。
【解決手段】炭素数１０〜２０の脂肪族誘導体の性フェロモン物質を少なくも２つ以上含有する性フェロモン徐放性製剤であって、該脂肪族誘導体のうち、官能基の炭素数を含めない炭素数が最少の性フェロモン物質の一部又は全部が含まれる高分子材料の第１室と、残りの性フェロモン物質が含まれる高分子材料の第２室を備えてなる性フェロモン徐放性製剤を提供する。また、この性フェロモン徐放性製剤を用いる防除方法を提供する。 （もっと読む）