【解決手段】式（１）
Ｘ_m（Ｒ²）_nＳｉ（ＯＲ¹）_(4-m-n)・・・（１）
（ＸはＣ_6-18の１価炭化水素基、Ｒ¹、Ｒ²は１価炭化水素基、ｍは１又は２、ｎは０又は１、ｍ＋ｎは１又は２）
で表される有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む有機ケイ素化合物原料を、加水分解、重縮合することによって得られる環状体オルガノポリシロキサンとリニア体オルガノポリシロキサンを含有するオルガノポリシロキサンであって、ケイ素核磁気共鳴スペクトル分析における式（１）で表される化合物由来のピークのアルコキシ基が２つ加水分解縮合し、シロキサン単位となった成分（Ｔ２）において、環状体成分を表すピーク成分（Ｔ２ａ）とリニア体成分を表すピーク成分（Ｔ２ｂ）との比率（Ｔ２ａ／Ｔ２ｂ）が０．９以上であるオルガノポリシロキサン、
揮発性の有機溶剤
を含有する撥水剤組成物。
【効果】本発明は撥水性及び撥水接続性に優れたものである。 （もっと読む）

【課題】高熱伝導性で圧縮永久歪が小さく、かつ耐熱性にも優れ、定着ロールや定着ベルトの被覆材として好適に用いられるシリコーンゴム組成物、及びこの組成物を用いて形成された高熱伝導性熱定着ロール及び高熱伝導性熱定着ベルトを提供する。
【解決手段】熱硬化型シリコーンゴム組成物１００質量部に、表面鉄含有量０．２質量％以下で平均粒子径が１〜５０μｍの炭化珪素を５０〜８００質量部配合してなることを特徴とする高熱伝導性熱定着ロール又は高熱伝導性熱定着ベルト用シリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】化粧料製造時に１００℃以上での加熱の必要がなく、また、優れた感触を示し、さらに他の増粘剤とも併用可能な、シリコーン変性ワックス組成物及び該組成物を含む化粧料を提供する。
【解決手段】融点１００℃以上のシリコーン変性ワックスと、融点８０℃以下の油剤からなり、該シリコーン変性ワックスの融点以上の温度で該シリコーン変性ワックスと該油剤とを溶解混合した後、冷却することにより調製された、化粧料用の組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する際のパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法。
【解決手段】フォトレジストパターン４の側壁にスペーサー７を形成して基板１上にパターンを形成するパターン形成方法において、フォトレジスト膜を成膜する工程は、塩基発生剤を含有するフォトレジスト膜材料を用いてフォトレジスト膜を形成し、フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する工程は、フォトレジストパターン上にシロキサン結合を有する珪素化合物を含む溶液を塗布した後、ベークによってフォトレジストパターン内に塩基発生剤よりアミン化合物を発生させ、該アミン化合物を触媒としてフォトレジストパターンの外側に珪素化合物の架橋部６を形成し、その後、未架橋の珪素化合物を除去することによりスペーサーを形成する。 （もっと読む）

【課題】 ロッド下部に堆積したガラス層表面にざらつきが発生せず、長手方向に安定して大きな比屈折率差を有する光ファイバプリフォームの製造方法を提供する。
【解決手段】 高周波誘導熱プラズマトーチに少なくともガラス原料、ドーパント原料及び酸素を供給し、プラズマ火炎中で合成されたガラス微粒子を、回転しつつプラズマトーチに対して相対的に往復運動するガラスロッド表面に付着堆積させる光ファイバプリフォームの製造方法において、該往復運動の往路のみガラス原料を供給し、該往路でのプラズマパワーを往路初期の所定時間その後の定常状態時のプラズマパワーよりも大きくし、生成したガラス微粒子をガラスロッド上に堆積させることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】シリコーンオイル、極性の高い成分、及び粉体を含む化粧料における分散状態を安定に維持し、且つ、皮膚親和性に優れた化粧料を与えるオルガノポリシロキサン及びそれを含む化粧料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるオルガノポリシロキサン。


[式（１）中、Ｒ１は、互いに独立して炭素数１から３０のアラルキル基、炭素数１から３０のフッ素置換アルキル基、炭素数６から３０のアリール基、および炭素数６から３０のアラルキル基から選ばれる基であり、Ｒ２はスクシニル基から誘導されたカルボキシル基およびエステル基を含有する基。］ （もっと読む）

【課題】転写後の表面に防汚処理層を付与することの出来る硬化樹脂層の製造方法を提供する。
【解決手段】離型基材上に、含フッ素化合物を含む硬化性樹脂組成物を塗工し、次いで、硬化または部分硬化させた後に該離型基材と硬化樹脂層を剥離して、あるいは該離型基材と硬化樹脂層を剥離した後に硬化性樹脂組成物を硬化または部分硬化して、硬化樹脂層を製造する方法において、離型基材の表面部分が含フッ素化合物を含有しているところの上記方法。 （もっと読む）

【課題】べたつき感を与えることなく、皮膚との親和性及び密着性に優れるオルガノポリシロキサン、及び該オルガノポリシロキサンを含む化粧料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるオルガノポリシロキサン。


[式（１）中、Ｒ^１は、互いに独立に、Ｃ_１−３０アルキル基、Ｃ_１−３０フッ素置換アルキル基、Ｃ_６−３０アリール基、及びＣ_６−３０アラルキル基から選ばれる基であり、Ｒ^２は、無水アリルコハク酸の反応生成物であり，さらに２−アミノ１．３−プロパンジオールとの反応生成物である。Ａはポリジアルキルシロキサンの反応生成物である。 （もっと読む）

【課題】モノマー含有量及び高分子量体も少なく、分子量分布がシャープであり、環状体ポリシロキサン成分の多いオルガノポリシロキサン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）ＸＳｉ（ＯＲ¹）₃・・・（１）（Ｘは官能基を含んでいてもよい１価炭化水素基、Ｒ¹は１価炭化水素基）で表される有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む有機ケイ素化合物原料を加水分解、重縮合することによって得られるオルガノポリシロキサンであって、Ｍｗ／Ｍｎが１．２以下であり、ケイ素核磁気共鳴スペクトル分析における式（１）で表される化合物由来のピークのアルコキシ基が２つ加水分解縮合し、シロキサン単位となった成分（Ｔ２）において、環状体成分を表すピーク成分（Ｔ２ａ）とリニア体成分を表すピーク成分（Ｔ２ｂ）との比率（Ｔ２ａ／Ｔ２ｂ）が０．９以上であるオルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が１０〜９０容量％であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記粘着層に含有される気泡の数平均直径が１０〜２００μｍである。 （もっと読む）