【解決手段】合成石英ガラスブロックを複数個積み重ねて、これらを雰囲気炉内で熱処理する合成石英ガラスの熱処理方法であって、上記合成石英ガラスブロックが多角柱又は円柱であって、その高さがこの多角柱の底面の対角線よりも短い又は円柱の底面の外径よりも短いものであり、これらブロック間に空隙を設けてブロック同士を接触させずに積み重ね、熱処理する合成石英ガラスの熱処理方法。
【効果】本発明によれば、例えば、エキシマレーザ、特にはＡｒＦエキシマレーザ用、更にはＡｒＦ液浸技術等に使用されるフォトマスク用合成石英マスク基板材用途、所謂レチクル材用に使用され、良好な透過率及び均一な透過率分布を有し、しかも劣化の少ない上、更には複屈折率の低いエキシマレーザ用合成石英ガラス基板、また高精細ディスプレイ用の光部品用基板等の素材となる合成石英ガラスを提供できる。 （もっと読む）

【解決手段】バーナーから形成される高温火炎ガス域内に石英ガラス形成原料を供給して、この石英ガラス形成原料から石英スートを生成させ、このスートから合成石英ガラスを製造する方法において、バーナー全体及び合成石英ガラスの成長部位を共に囲繞する囲繞管を設けると共に、囲繞管を覆うように、かつ高温火炎ガス域の下流部及び合成石英ガラスの成長部位を共に覆うよう排気用風洞を設け、これら囲繞管及び風洞内に浮遊スートの排出方向に沿って浮遊スート排出用気体を流通させ、この排出用気体と共に浮遊スートを含む高温火炎ガス流を排出する合成石英ガラスの製造方法。
【効果】未固着の浮遊スートがインゴットの溶融成長面へ付着することを防止することができ、成長中の石英ガラス中に発生する泡の生成を防止することができ、バーナーから供給される酸水素流量の低減ができて、エネルギー効率の向上が図れる。 （もっと読む）

【課題】パーフルオロポリエーテルとシリコーン双方の特性を有し、有機溶剤もしくは塗料、化粧料、各種コーティング材料等との親和性に優れている化合物の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル変性ポリシロキサン。


［式中、Ｘ、Ｘ’は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−又は−Ｙ−ＮＲ−ＣＯ−（式中、Ｙは、−ＣＨ_２−又は下記式


）、Ｒｆは、パーフルオロポリエーテル基］ （もっと読む）

【課題】脱酢酸型室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物において、刺激臭を極力低減し、かつ耐薬品性に優れた室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）：ＨＯ（ＳｉＲ¹₂Ｏ）_nＨ（Ｒ¹はＣ１〜１０の一価炭化水素基、ｎは１０以上の整数）のオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）式（２）：Ｒ²_aＳｉ（ＯＣＯＲ³）_4-a（Ｒ²はＣ２〜１０の一価炭化水素基、Ｒ³はＣ１〜１０の一価炭化水素基、ａは０〜２）のシラン化合物又はその部分加水分解物、
（Ｃ）式（３）：Ｓｉ（ＯＣＯＲ⁴）_4-b（ＯＲ⁵）_b（Ｒ⁴、Ｒ⁵はＣ１〜１０の一価炭化水素基、ｂは１〜３）のシラン化合物又はその部分加水分解物、
（Ｄ）アルミニウム原子を有する充填剤、
（Ｅ）結晶性シリカ、
（Ｆ）煙霧質シリカ、
（Ｇ）少なくとも１種の香料、
（Ｈ）硬化触媒
を必須成分としてなることを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒系の発泡に対して優れた消泡効果、発泡抑制効果を示すシリコーン系消泡剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


［式中、Ｘは、式：−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−又は−Ｙ−ＮＲ−ＣＯ−（式中、Ｙは、式：−ＣＨ_２−又は特定式で表わされる二価の基であり、Ｒは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基またはアリール基である）で表される二価の基であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、互いに独立に炭素数１〜１０のアルキル基またはアリール基であり、Ｘ’は、式：−ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−又は−ＣＯ−ＮＲ−Ｙ’−（式中、Ｙ’は、式：−ＣＨ_２−又は特定式で表わされる二価の基であり、Ｒは上記と同じである。）で表される二価の基であり、ａは互いに独立に０又は１であり、ｚおよびｚ’は互いに独立に５〜１００の整数］で示されるパーフルオロポリエーテル変性ポリシロキサンを消泡有効成分として含有する。 （もっと読む）

【解決手段】（１）スルホニウム構造を有する構成単位、（２）フェノール性水酸基を有する構成単位、（３）酸不安定基を有する構成単位、（４）アセナフチレン化合物またはインデン化合物において、（１）〜（３）又は（１）〜（４）で示される繰り返し単位を有し、かつ（１）の単位がポリマーを構成する全単位中に占める割合が１０モル％以下であるポリマーを含有する化学増幅ポジ型フォトレジスト材料。
【効果】ベース樹脂のポリマーが一般的に用いられる重合溶剤、精製溶剤やレジスト溶剤に対する溶解性に問題がなく、また、クロム系材料のような、パターン形成に際してのパターン剥がれやパターン崩壊を起こし易い材料を表面に持つ被加工基板上でも、安定したパターン形成ができる。 （もっと読む）

【解決手段】一分子中に珪素原子と結合するアルケニル基を２個以上有し、及び／又は、一分子中に珪素原子と結合するヒドロキシル基を２個以上有するオルガノポリシロキサンと、比表面積（ＢＥＴ法）が１０ｍ²／ｇ以上の充填剤とを必須成分とするシリコーン組成物の製造するに際し、上記成分を、混合容器自体が回転し、その混合容器の中心からずれた位置に設置された高速回転混合翼を有し、固定スクレーパーにより垂直方向の対流を発生させることができるバッチ式高剪断混合機にて混練を行うことを特徴とするシリコーン組成物の製造方法。
【効果】本発明のシリコーン組成物の製造方法によれば、良好な流動性を有し、最終的に製品の物性値を満足し得るシリコーン組成物を短時間で効率良く、安価に製造可能で、かつ多品種化にも対応可能で、エネルギー原単位の向上も図ることができる。 （もっと読む）

【解決手段】複数個の永久磁石セグメントがロータコア側面に張り付けられた回転子と、複数のスロットを有するステータコアに巻線を巻いた固定子とを空隙を介して配置した永久磁石回転機において、前記永久磁石の端部は中央部より薄い形状で、前記永久磁石は、Ｒ¹−Ｆｅ−Ｂ系組成からなる焼結磁石体であり、Ｒ²の酸化物、Ｒ³のフッ化物、Ｒ⁴の酸フッ化物から選ばれる（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は希土類元素）粉末を当該磁石体の表面に存在させた状態で、当該磁石体及び粉体を当該磁石の焼結温度以下の温度で真空又は不活性ガス中において熱処理を施し、永久磁石端部の保磁力が中央部より高いことを特徴とする永久磁石回転機用永久磁石セグメントの製造方法。
【効果】本発明は、永久磁石回転機に適した永久磁石の残留磁束密度の低下がなく、保磁力の大きな磁石を提供できる。 （もっと読む）

【課題】シリコーンゴムコンパウンド調製後に、別途、特別に加熱処理を行うことなく製造でき、アセトン抽出による重合度１０以下の低分子シロキサン含有量が２，０００ｐｐｍ以下のシリコーンゴムが得られるシリコーンゴム組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）：Ｒ_nＳｉＯ_(4-n)/2
［Ｒは１価炭化水素基、ｎは１．９５〜２．０４］
で表され、重合度１０以下の低分子シロキサン含有量が２，０００ｐｐｍ以下の、一分子中に２個以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）式（２）：（ＨＯ）Ｒ¹₂ＳｉＯＳｉＲ¹₂（ＯＨ）
［Ｒ¹は１価炭化水素基又は（ＣＨ₃）₃ＳｉＯ基］
で表されるジシラノール化合物、
（Ｃ）比表面積５０ｍ²／ｇ以上の補強性シリカ、
（Ｄ）縮合触媒、
（Ｅ）硬化剤
を含有し、重合度１０以下の低分子シロキサン含有量が２，０００ｐｐｍ以下である硬化物を与えるシリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れたスルホニウム塩、そのスルホニウム塩を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩。


（Ｒ¹はフッ素原子又は他のヘテロ原子で置換されていてもよいアルキレン基等。Ｒ²はメチル基等を示し、また互いに異なるベンゼン環との酸素原子、メチレン、スルホンの連結基あるいは直接結合を示す。ｍは０〜５、ｎは０〜４。）当該スルホニウム塩を光酸発生剤として用いたレジスト材料は、レジストの解像性に優れ、レジスト材料として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）