【課題】トリアジン構造を有する被膜形成性、水溶性、樹脂との相溶性に優れた有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）


〔Ｒ⁰は水素原子、ヘテロ原子又はカルボニル炭素を間に挟んでも、置換基を有してもよい１価の炭化水素基で、少なくとも１つが-----Ｘ−Si(ＯＲ¹)n(Ｒ²)3-n構造の基である。（鎖線は結合手、Ｘは２価の炭化水素基、Ｒ¹は独立に水素原子又はアルキル基、Ｒ²はアルキル基、ｎは１〜３。）〕で示されるメラミン骨格を有する有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

【解決手段】Ｒ¹₂Ｔ₁₄Ｂ型化合物を主相とするＲ¹−Ｔ−Ｂ系焼結体に、Ｒ²（Ｓｃ及びＹを含む希土類元素から選ばれる１種又は２種以上の元素）と、Ｍ（Ｂ、Ｃ、Ｐ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｐｂ、Ｂｉから選ばれる１種又は２種以上の元素）とを含有する溶湯を急冷して得た急冷合金粉末を接触させ、真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結体の焼結温度以下の温度に加熱することによりＲ²元素を焼結体の内部に拡散させる。
【効果】Ｒ²とＭを含有する急冷合金粉末を焼結体上に塗布、拡散処理することにより、粉末の酸化が抑制されて取り扱い上の危険性が低減し、生産性に優れると共に、高価なＴｂやＤｙ使用量が少なく、残留磁束密度の低減を抑制しながら保磁力を増大させた高性能のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】
大型のペリクル、フォトマスクあるいはガラス基板のような大型精密部材を極めて清浄な状態を保ったまま保管、輸送できる、高剛性、軽量かつ低コストの大型精密部材収納容器を提供する。
【解決手段】
大型精密部材４を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ３とカバー２とを備える大型精密部材収納容器１において、トレイ３およびカバー２のうち、少なくともトレイ３は、アルミニウム、アルミニウム合金あるいはマグネシウム合金から構成される大型精密部材収納容器１とする。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法に好適に用いられるレジスト変性用組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位とラクトン構造含有繰り返し単位とを有する高分子化合物を含む第１レジスト膜を、露光、加熱処理、アルカリ現像して得られる第１レジストパターン上にレジスト変性用組成物を塗布し、加熱して変性処理を行い、その上に第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジストパターンを形成するパターン形成方法に用いるレジスト変性用組成物であって、下記式（１）又は（２）のカーバメート化合物と溶剤を含有する。
（もっと読む）

【解決手段】分子中に極性を持ちポリマーに密着性を与える単位と、酸不安定基で保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位を含有する化学増幅型レジスト用ポリマーとして、フッ素置換されたアルキル鎖を持つスルホン酸スルホニウム塩を側鎖に有する繰り返し単位の含有量が５モル％未満で、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が６０モル％以上のポリマーを用いる化学増幅型レジスト材料。
【効果】クロム化合物による膜表面のようなパターン形成が難しい基板上でも、パターン剥がれやパターンの崩壊を発生しにくいレジスト材料を提供できる。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供すること、及び、このようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームの断面が、上辺及び下辺が平行で面積が２０ｍｍ²以下の四辺形の少なくとも片方の側辺に、曲線を含む窪みを有する形状であることを特徴とするペリクルフレーム、及び、ペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。ここで、好ましくは、前記曲線が、円、楕円、双曲線及び放物線よりなる凸状曲線群から選ばれる。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供すること、及び、このようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行で面積が２０ｍｍ²以下の四辺形の少なくとも一つの側辺に少なくとも一つの三角形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム、並びに、前記ペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】低白金量でも硬化性が安定した付加硬化型のシリコーンエマルジョン組成物を提供する。
【解決手段】使用に際して混合される下記のエマルジョンＡとエマルジョンＢとからなり、〔エマルジョンＡの分散粒子の数平均粒子径〕／〔エマルジョンＢの分散粒子の数平均粒子径〕の比が0.4〜2.0である硬化型エマルジョン組成物。
・エマルジョンＡ：特定のアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、特定のオルガノハイドロジェンポリシロキサン、ノニオン系界面活性剤、ポリビニルアルコールおよび水を含み、分散粒子の数平均粒子径が300〜1000nmである。
・エマルジョンＢ：特定のアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、白金系錯体、ノニオン系界面活性剤、ポリビニルアルコールおよび水を含み、分散粒子の数平均粒子径が300〜1000nmである。 （もっと読む）

【解決手段】１）酸の作用でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位とラクトン構造含有繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料を、基板上に塗布して第１レジスト膜を形成し、加熱処理後に露光し、加熱処理後にアルカリ現像して第１レジストパターンを形成する工程、
２）第１レジストパターン上にレジスト変性用組成物を塗布し、加熱して変性処理を行う工程、
３）その上に第２ポジ型レジスト材料を塗布し、加熱処理後に露光し、加熱処理後にアルカリ現像して第２レジストパターンを形成する工程
を含むパターン形成方法に使用されるレジスト変性用組成物で、特定構造のベース樹脂とアルコール系溶剤を含む。
【効果】第１パターンの十分な不活性化、第２パターニング後の保持が可能となり、２回の露光と１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスが可能である。 （もっと読む）