【課題】 高品質が要求される半導体ウエハ基板の製造工程のＣＶＤやエピタキシャル工程に適用される反応ガス流を均等に制御して汚染物発生の少ない高速回転気相薄膜形成装置の提供し、それを用いることによりＣＶＤやエピタキシャル等により膜厚均一で、且つ、面内特性が均質な結晶欠陥が少ない薄膜を形成する。
【解決手段】 中空の反応炉の頂部に複数の反応ガス供給口、底部に排気口、内部にウエハ基板を載置する回転基板保持体、及び、内部上部に複数の孔が穿設された整流板を有し、内部に反応ガスを供給して回転基板保持体上のウエハ基板表面に薄膜を気相成長させる気相薄膜形成装置において、前記反応炉の中空内部が、相当内径が異なる上下部に区分され、上部の相当内径が下部の相当内径より小さく、且つ、上部下端と下部上端とが所定の形状の連結部により接続され中空内部が連続しており、連結部下端（下部上端）が前記回転基板保持体上に載置される前記ウエハ基板表面と所定の高低差を有する位置に配設されることを特徴とする高速回転気相薄膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】 簡単かつ小形に構成することができ、型厚調整を適正かつ簡便に行うことができると共に、複合的な型閉じおよび型締め操作を円滑に達成して効率的な射出成形等を行うことができる射出成形機等の複合型締装置を提供する。
【解決手段】 固定金型１２を取付けた固定盤１０に対し、タイバー１４を介して移動金型１６を取付けた移動盤１８を進退自在に対向配置し、前記移動盤１８をタイバー１４上において進退させる移動手段２４とその移動を所定位置おいて係止するための係合手段とを設けてなる射出成形機等の複合型締装置において、前記移動盤１８の後方にタイバー１４を介して型締ラム２２を設けた型締プレート２０を配置すると共に、前記係合手段として、タイバー１４と型締プレート２０を係合する型締用ハーフナット３０と、タイバー１４に対して位置移動手段２６により高圧型開位置を決める型開用ハーフナット２８とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 温度制御ループと厚さフィードバック制御ループとからなる熱変位式自動Ｔダイのカスケード制御方法において、温度制御ループを過去のヒータ制御出力値とこれに基づく周囲への放熱温度とから、ダイボルトの温度すなわちヒータ制御出力値を予測する仮想温度制御ループとして構成し、簡便かつ適正にプラスチックシート等のプロファイル制御を行うことができる熱変位式自動Ｔダイの制御方法を提供する。
【解決手段】 成形品の厚さデータをプロファイル処理して目標プロファイルを修正して適正なリップ間隙を得るダイボルトの温度設定および変更を行う演算処理を行う厚さフィードバック制御ループに対し、ダイボルトに取付けたヒータの制御出力値とこれに基づく周囲への放熱温度とから、適正なダイボルトの温度となるヒータ制御出力値を予測演算する仮想温度制御ループを設けてカスケード制御する。 （もっと読む）

【課題】傾斜コア本体の構成を簡素化し、寸法上の制限を少なくするとともに、傾斜コア冷却用の配管類の部品点数を少なくし、かつ移動型の内部構成を簡素化して寸法上の制限を少なくできるプラスチック成形型を提供することである。
【解決手段】連結ロッド１９の内部に冷却水通路４２を設け、この冷却水通路４２を傾斜コア本体２４内の冷却水流通路２５に連結させたものである。 （もっと読む）

【課題】 大径ネジ軸をこれと螺合する小径ネジ軸により駆動させるとともに、最終型締時に固定電磁プレートと移動電磁プレートを磁気吸引力発生手段により互に吸着させ、さらに空気圧により駆動するブッシュにより大径ネジ軸と螺合するナットの端面を押圧してその回転を防止して最終型締力を得る射出成形機の型締装置。
【解決手段】 移動ダイプレート６に固設され、型開閉用の大型ネジ部を外周部に有し、かつ、小径ネジ軸と螺合する小径ネジ孔部を大径ネジ部と同芯軸上に有する大径ネジ軸５と、大径ネジ軸５と螺合し回転自在であるナット７と、固定電磁プレート１２と、移動電磁プレート１１と、固定および移動電磁プレート１１，１２のうち少くともいずれか一方に設けた磁気吸引力発生手段１３，１４と、固定電磁プレート１２内に設けられて、空気圧により駆動されて大径ネジ軸５の軸方向に前記ナットの端面を押圧するブッシュ１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 研磨ヘッドの回転軸には真空引き用の通路のみを設け、押圧用の通路は省けるように構成することにより、研磨ヘッドの構造を簡素化する。
【解決手段】 研磨ヘッド１３は、回転軸１６と、トッププレート本体２２と、トッププレート本体２２と一体的に回転するように取り付けられ下面にウェーハの吸着面が形成されたトッププレート２３と、トッププレート２３の裏面中心部に当接する押圧部３９を有するピストン３６を有しかつトッププレート本体２２に同心的に組み込まれたトッププレート押圧用エアシリンダとを備え、トッププレート押圧用エアシリンダにエアを供給するエア通路３８をトッププレート本体２２に形成するとともに、トッププレート本体２２の外表面に開口する入口部に逆止弁付き継手４０を取り付け、さらに、ローダ装置１２に研磨ヘッド１３が移動したときに、逆止弁付き継手４０に対して着脱自在に接続可能なエア供給装置４２を配設する。 （もっと読む）

【目的】 効率のよい光導波路成膜装置を提供する。
【構成】 赤外光レーザ発生器５７が１μm 以下の波長のレーザ光を照射し、光学系５９が前記照射されたレーザ光を均一にする。この均一にされたレーザ光は光導波路パターンを描画されたマスク５５を通りウエハ２３に前記光導波路のパターンを投影する。ウエハ２３は、内部の気密を保持するチャンバ３内のステージ２１上に置かれており、前記レーザ光はチャンバ３の光導入窓１１から照射される。ウエハ２３が置かれているステージ２１には冷却装置２５が設けられておりこれによりウエハ２３を冷却する。また、二組以上のガス供給管３１，３５がウエハ２３に向かって少なくとも二種類のガスを供給し、プラズマ発生用の高周波電源５１およびマッチングボックス４９により高周波電力を供給されるアンテナ４１がプラズマを発生する。 （もっと読む）

【目的】 両型が閉じたとき、タイバーが片持となって可動盤と型締シリンダの重量が負荷されることなく、しかも可動盤と型締シリンダが型開閉時に互いにバラバラに動かないような型締シリンダと可動盤が一緒に進退する横形射出成型機の型締装置を提供する。
【構成】 型締シリンダと可動盤を一緒に固定盤に対して進退させる横形射出成型機の型締装置において、可動盤に一体的に取付けたフレーム上を摺動する架台と、同架台上に摺動自在に取付けた可動盤に一体的な型締シリンダを設けた。
【効果】 型締の際、可動盤は型締シリンダを架台に乗せたままフレームの摺動面Ａ上を移動するのでタイバーの他端は両金型が当接した後も型締シリンダと可動盤は下から支えられているので、片持とならないばかりでなく可動盤の進退動作の際、型締シリンダも可動盤の移動に同調して移動するので、可動盤と型締シリンダが互いにバラバラに動くようなことがない。 （もっと読む）

【目的】必要な濃度のドーパントガスが反応部へ導かれ、薄膜成長する上で１つの装置にて広範囲の濃度分布の製品が得られるようにする。
【構成】反応炉内に基板を配置し、反応炉内に、ガス供給源２３からのドーパントガスとキャリアガスを混合器ＭＸにより混合して供給し、気相成長により基板上に薄膜を形成するものにおいて、ガス供給源２３と混合器ＭＸの間、反応炉と混合器ＭＸの間、混合器とガス排気装置ＶＥＮＴとの間にそれぞれ配設され、ガス流量を制御可能な第１，第２，第３の流量制御器ＭＦＣ５，３，４と、ガス供給源と流量制御器の間の管路に配設された開閉弁ＰＶ５と、流量制御器ＭＦＣ３とガス排気装置の間の管路に配設された開閉弁ＰＶ１０と、流量制御器ＭＦＣ４とガス排気装置の間の管路に配設された開閉弁ＰＶ１２と、混合器とキャリアガスの供給管路の間に配設された開閉弁ＰＶ１１とを具備したもの。 （もっと読む）

【目的】 金型の厚さが変わっても、型厚調整をすることなく、確実に型締力が得られるようにする。
【構成】 固定電磁プレート８の移動ダイプレート７とは逆の側に、固定電磁プレート８に対し遠近方向に移動可能に、移動電磁プレート９を設け、両電磁プレート８，９に、磁気吸引力を発生させるための電磁石コイル１２をそれぞれ設ける。送りねじ軸１６とナット部材１３との組合せからなる移動ダイプレート駆動機構を移動ダイプレートに連結し、この駆動機構で金型の型閉じ動作を行う。続いて両金型の型締め動作を電磁石コイルの磁気吸引力で行う。 （もっと読む）