説明

日新電機株式会社により出願された特許

171 - 180 / 328


【課題】ポリフッ化ビニリデンを誘電体とするコンデンサ素子の実用化が図れるとともに、ポリフッ化ビニリデンを誘電体とするコンデンサ素子よりもさらに小型化することができる乾式金属蒸着フィルムコンデンサを提供すること。
【解決手段】金属蒸着層2を有する高誘電率フィラー例えばチタン酸バリウム粉を混入したポリフッ化ビニリデン樹脂フィルム1を巻回し、その端面に金属を溶射して電極3a、3bを形成し、その電極3a、3bに外部端子4a、4bを接続固着してコンデンサ素子を形成し、前記外部端子4a、4bを導出して、表面樹脂層5a、金属層5bおよび内面樹脂層5cで形成された金属ラミネートフィルム5で外装して乾式金属蒸着フィルムコンデンサを形成する。 (もっと読む)


【課題】瞬時電圧低下対策装置において、インバータの直流電源に電気二重層コンデンサを使用し、数秒〜十秒程度の比較的長い時間となる交流電源の開放停電を補償の対象とする。
【解決手段】交流電源10と負荷20との間に設けられた主サイリスタスイッチ40と、注入トランス50と、この二次巻線52に接続され、直流電源60を有するインバータ70とを備え、交流電源10の瞬時電圧低下発生時、直流電源60により交流電源の電圧低下分を補償すると共に、交流電源10の開放停電発生時、直流電源60により交流電源の電源電圧相当分を補償する瞬時電圧低下・停電対策装置であって、主サイリスタスイッチ40の交流電源側の補助サイリスタスイッチ80と、交流電源10の瞬時電圧低下発生時に補助サイリスタスイッチ80のOFF状態を保持し、交流電源10の開放停電発生時に補助サイリスタスイッチ80をONさせる制御回路90とを具備する。 (もっと読む)


【課題】低コストが容易な光起電力素子を提供する。
【解決手段】光起電力素子10は、p層3、i層4、n層5および電極6を透明導電膜2が形成された絶縁基板1上に順次積層した構造からなる。p層3は、p型poly−Si:Hからなり、n層5は、n型poly−Si:Hからなる。i層4は、複数の非晶質薄膜41と複数の結晶薄膜42とからなる。そして、複数の非晶質薄膜41および複数の結晶薄膜42は、非晶質薄膜41および結晶薄膜42が相互に接するように絶縁基板1に略垂直な方向に積層される。非晶質薄膜41は、ダングリングボンドが1×1018cm−3以上であるi型a−Si:Hからなる。結晶薄膜42は、i型poly−Siからなる。そして、i層4は、300nm〜1000nmの膜厚を有し、非晶質薄膜41および結晶薄膜42の各々は、10nm〜20nmの膜厚を有する。 (もっと読む)


【課題】低コストが容易な光起電力素子を提供する。
【解決手段】光起電力素子10は、p層3、i層4、n層5および電極6を透明導電膜2が形成された絶縁基板1上に順次積層した構造からなる。p層3は、p型a−Si:Hからなり、n層5は、n型a−Si:Hからなる。i層4は、複数の非晶質薄膜41と複数の結晶薄膜42とからなる。そして、複数の非晶質薄膜41および複数の結晶薄膜42は、非晶質薄膜41および結晶薄膜42が相互に接するように絶縁基板1に略垂直な方向に積層される。非晶質薄膜41は、i型a−Si:Hからなり、ナノサイズの結晶粒411と、光を吸収する光吸収剤412とを含む。結晶薄膜42は、i型poly−Siからなる。そして、i層4は、300nm〜1000nmの膜厚を有し、非晶質薄膜41および結晶薄膜42の各々は、10nm〜20nmの膜厚を有する。 (もっと読む)


【課題】 高周波サージにより変圧器容器自身の電位上昇を抑制できるガス絶縁計器用変圧器を得る。
【解決手段】 変圧器容器2内に変圧器本体をガス絶縁して収容する。変圧器本体の1次巻線の低圧側は変圧器容器2を気密に貫通するブッシング8を経て外に引き出し、接地端子板19に電気的に接続する。接地端子板19は、変圧器容器2に対して電気的に絶縁状態で固定する。接地端子板19に接地線12を接続する。接地端子板19と変圧器容器2に電気的に接続された接地端子23との間に接地線の電位上昇を押さえる放電用ギャップ形成電極対21を接続する。 (もっと読む)


【課題】 複数個の電気二重層コンデンサを直列に接続するに際して、正極用端子と負極用端子間の接触抵抗を可能な限り小さくして低抵抗化を図る。
【解決手段】 コンデンサ要素をラミネートフィルムで被覆したコンデンサ本体11の内部に電解液を封入すると共にそのコンデンサ本体11から正極用端子12および負極用端子13を導出した複数個の電気二重層コンデンサC1〜C4を直列に接続したモジュールであって、電気二重層コンデンサC1〜C4を平面状に並置してケース10内に収容し、隣接する一方の電気二重層コンデンサC2〜C4の正極用端子12と他方の電気二重層コンデンサC1〜C3の負極用端子13を溶接により電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】昇圧チョッパ回路に付属回路を設けることなく、単純な回路構成でスイッチング損失を低減したソフトスイッチングを実現容易にする。
【解決手段】スイッチング素子13のオンオフにより入力電圧VINを所定の昇圧比でもって昇圧した固定値の出力電圧VOUTを生成する制御方法であって、リアクトル11のリアクタンスをL、スイッチング素子13のオン時間をTON、スイッチング周期をT、入力電圧をVIN、出力電圧をVOUT、固定値の出力電圧VOUTを生成するための電流指令値をILAとした場合、スイッチング素子13のオン時間TONを演算式TON=ILA×2L/VINで算出し、そのオン時間TONに基づいて、スイッチング素子13のスイッチング周期Tを演算式T=TON×VOUT/(VOUT−VIN)で算出することにより、スイッチング素子13を零電流スイッチングで制御する。 (もっと読む)


【課題】 走行中の車両に対してITVカメラのフォーカス調整を常に的確に行い得る車両ナンバー読取装置を提供する。
【解決手段】 撮像カメラ22により得られたナンバープレートのグレースケール画像を二値化した二値画像からナンバープレート中の記号の水平エッジ位置を特定し、記号の水平エッジ位置を中心としてグレースケール画像上で水平方向左右に所定の画素数オフセットした勾配値計測範囲および基準値計測範囲を設定し、その勾配値計測範囲内でのグレースケール濃度の勾配値を計測値として算出すると共に、基準値計測範囲内でのコントラスト値を基準値として算出し、その基準値に対する計測値の割合をフォーカス評価値として算出するフォーカス評価部28を備える。 (もっと読む)


【課題】低温で基板上に直接粒径の揃ったシリコンドットを均一な密度分布で形成する方法及び装置を提供する。
【解決手段】チャンバ10内でシラン系ガス及び水素ガスからプラズマを形成してターゲット基板100上にシリコン膜を形成してシリコンスパッタターゲットを得、これをチャンバ1へ外気に触れさせることなく搬入配置して、チャンバ1内でスパッタリング用ガスからプラズマを発生させ、該プラズマでターゲットのシリコン膜をケミカルスパッタリングして基体S上にシリコンドットを形成する。 (もっと読む)


【課題】コンパクトなGISを提供する。
【解決手段】並列配置される2つの消弧室16c−1、16c−2、及び、2つの消弧室に対抗配置され且つ互いに直列に電気接続された第1の可動接触子16h−1及び第2の可動接触子16h−2を移動させて、2つの消弧室内の第1の固定接触子及び第2の固定接触子と第1の可動接触子及び第2の可動接触子とをそれぞれ接触又は開離させる操作機構部を有する遮断部16と、第1の固定接触子に接続された1次側母線、第2の固定接触子に接続された2次側母線、1次側母線に配置される線路断路器13、及び遮断部を収納する接地金属容器と、を有してガス絶縁開閉装置を提供する。 (もっと読む)


171 - 180 / 328