説明

株式会社明電舎により出願された特許

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【課題】半導体スイッチ,負荷電流,温度,主回路構成等によるサージ電圧の波形に応じて半導体スイッチの動作タイミングを調整することなく、各半導体スイッチの電圧分担を均等化させる。
【解決手段】直列接続された複数の半導体スイッチA,Bに出力されるゲート信号のタイミングを調整するゲートタイミング制御回路3において、コンパレータ4,4により、各半導体スイッチA,BのVce検出(A),(B)と、予め設定されたしきい値とを比較してVce検出における立ち上がりのタイミングを示すVce信号(A),(B)を出力する。そして、時間差制御部8において、ゲート信号に基づいて、前記各Vce信号(A),(B)の変化のタイミングが整合するように生成されたゲート出力(A),(B)をゲートドライバ2に出力する。 (もっと読む)


【課題】より一層短時間に鋼材表面を不動態化する。
【解決手段】オゾンガスとオゾン分解因子との反応により生成した酸化性化学種を鋼材の表面に供して当該表面を不動態化処理する。前記オゾン分解因子は不飽和炭化水素または紫外光である。鋼材が配管1bの形態に成された場合、配管1b内にオゾンガスを供給するガス供給管5を配管1bと同軸に挿通してガス供給管5の散気孔51からオゾンガスを供給すると共にガス供給管5と配管1a,1bとの間隙には前記オゾン分解因子として不飽和炭化水素ガスを流通させながら散気孔51の位置を当該不飽和炭化水素ガスのガス流の上流方向に移動させることにより配管1bの内面を不動態化する。 (もっと読む)


【課題】より均一な厚さの導電性被覆層を備え十分良好な特性(機械的特性,電気的特性)を有するベローズが得られるようにする。
【解決手段】ベローズ1の基体2の外周面側と内周面側とのうち少なくとも何れか一方に形成される導電性被覆層2a,2bにおいて、拡散接合によって形成する。拡散接合においては、平板状の基体2の少なくとも一端面側に対し平板状の導電性被覆層2a,2bを積層して、それら基体2と導電性被覆層2a,2bとを拡散接合する。そして、拡散接合された積層体を絞り加工によって筒状体に成形した後、その筒状体の側壁を蛇腹状に成形する。 (もっと読む)


【課題】デッドタイム補償後の遅延時間DTC_DLYおよび横流補償による遅延時間CCC_DLYをそれぞれ無くすこともできる。
【解決手段】デッドタイム補償部6は、PWM制御部4A,4BからのPWM指令(Gate)と相電圧(Vce1,Vce2)のオン・オフ時間の誤差時間を検出し、これら誤差時間を電圧指令値(Vcmd)と同じ単位のデッドタイム補償電圧(Vdtc)として変換し、これらを各インバータ1,2の次回のPWM制御のオン/オフの極性に応じて、各インバータの共通の電圧指令値(Vcmd)に加減算する。横流制御部9は、各インバータ間の横流(Ic)を検出し、各インバータの共通の電圧指令値(Vcmd)と同じ単位の横流補償値(Vccc)として求め、この横流補償値(Vccc)を横流(Ic)の値に応じて一方のPWM電圧指令値に加算し、他方のPWM電圧指令値から減算する。 (もっと読む)


【課題】カメラパラメータを用いることなく簡単に高精度の「pixel→高さ」換算式を求めることを可能とする。
【解決手段】長方形状に形成されその表面に白色領域1wと黒色領域1bとを交互に配されてなるキャリブレーション用機材1と、キャリブレーション用機材1の長手方向を撮影するように配設されたラインセンサカメラ2と、ラインセンサカメラ2から出力される画像信号に基づいてラインセンサカメラ2のキャリブレーションを行う処理用コンピュータ3とを備え、白色領域1wと黒色領域1bの幅がそれぞれ同一幅であるとともに白色領域1wと黒色領域1bとの境界線がキャリブレーション用機材1本体の長手方向に対して所定の角度θだけ傾斜するように構成した。 (もっと読む)


【課題】PLCで設計・構成するシリアル・データ通信の高速化を図ることができ、しかも受信データのジッタ許容範囲を明確にできる。
【解決手段】DPLL回路10のうち、データシフト回路DS1〜DS3は受信データからソースクロックCLKで同期を取った複数のシリアル・データを生成する。排他的論理和回路EX_ORは一対のシリアル・データから受信データの変化点を検出する。カウンタDPLCNTは、最大カウント値nが設定され、変化点から次の変化点までをソースクロックをカウントする。一致判定回路ANDはカウンタのカウント値が予め設定したカウント値n/2に一致したときに受信クロックとして出力する。ハイレベル・データ・リンク・コントローラ・モジュール(HDLC−IP)20は、受信クロックを使って受信データ(シリアル・データ)の転送制御を行う。 (もっと読む)


【課題】低抵抗な塗工電極を得ることを目的とする。
【解決手段】塗工電極の作製方法において、塗工電極に導電剤スラリー3を塗布して湿潤させた状態で塗工電極を圧延処理するので、導電剤3aが電極内部に移動し易くなり、導電剤3aが空隙部Aに埋め込まれるため、導電パスが増加し、抵抗値が低くなる。 (もっと読む)


【課題】圧接により半導体素子の制御用電極層と電極端子とを電気的に接続する半導体モジュールにおいて、電極端子の位置決めを正確に行う。
【解決手段】半導体素子2と、半導体素子2の制御用電極層と接続される電極端子3と、電極端子3を固定する固定部材4と、を備える半導体モジュール1において、電極端子3の中間部7に挿通孔10を形成する。そして、固定部材4の電極端子3の中間部7と接する面に、挿通孔10に挿通する突起部4aを形成する。また、突起部4aの端部に、電極端子3が係止する係止部を設ける。固定部材4を、電極端子3の電極接続部6が半導体素子2を押圧するように固定する。電極端子3の電極接続部6は弾性体であり、電極接続部6が弾性変形することで、電極端子3が固定部材4に付勢される。 (もっと読む)


【課題】システム同定モデル誤差を補正できる周期外乱抑制装置を提供する。
【解決手段】上位に制御指令値rnを発生する制御器を持ち、周期性外乱が発生する制御対象プラントPnの出力ynにおける、抑制制御対象とする周期外乱の周波数成分にシステム同定モデルの逆数で表現される逆システムを乗算して周期外乱を推定し、それを前記rnから差し引いて周期外乱dnを抑制する周期外乱オブザーバPDOと、周期外乱抑制制御中における周期外乱の各周波数成分が複素ベクトル平面に描くベクトル軌跡に基づいて、システム同定モデル誤差による位相誤差θrefを算出する位相算出手段(10,11)と、システム同定モデル誤差によるゲイン誤差Grefを算出するゲイン算出手段(20,21,22)と、前記θrefとGrefとを積算して求めた回転ベクトルPrefnを補正指令値として前記システム同定モデルを補正する。 (もっと読む)


【課題】スプライン軸を長くすることなく、嵌合を困難にする間隔を少なくすることなく、軸ぶれ等を確実に抑制できるスプライン連結構造を提供する。
【解決手段】連結しようとする一対の回転軸2,3の一方の回転軸2の端部と他方の回転軸3の端部に、雄,雌のスプライン連結部4,5を設け、これら雄,雌のスプライン連結部4,5を嵌め合わせることにより一対の回転軸2,3を連結するスプライン連結構造1であって、雄,雌のスプライン連結部4,5は、スプライン連結時において互いに嵌り合うロケートピン6とブッシュ7を備えている。 (もっと読む)


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