説明

サンケン電気株式会社により出願された特許

51 - 60 / 982


【課題】大容量インバータを小型で比較的容易に作製することが可能な電力変換装置を提供する。
【解決手段】電力変換装置10は、直流電源からの直流電力を交流電力に変換する複数の単相インバータ部16a,16b,16cの交流側を直列接続して単相多重変換器を構成し3相負荷11に電力供給する。単相多重変換器内の複数の単相インバータ部16a,16b,16cを、異なる種類のスイッチング素子で構成し、発生電圧が低い単相インバータ部16aはスイッチング速度が速いGaN系の化合物半導体で形成されたスイッチング素子で構成する。発生電圧が高い単相インバータ部16b,16cはオン電圧が低いSiC系の化合物半導体で形成されたスイッチング素子で構成する。 (もっと読む)


【課題】商用電源からの電源供給電力の総量を商用電源の目標電源供給電力に抑えることができる電源装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】商用電源1に無停電電源装置2a及び1以上の他の機器4a,4bが接続される電源装置であって、無停電電源装置2aは、1以上の他の機器4a,4bと無停電電源装置2aとの総合入力電力が商用電源1の目標電源供給電力を超えないように、無停電電源装置2aの入力電力を入力電力制限値により制限する制御器28aを備える。 (もっと読む)


【課題】ドレイン電極配線によって形成されるフィールドプレートに起因する電流コラプス現象への影響が抑制された窒化物半導体装置を提供する。
【解決手段】窒化物半導体からなる機能層20と、機能層20上に離間して配置されたソース電極3及びドレイン電極4と、ソース電極3とドレイン電極4間で機能層20上に配置されたゲート電極5と、機能層20上に配置された層間絶縁膜7と、層間絶縁膜7上に配置され、ドレイン電極4と電気的に接続されたドレイン電極配線41とを備える窒化物半導体装置であって、ゲート電極5とドレイン電極4間において、層間絶縁膜7を介してドレイン電極配線41が機能層20と対向する領域を有さない。 (もっと読む)


【課題】大型の放熱部材を用いることなく高い性能を発揮可能なパワー半導体モジュールを提供すること。
【解決手段】本発明のパワー半導体モジュール(1)は、第1セラミック基板(11)と、第1セラミック基板の一方の主面に配置された第1導電層(21)と、第1セラミック基板の他方の主面において第1導電層と対向する領域に配置された第2導電層(22)と、シリコンよりバンドギャップの広い材料で構成され、第1導電層の表面に配置されたトランジスタ(33a、33b)と、前記トランジスタのスイッチングによって第1導電層及び第2導電層に逆向きの電流変化が発生するように第1導電層と第2導電層とを電気的に接続する接続部材(35a)と、第2導電層の表面に一方の主面が接触するように配置された第2セラミック基板(12)と、第2導電層と絶縁されるように第2セラミック基板の他方の主面に配置された第3導電層(23)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体素子と基板との接合強度のばらつきを抑制し、得られる製品の歩留まりを向上させる。
【解決手段】半導体素子1と、少なくとも表面の主元素をCuとする基板2と、前記半導体素子より小さな形状のZnAl共晶はんだチップ3’と、をそれぞれ準備する工程と、前記半導体素子と前記基板とをそれぞれの接合面が対向するように配置して、これら基板と半導体素子との間に前記ZnAl共晶はんだチップを挟む工程と、前記基板と前記半導体素子との間に挟んだ前記ZnAl共晶はんだチップに荷重31をかけながら昇温して、前記ZnAl共晶はんだチップを融解させてZnAlはんだ層3を形成する工程と、前記ZnAlはんだ層に荷重をかけながら降温する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板直上の窒化アルミニウム層の平坦性が低いことに起因する信頼性の低下が抑制された半導体装置を提供する。
【解決手段】シリコン基板10と、シリコン基板上に配置された、不純物としてシリコンがドープされた領域を有する窒化アルミニウム層20と、窒化アルミニウム層上に配置された、複数の窒化物半導体膜が積層された構造のバッファ層30と、バッファ層上に配置された、窒化物半導体からなる半導体機能層40とを備える。 (もっと読む)


【課題】起動用電流供給回路による定常時の消費電力を削減することができるスイッチング電源装置を提供する。
【解決手段】
入力電源の投入時に、入力電源又はスイッチング素子の高圧電極から入力される高圧電源からデプレッションモードFETからなるスイッチ素子N1を介してスイッチング制御回路に動作電流を供給する起動用電流供給回路と、スイッチング動作が開始された後の定常時に、トランスの二次起電力による低圧電源を使ってスイッチング制御回路に動作電流を供給する定常時電流供給回路とを備え、スイッチ素子N1がオフ状態で、高圧電源からスイッチ素子N1を経由して接地端子に流れるもれ電流の経路に、端子Vccからの低圧電源を使ってもれ電流を阻止するバイアス電圧を、抵抗R3を介して供給する。 (もっと読む)


【課題】ターンオン時のスイッチング特性が変動せず、電力損失を発生せずにスイッチング素子を安定してターンオンさせることができるゲートドライブ回路。
【解決手段】ワイドバンドギャップ半導体かなるスイッチング素子Q1のゲートに制御回路からの制御信号を印加することによりスイッチング素子をオンオフ駆動させるゲートドライブ回路であって、制御回路とスイッチング素子のゲートとの間に接続されたコンデンサC1と抵抗R1とからなる並列回路と、並列回路にコンデンサC2とスイッチング素子Q2と抵抗R2からなる直列回路がさらに並列接続され、コンデンサC2とスイッチング素子Q2との接続点にダイオードD1のアノードが接続され、ダイオードD1のカソードとスイッチング素子Q2のゲートはスイッチング素子Q1のソースに接続され、制御信号のオフ信号に対してスイッチング素子Q1ゲートを負電位にバイアスする。 (もっと読む)


【課題】窒化物半導体層上の層間絶縁膜の開口部が、電界の集中が緩和される形状に安定して精度良く形成された窒化物半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒化物半導体層30と、窒化物半導体層30上に配置された第1の絶縁膜41と、第1の絶縁膜41上に配置された第2の絶縁膜42と、窒化物半導体層30上に互いに離間して配置された第1及び第2の主電極51,52と、第1及び第2の主電極51,52間で第2の絶縁膜42上に配置され、第1及び第2の絶縁膜に設けられた開口部を介して窒化物半導体層に接続するフィールドプレート60とを備える窒化物半導体装置であって、開口部において、窒化物半導体層30の表面と第1の絶縁膜41の側面とのなす第1の傾斜角が、窒化物半導体層30の表面と第2の絶縁膜42の側面を延長した線とのなす第2の傾斜角よりも小さく形成されている。 (もっと読む)


【課題】リードフレーム上に搭載された窒化物FETを備えスイッチング特性に優れた窒化物半導体装置を提供する。
【解決手段】窒化物FETと、複数のリードを含むリードフレームと、を備え、前記窒化物FETは少なくとも第1の主電極と第2の主電極と制御電極とを有し、前記リードフレームは、前記第1の主電極に接続される第1のリードと、前記第2の主電極に接続される第2のリード及び第3のリードと、前記制御電極に接続される第4のリードと、を有し、前記窒化物FETは、前記第3のリードと前記第4のリードとの間に印加される電圧に応じて前記第1のリードと前記第2のリードとの間に電流を流すことを特徴とする窒化物半導体装置。 (もっと読む)


51 - 60 / 982