【課題】基板保持手段の保持部の保持溝にパーティクルが蓄積することを防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理液を貯留する処理槽と、鉛直姿勢で水平方向に配列された複数の基板の最下端部および両側の各下端部をそれぞれ保持する第１保持部２０および第２、第３保持部を有し複数の基板を処理槽の内部に保持する基板保持具と、処理槽の底部近傍に設けられた吐出口から処理液を吐出する一対の吐出管とを備え、基板保持具の第１保持部２０および第２、第３保持部に、保持溝２０ａの溝底から保持部の側面に貫通する複数の貫通細孔２０ｂを、処理槽内に生じる処理液の流れに沿った方向に穿設する。 （もっと読む）

【課題】熱処理時における基板上の温度分布の面内均一性を向上させる。
【解決手段】熱処理装置１００には、ゲートバルブ６により開閉可能とされる搬送開口部５１１が形成される。ゲートバルブ６の備える遮蔽部材６１は、閉鎖位置Ｐ１におかれた状態において、その頂面６１１（反射体１の筒内部に対向する面）が反射板１１ａの内側面と面一におかれるように成型される。また、頂面６１１は、反射板１１ａと同一の反射率を有するように加工等される。したがって、遮蔽部材６１が閉鎖位置Ｐ１におかれた状態において、反射板１１ａの内側面と遮蔽部材６１の頂面６１１とによって、凹凸がなく、反射率も一様な反射平面が形成される。これによって、保持部２に保持された基板Ｗ上に均一な放射線束を形成することが可能となり、熱処理時における基板Ｗ上の温度分布の面内均一性を向上させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板の主面に対する処理液を用いた処理の面内均一性の向上を図ることができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ウエハに対するエッチング処理の開始に先立ち、エッチング液の温度がウエハの温度と同じ温度に調節される。そして、その温度調節されたエッチング液がウエハの表面および裏面に供給される。これにより、ウエハの表面および裏面に供給されたエッチング液がその表面および裏面を流れる間に、エッチング液とウエハとの間で大きな熱交換が行われるのを防止することができる。その結果、ウエハの表面および裏面の全域において、エッチング液の温度をほぼ同じ温度にすることができるので、エッチング液による処理のレート、つまりエッチングレートを均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の洗浄液に浸漬された基板に対し超音波を照射して基板を洗浄する場合に、装置の構造を複雑化させることなく、基板の洗浄面全域に効果的に超音波を照射して洗浄効果の均一性を高めることができる方法を提供する。
【解決手段】吐出管２０から供給された洗浄液が処理槽１０内の洗浄液中に拡散していくときの流動分布の推移状況と、処理槽１０の底部側から照射された超音波が処理槽内の洗浄液中を伝播していくときの合成波面の進行状況とが相互に適合するように、基板Ｗの配列方向と直交する方向に並設された複数の超音波振動子群２２からそれぞれ位相をずらして超音波を照射する。 （もっと読む）

【課題】処理槽の内部に形成される処理液の循環領域を狭小化して処理液の置換効率を向上させるとともに、複数枚の基板の間隙に処理液を良好に流入させる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】下段ノズル１４ｂの吐出孔１４１の向きを、底板１１ａの上面の法線Ｎに対して内側方向に５°以上かつ４０°以下の角度θに設定する。これにより、吐出孔１４１から吐出された処理液の流圧が過度に低減されることはなく、また、内槽１１の内部において大きな処理液の循環領域ＣＡが形成されることもない。したがって、基板Ｗの間隙に処理液を良好に流入させつつ、内槽１１の内部の処理液を効率よく置換できる。 （もっと読む）

【課題】処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理カップ２５の上段には、第２構成部材２２の第２案内部３８の上端部３８ｂと第３構成部材２３の上端部２３ｂとの間に、ウエハＷの端面に対向し、第１薬液を捕獲する第１薬液捕獲口としての第３開口５７が形成される。処理カップ２５内の下段には、傾斜部４１の先端部と第４構成部材２４の傾斜部４６の先端部との間に、第１雰囲気捕獲口５８が形成される。第３開口５７と第１雰囲気捕獲口５８との上下方向における中間位置（中段）に、処理カップ２５内に下降気流を発生するための羽根部材６１が配置されている。羽根部材６１は、スピンチャック３のスピンベース８に、一体回転可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】複数枚の基板を基板保持手段により保持し処理槽内の処理液中に浸漬させて処理する装置において、基板表面からパーティクルや残留薬液を除去して効率良く処理槽外へ排出することができ、処理時間の短縮と処理液の使用量の低減を図ることができる装置を提供する。
【解決手段】処理液を貯留する処理槽１０と、鉛直姿勢で水平方向に配列された複数の基板Ｗの最下端部および両側の各下端部をそれぞれ保持する第１保持部３４および第２保持部３６ａ、第３保持部３６ｂを有し処理槽１０の内方位置と上方位置との間で上下方向へ移動する基板保持具１２と、処理槽１０の底部近傍に設けられた吐出口から処理液を吐出する一対の吐出管１８と、基板保持具１２を処理槽１０内において、第２保持部３６ａ、第３保持部３６ｂが吐出管１８の吐出口からの処理液に当たる位置と当たらない位置とに移動させる移動制御手段とを備えて装置を構成した。 （もっと読む）

【課題】混合されることで発熱反応を呈する複数種の処理液を十分に混合し、その結果得られた高温の混合処理液を基板に供給すること。
【解決手段】処理液供給ノズル１０４は、横断面が円状の円筒状内壁面２９を有する混合室２１と、混合室２１に硫酸を導入する硫酸導入経路１２２と、混合室２１に過酸化水素水を導入する過酸化水素水導入経路１２３と、混合室２１で生成されたＳＰＭを吐出する吐出口２４とを備えている。硫酸導入経路１２２および過酸化水素水導入経路１２３は、それぞれ、円筒状内壁面２９の周方向に沿って当該円筒状内壁面２９に接続されている。混合室２１の内部に導入された硫酸および過酸化水素水は、円筒状内壁面２９に沿って流れ、円筒状内壁面２９の周方向に回転する渦流となって流下していく。 （もっと読む）

【課題】装置内に搬入された基板が割れた場合に、それを装置を開けずに検知することができる技術を提供する。
【解決手段】マイクロフォン６１が、フラッシュランプ４１によるフラッシュ加熱処理直後の熱空間Ｖ内の音をモニタリングして音響信号を取得する。割れ発生検知部６３が、マイクロフォン６１により取得された音響信号（より具体的には、マイクロフォン６１により取得され、フィルタ回路６２により所定の周波数領域が除去された音響信号）に割れ音が含まれるか否かを判断することによって、装置内に搬入された基板Ｗが割れたか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】熱処理時における基板の面内温度分布の均一性を向上させることができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】チャンバー６のチャンバー側部６１には円環状の反射リング６８，６９が着脱自在に装着される。反射リング６８の下端面と、反射リング６９の上端面とで挟まれた円環状の凹部６２が形成され、その凹部６２が半導体ウェハーＷを保持する保持部７を囲繞する。搬送開口部６６は凹部６２の外周面に連通接続されている。凹部６２が形成されることによって、ハロゲンランプＨＬおよびフラッシュランプＦＬから出射された光が保持部７の周囲において不均一に反射されて半導体ウェハーＷに入射することが防止され、熱処理時における半導体ウェハーＷの面内温度分布の均一性を向上させることができる。 （もっと読む）