【課題】被露光領域の走査露光を複数回の往復走査で行う場合に全体の処理時間を短縮することができるパターン描画装置の提供。
【解決手段】対象物に光を照射する投光器と、投光器から照射された光の反射光の光量分布を検出するラインセンサと、露光ヘッド、投光器、ラインセンサを往復走査させる主走査機構と、光量分布のピーク部分の重心位置を算出する重心位置算出部と、重心位置と目標位置との差に基づいて露光ヘッドの光学系を移動させる距離を算出する移動距離算出部と、その距離に基づいて光学系を移動させる移動部とを備え、露光ヘッドが対象物上を主走査方向に沿って走査露光しているとき、ラインセンサは、露光ヘッドが走査露光中の走査列の近傍に位置する走査列であって後で露光ヘッドが走査露光する走査列からの反射光の光量分布を検出する。 （もっと読む）

【課題】 一方向に移動するテーブルの表面からシート状の記録媒体を排出してストッカー部まで搬送することが可能な記録媒体搬送装置を提供すること。
【解決手段】 テーブル１が排紙胴７７付近まで搬送されると、第１剥離爪１３１が、テーブル１の先端に形成された切欠１２９内に進入する。次に、テーブル爪９５は開放状態となる。また、第１剥離爪１３１が移動して印刷用紙Ｓが第１剥離爪１３１と爪座１３２との間に挟持される。次に、ニップローラ１３４が印刷用紙Ｓ上に降下して、印刷用紙Ｓを排紙胴７７に押圧する。そして、第１剥離爪１３１が移動して印刷用紙Ｓを開放する。この印刷用紙Ｓは、第２剥離爪１３３により排紙胴７７から剥離され、第１コンベアに向けて搬送される。 （もっと読む）

【課題】空間光変調素子を支持する部材などの熱歪の状態がほぼ一定の状態で露光処理を実行することができる、露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置では、レーザユニットからのレーザビームは、空間光変調素子１１により変調され、基板上の感光材料に導かれる。レーザユニットから空間光変調素子１１に至るレーザビームの光路上には、空間光変調素子１１に向かうレーザビームを通過および遮断するために開閉されるシャッタ１４が設けられている。シャッタ１４は、露光処理が開始されると開かれ、露光処理が終了すると閉じられる。また、露光処理時以外の時にも、シャッタ１４が適当なタイミングで開閉される。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット方式を使用する場合であっても、高速な画像の記録を高精度で実行することが可能な画像記録装置を提供すること。
【解決手段】 給紙部２から送り出された印刷用紙は、テーブル移動機構５における無端状搬送機構により移動するテーブル１上に供給される。そして、テーブル１が、無端状搬送機構からテーブル移動機構５におけるリニアモータ機構６１に受け渡された後、画像記録部３により画像の記録が実行される。しかる後、テーブル１が、リニアモータ機構６１から無端状搬送機構に受け渡された後、テーブル１上の印刷用紙が排紙部４に排出される。 （もっと読む）

【課題】時間的に連続した描画処理で基板全面に亘って十分なエネルギービームの可変照射処理ができる技術を提供する。
【解決手段】基板９０上の各領域に対応する照射データを照射位置（画素）ごとの照射強度値の最大値を求める論理和演算処理によって合成した合成データ８２４に基づいて、基板９０の露光処理を行う。合成データ８２４によれば、レジスト層ＲＧが比較的厚い周縁領域９０２を、レジスト層ＲＧが比較的薄いパターン領域９０１よりも十分に大きな照射強度で光ビームの照射が行われる（照射強度値がＦＦ（ＨＥＸ）＞５５（ＨＥＸ））。これにより、時間的に連続した描画処理でレジストを変性させるのに十分な露光処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光学性能を損なうことなく、コンパクトで、かつ、高精度に、像を任意にシフトさせることが可能な機構を提供する。
【解決手段】像面における像をシフトさせる像位置調整装置１に、調整機構１１、第１ウエッジプリズム１３および第２ウエッジプリズム１４を設ける。入射する光が所定の入射角となる姿勢で第１ウエッジプリズム１３を固定し、第２ウエッジプリズムを第１ウエッジプリズム１３に対向して逆向き配置する。第２ウエッジプリズム１４をＺ軸方向（光軸方向）に移動させつつ、第１ウエッジプリズム１３と第２ウエッジプリズム１４との相対距離を変更することにより、像面におけるＸ軸方向のシフト量を調整する。 （もっと読む）

【課題】乾燥媒体の再利用を図ることにより、乾燥媒体の消費を抑制することができる基板乾燥装置を提供する。
【解決手段】密閉されたチャンバ１内の処理槽９に基板Ｗを収容した後、シャワーノズル１７から乾燥媒体をシャワー状に供給する。基板Ｗに付着している液摘は、乾燥媒体の液滴の物理力によって除去される。このとき基板Ｗは乾燥媒体によって完全に覆われた状態である。チャンバ１内にシャワーノズル１７から加熱空気を供給すると、チャンバ１内には乾燥媒体の気相が充満するが、排気管６５により排気されるとともに、冷却器６９によって冷却されて凝縮される。凝縮された乾燥媒体は、回収配管７５により乾燥媒体タンク２１に戻される。したがって、乾燥媒体を再利用することができ、乾燥媒体の消費を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部から汚染物質を良好に除去することができ、処理時間を短縮することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、互いに硬さの異なる第１ブラシ１７および第２ブラシ１８を備えている。基板処理装置１は、スピンチャック３により回転されるウエハＷの周縁部に第１および第２ブラシ１７，１８を当接させることにより当該周縁部を洗浄することができる。硬質の第１ブラシ１７は、ウエハＷの周縁部に強固に付着した汚染物資を比較的短時間で良好に剥離させて除去することができる。また、軟質の第２ブラシ１８は、弾性変形することによりウエハＷの周縁部に密着され、第１ブラシ１７によって除去できない細かな汚染物質を良好に除去することできる。 （もっと読む）

【課題】液交換予定を柔軟に配置することにより、ライフタイムの無駄を抑制して処理液の利用効率を向上することができる。
【解決手段】制御部は、まずライフタイムＴ１がアップする時点ｔ１，ｔ３で薬液処理部ＣＨＢ１のリソースを使用する液交換予定ｅｘを配置する。次に、配置した液交換予定ｅｘに対して、各ロットの各リソースの使用タイミングを配置してゆく。そして、液交換予定ｅｘと薬液処理部ＣＨＢ１のリソースの使用タイミングｔ２ａとの間に待機時間ｗｔが生じている場合には、その液交換予定ｅｘを薬液処理部ＣＨＢ１のリソースの使用タイミングｔ２ａに合わせて後ろにずらすように位置を調整する。よって、液交換が終わった直後に薬液処理部ＣＨＢ１でロットの処理が行われるので、ライフタイムに無駄が生じることがなく、処理液の利用効率を向上できる。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に対向し近接して押付部材を配置し基板の処理を行う場合に、高温の処理液を使用するときでも、基板の面内温度の均一性を高め、押付部材の下面と基板上面とで挟まれる空間における温度の上昇を抑えることができる装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの上面に対向し近接して配置される雰囲気遮断板のプレート部６０の内部に、その中央領域から周辺領域の気体噴出口８０に向かって気体を流通させる気体通路８４を形成し、気体通路の途中を部分的に狭隘にし、その狭隘通路部分１２６とプレート部の下面側とを連通させる吸引細孔１２８を形成して、気体通路にエジェクタ部１１６を設け、吸引細孔の、プレート部の下面に開口する吸い込み口１３０を、気体噴出口よりプレート部下面の中心寄りに配置する。 （もっと読む）