【課題】本発明は、意図した把持位置を特定し、適切に対象物を把持することができる対象物把持装置、およびその方法、プログラムの提供を目的とする。
【解決手段】本発明にかかる対象物把持装置は、把持対象物１００の３次元位置および姿勢と、把持対象物１００ごとにあらかじめ設定された把持位置１０４とに基づいて、把持対象物１００の把持位置１０４を把持するよう把持部１の動作を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板姿勢変更装置の製造コストを低減すること。
【解決手段】基板姿勢変更装置５は、基板Ｗを保持している状態で回転軸線Ｌ１まわりに回転可能であり、基板Ｗを保持している状態での重心ＧＣの位置が回転軸線Ｌ１に対してずれている保持ユニット６と、回転軸線Ｌ１まわりの回転角が異なる複数の位置で保持ユニット６の回転を停止可能であり、前記複数の位置で保持ユニット６を保持可能な回転停止ユニット１７と、回転軸線Ｌ１に交差する交差方向Ｄ１に保持ユニット６を移動させ、交差方向Ｄ１に保持ユニット６を加速または減速させる走行ユニット９とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、高い圧力で塗布液を押し出すことができ、吐出制御を適切に行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】吐出ノズル３１の先端部が楔型となっており、その先端にさらに突出する突起部３１０を有する。突起部３１０の下面３１０ｂは基板に近接対向される基板対向面となっており、その端部から、基板Ｗから次第に離間する吐出口配設面３１０ｃが立ち上がっている。吐出口配設面３１０ｃのうち基板対向面３１０ｂに隣接する位置に、塗布液を吐出するための吐出口３１１が設けられる。吐出口３１１の周囲および塗布液供給経路３１２の周囲壁面が一体形成される。 （もっと読む）

【課題】基板の清浄度を向上させること。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗを保持するスピンチャック３と、スピンチャック３に保持されている基板Ｗの外周より外側に配置されているカップ６とを含む。カップ６は、気体吐出口から基板Ｗ上に向けて気体を吐出することにより、基板Ｗの上面に沿って流れる気流を形成する。この気流によって基板Ｗの上面がパーティクルやミストから保護される。 （もっと読む）

【課題】 端縁に段差を有する基板を処理する場合であっても、端縁を十分清浄に洗浄処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 電子ペーパ製造用基板１０は、第１、第２の剥離部３５、３６に搬送され、レジストの剥離処理がなされる。次に、電子ペーパ製造用基板１０は、洗浄液噴出ノズル５１からその長辺に洗浄液が噴出され、その長辺を洗浄処理されるとともに、第１洗浄部３７において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。次に、電子ペーパ製造用基板１０は、第１洗浄部３７から第２洗浄部３８、第３洗浄部３９および第４洗浄部４０に順次搬送され、それらの洗浄部において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。このとき、第２洗浄部３８においては、洗浄液噴出ノズル５２からその短辺に洗浄液が噴出され、その短辺を洗浄処理される。 （もっと読む）

【課題】処理に必要な最小限の量の処理液を循環させる構成を採ることにより、処理液の使用量を低減することができる。
【解決手段】内槽３と、外槽５と、循環配管１５とには、処理状態では内槽３から外槽５に処理液が溢れ、非処理状態では内槽３から外槽５への処理液の溢れがない処理液の量が貯留されている。一方、非処理循環状態では、開閉弁３５を開放して内槽３から外槽５へ処理液を流通させて、循環配管１５を介して処理液の循環を行わせる。したがって、リフタ２７が基板Ｗとともに処理位置にない状態であっても、処理液を循環させることができ、処理に使用する処理液の量を低減することができる。その結果、温調や薬液濃度の調整を行う際には、その処理を短時間で行うことができる。 （もっと読む）

【課題】最近傍探索を高速化できる技術を提供する。
【解決手段】画像処理装置が、対象物の第１モデル点群データと第１測定点群データとを取得する取得部と、第２モデル点群データと第２測定点群データを取得するソート部と、基準点群データに係る第１点群での基準点に対する最近傍点を参照点群データに係る第２点群から探索する探索部と、基準点設定部とを備え、探索部が、基準点に対する基準座標軸方向の距離が基準距離よりも短い注目点を第２点群から選択する選択部と、基準距離よりも短い基準点と注目点との点間距離により基準距離を更新する更新部と、注目点として新たに選択可能な点が無くなるまで更新された基準距離が反映されつつ選択処理と更新処理とが逐次実行されるように、選択部と更新部とを制御する探索制御部と、選択処理と更新処理との逐次実行処理が終了されたときの基準距離の設定に係る注目点を最近傍点として決定する決定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】良好な印刷性能を担保できる版胴を簡易に形成できる技術を提供する。
【解決手段】グラビア印刷に用いられる版胴１を製造する製版装置２は、円周側面に被削層１２が形成された版胴材１０の円周側面に回転する工具３１の刃先を当接させて被削層１２を切削あるいは研削して、被削層１２に凹部（例えばセル１３）を形成するセル形成部２１と、当該凹部の上から被削層１２を覆う、ダイヤモンドライクカーボンの被覆層１４を形成する被覆層形成部２２とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板反転装置の高さを低減すること。
【解決手段】基板反転装置５は、第１下傾斜部２３と基板Ｗの周縁部との接触によって基板Ｗを水平な姿勢で支持する複数の第１下ガイド８と、第１上傾斜部２２と基板Ｗの周縁部との接触によって複数の第１下ガイド８と協働して基板Ｗを挟持する複数の第１上ガイド７と、複数の第１上ガイド７および第１下ガイド８を水平に移動させる複数のシリンダ１３と、複数の第１上ガイド７および第１下ガイド８を水平に延びる反転軸線Ｌ１まわりに回転させることにより、基板Ｗを反転させる電動モータ１８とを含む。 （もっと読む）

【課題】短時間で塗布液流量を調整して、塗布液の塗布量を正確に制御することが可能な塗布液塗布装置および塗布液塗布方法を提供する。
【解決手段】塗布液の塗布を行う前に、予め、塗布軌跡の幅と各ノズルから吐出される塗布液の流量との関係を示す関係式を作成して記憶する準備工程を実行する。そして、塗布を実行する毎、あるいは、一定期間毎に、テスト塗布領域に対して塗布液を連続して吐出することにより形成された塗布軌跡の幅を測定する塗布軌跡測定工程を実行する。ガラス基板への塗布液の塗布時には、各支管流量計７５が計測した塗布液の流量値と、塗布軌跡測定工程で測定した塗布液の幅と、予め記憶した関係式とを利用して各流量制御バルブ７４の開度を調整することにより、塗布液の塗布量を適正なものとする。 （もっと読む）