【課題】ポリシリコン膜及び窒化ケイ素膜を研磨する用途において好適に使用可能な研磨用組成物を提供する。
【解決手段】本発明の研磨用組成物は、シリカ砥粒とヨウ素化合物を含有する。研磨用組成物中でのシリカ砥粒のゼータ電位は負の値を示す。シリカ砥粒の平均一次粒子径は３０ｎｍ以下であり、研磨用組成物のｐＨは４以下である。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハを仕上げ研磨する用途においてより好適に使用可能な研磨用組成物を提供する。
【解決手段】本発明の研磨用組成物は、ポリオキシエチレンソルビタンモノ脂肪酸エステルと二酸化ケイ素と水溶性セルロースとアルカリ化合物と水とを含有する。研磨用組成物中のポリオキシエチレンソルビタンモノ脂肪酸エステルの含有量は０．００２５質量％未満である。 （もっと読む）

【課題】溶射皮膜と下地部材の間の熱膨張係数差による溶射皮膜の剥離及びクラックを抑制する。
【解決手段】本発明の溶射皮膜１１はサーメットからなり、基材１２の表面に設けられる。溶射皮膜１１の熱膨張係数を溶射皮膜１１の厚さ（単位μｍ）で除したものを基材１２の熱膨張係数でさらに除することにより得られる値は０．１５×１０^−２以上に設定されている。 （もっと読む）

【課題】良好な動力伝達性を実現しつつ、摺動部および相手材の摩耗を軽減することができるシンクロナイザーリングおよびその製造方法、その製造方法に用いる溶射粉末を提供する。
【解決手段】基材１２の摺動部の表面１４に、金属アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする合金と、アルミナとからなり、アルミナ含有量が５〜２５容量％である複合材料からなる被膜１６を、高速フレーム溶射法またはプラズマ溶射法により形成する （もっと読む）

【課題】耐プラズマエッチング性に優れる溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、イットリア粒子及びアルミナ粒子を含有してなる。溶射用粉末中のアルミナ粒子の含有量は５０〜３０００質量ｐｐｍである。イットリア粒子はイットリア造粒−焼結粒子であることが好ましく、イットリア粒子の平均粒子径は２０〜６０μｍであることが好ましい。アルミナ粒子は遷移アルミナからなることが好ましく、アルミナ粒子の平均粒子径は１μｍ以下であることが好ましい。この溶射用粉末は大気圧プラズマ溶射用途で用いられることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエッチング性に優れる溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、イットリアとイットリウム−アルミニウム複酸化物とを含む造粒−焼結粒子を含有してなる。造粒−焼結粒子中のアルミニウム含有量はアルミナ換算で５０〜１００００質量ｐｐｍである。この溶射用粉末は大気圧プラズマ溶射用途で用いられることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエッチング性に優れる溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、イットリア造粒−焼結粒子及びイットリア微粒子を含有してなる。溶射用粉末に含まれるイットリア微粒子の平均粒子径は１μｍ以下であり、溶射用粉末中のイットリア微粒子の含有量は１０００〜１００００質量ｐｐｍである。溶射用粉末に含まれるイットリア造粒−焼結粒子の平均粒子径は２０〜６０μｍであることが好ましい。この溶射用粉末は大気圧プラズマ溶射用途で用いられることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が０．８Ｗ／ｃｍ^２以上である高出力プラズマに対する耐プラズマエッチング性に優れた溶射皮膜を提供する。
【解決手段】本発明の溶射皮膜は、イットリアを少なくとも主成分として含有する。単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が０．８Ｗ／ｃｍ^２以上のＣＦ_４プラズマに溶射皮膜を曝したときに、ＣＦ_４プラズマによる溶射皮膜のエッチングレートは式：Ｒｅ≦７．７×Ｐｐ^２．２を満足する。ただし、式中、ＲｅはＣＦ_４プラズマによる溶射皮膜のエッチングレート〔ｎｍ／分〕を表し、Ｐｐは単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力〔Ｗ／ｃｍ^２〕を表す。 （もっと読む）

【課題】単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が０．８Ｗ／ｃｍ^２以上である高出力プラズマに対する耐プラズマエッチング性に優れた溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、原料粉末を造粒して大気中で焼結して得られるイットリア造粒−焼結粒子を含有してなる。イットリア造粒−焼結粒子を構成する一次粒子の平均粒子径は、０．５〜１．５μｍで且つ原料粉末の平均粒子径の１．１１倍以上である。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板の上に設けられたポリシリコン膜を好適に研磨することができる研磨方法及びそれに使用されるキットを提供する。
【解決手段】分離領域１２を備えるシリコン基板１１の上に設けられたポリシリコン膜１３を研磨する本発明の研磨方法は、分離領域１２の上面の一部が露出するまで、砥粒とアルカリと水溶性高分子と水とを含有する予備研磨用組成物を用いてポリシリコン膜１３を予備研磨する工程と、分離領域１２の上面の全部が露出するまで、砥粒とアルカリと水溶性高分子と水とを含有する仕上げ研磨用組成物を用いて、予備研磨後のポリシリコン膜１３を仕上げ研磨する工程とを備える。予備研磨用組成物中の水溶性高分子の含有量は０．００７５〜０．０５質量％であり、仕上げ研磨用組成物中の水溶性高分子の含有量は０．００２〜０．０１質量％である。 （もっと読む）