【課題】被測定物に対する面方向の分解能や測定位置の変更を容易に行うことができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】光源１０と、光源１０からの光を２つの光束に分割して、一方の光束を被測定物Ｔに照射し、他方の光束を参照ミラー４０に照射させると共に、これらから反射された光を合波させるスプリッタ２０と、スプリッタ２０によって合波された光により得られる画像を撮像するＣＣＤ５０と、２つの傾き状態に制御される複数の微小ミラーを有するＤＭＤと、複数の微小ミラーを制御して被測定物Ｔや参照ミラー４０への照射光等を絞り込み、その状態で撮像された画像に基づき、測定点の高さを測定する制御手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】さらに付加的な情報の取得が可能で、かつ堅牢な装置構造と高度な測定精度とを有する光干渉測定技術の提供。
【解決手段】光干渉測定装置は、光源１からの出発ビーム２を測定ビーム３と第１の参照ビーム４ａとに分割するビームスプリッタ５ａと、光の重ね合わせ手段と、第１の検出器８ａとを備える。重ね合わせ手段と第１の検出器８ａとは互いに連携する。物体７によって反射された測定ビームと第１の参照ビームとが第１の検出器の検出面で重ね合わされる。ビームスプリッタ５ａは、出発ビーム２を測定ビーム３と、第１の参照ビーム４ａと、少なくとも第２の参照ビーム４ｂとに分割する。重ね合わせ手段と互いに連係する第２の検出器８ｂが備えられ、物体７によって散乱させられた第１の受信ビーム４ｂ’としての測定ビームと第２の参照ビーム４ｂとが第２の検出器８ｂの検出面で重ね合わされる。 （もっと読む）

【課題】 被検面が傾いていても測定精度を悪化させることのない多波長干渉計を提供する。
【解決手段】 波長が互いに異なる少なくとも２つの光束を参照光と被検光とに分割し、分割された参照光の周波数と被検光の周波数とを異ならせ、被検光と参照光とを干渉させる干渉計において、干渉光を複数の光束に分割する分割部を有し、分割された複数の光束を各波長について検出する。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の計測において、計測範囲の広範囲化の技術を提供する。
【解決手段】光源からの第１光を参照面に入射させ第２光を被検面に入射させる分割素子と、前記参照面で反射された前記第１光と前記被検面で反射された前記第２光との干渉光の位相をシフトさせる位相シフト部と、前記干渉光の強度を検出する検出部と、前記光源からの光の周波数を連続的に３つ以上の周波数に設定し前記３つ以上の周波数のそれぞれについて前記干渉光の位相をシフトさせながら前記干渉光の強度を検出するように前記検出部を制御し検出される前記干渉光の強度及び前記位相シフト部による前記干渉光の位相のシフト量に基づいて、前記参照面と前記被検面との間の光路長に相当する位相を特定し前記参照面と前記被検面との距離を求める処理部と前記処理部は前記３つ以上の周波数のそれぞれの間の周波数差が互いに異なるように前記３つ以上の周波数を設定する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で広い計測レンジと高い計測精度とを実現した計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置は、第１光源、第２光源、第１検出器、第２検出器及び算出部を備える。第１光源は第１波長と第２波長との間で波長が走査された走査区間を含む第１光を生成する。第２光源は第３波長の第２光を生成する。第１検出器は第１光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第１干渉縞を検出する。第２検出器は第２光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第２干渉縞を検出する。第３波長は第１波長及び第２波長の合成波長より短い。算出部は第１時刻において第２干渉縞の位相のデータから第２干渉縞の次数が算出できなくなった場合に、第１時刻より後の走査区間における第１干渉縞の位相の変化に基づいて第１時刻以降における第２干渉縞の次数を算出し、該算出された第２干渉縞の次数を用いて第１時刻以降における被検面の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】ノイズの少ない方法で、容易には測定できない位相特性を測定し、また、振幅特性を強調された方法で
測定する。
【解決手段】振幅及び位相を有する分析対象波面に対して、フーリエ変換処理を行い、該分析対象波面に対応する複数の異なる位相変化された変換波面を取得し、該複数の位相変化された変換波面の複数の強度マップを取得し、該複数の強度マップを用いて該分析対象の三次元画像形成波面の振幅及び位相を表示する出力を取得する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】被計測物が様々な屈折率で、かつ様々な厚さの透明媒質の下に配置されていても、その被計測物の高さを容易に計測する。
【解決手段】高さ計測装置１は、照明光から分岐された第１照明光を被計測物６に導く対物レンズ２４と、照明光から分岐された第２照明光を参照ミラー２８に導く対物レンズ２６と、第２照明光の光路長を調整する移動部３６と、被計測物６及び参照ミラー２８で反射される２つの照明光の干渉像を撮像する高速度カメラ１２と、対物レンズ２４と被計測物６とを光軸方向に相対移動するピエゾ駆動装置１８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備え、分機器８０は測定ビームＢ１と参照ビームＢ２の光量比を連続的に変化させて調整する調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】光干渉を利用して温度を適切に測定することができる温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測システム１は、光源１０、分光器１４、光伝達機構１１，１２、光路長算出部１６及び温度算出部２０を備える。光源１０は、測定光を発生させる。光伝達機構１１，１２は、測定対象物１３の表面１３ａ及び裏面１３ｂからの反射光を分光器１４へ出射する。分光器１４は、反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する。光路長算出部１６は、フーリエ変換し光路長を算出する。温度算出部２０は、光路長と温度との関係に基づいて測定対象物１３の温度を算出する。光源１０は、分光器１４の波長スパンΔｗに基づいた条件を満たす半値半幅Δλの光源スペクトルを有する。分光器１４は、波長スパンΔｗと計測最大厚さｄとに基づいた条件を満たすサンプリング数Ｎ_ｃで強度分布を測定する。 （もっと読む）

【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第１の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第２の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第１の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第２の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第２の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】収束光学系を有するレーザ干渉測定装置における測定面上の位置の校正が簡便かつ高精度に行えるレーザ干渉測定装置の横座標校正治具および横座標校正方法を提供すること。
【解決手段】横座標校正治具１０は、マーカを有する画像を投影する画像投影手段１９と、画像投影手段１９を第１回動軸線Ａ１まわりに回動自在に支持しかつ第１回動軸線が所定の回動中心Ｃを通る第１支持機構１１と、第１支持機構を第２回動軸線Ａ２まわりに回動自在に支持しかつ第２回動軸線が回動中心Ｃで第１回動軸線Ａ１と交叉する第２支持機構１２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】検出用走査を行うことなく、ワンショット撮影により、高さ方向のダイナミックレンジの大きい、被検面の１ライン上の微細な凹凸形状情報を容易に取得し得る、形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】 空間的にインコヒーレントで広帯域スペクトルを有する光を射出する面状の光源１０からの照明光を、対物レンズ１３Ａ、Ｂを介して参照面１４および被検面２０に照射し、得られた参照光と測定光を干渉させ、その干渉光をスリット１６Ａにより線状に整形し、分光器１６により分光し、２次元撮像手段１７により得られたスペクトル干渉情報に基づき被検面２０の形状を解析する。光源１０、被検面２０、スリット１６Ａ、および光源１０、参照面１４、スリット１６Ａは各々互いに共役である。被検面２０を介する系路の光路長と、参照面１４を介する経路の光路長との間にオフセットが設けられる。 （もっと読む）

【課題】試料の表面形状を測定する際に、干渉波形の包絡線と位相との両方に基き試料の表面形状を算出できるようにした走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】撮影した動画ファイルデータに基づき、試料の表面上の位置に対応する各画素において、ヒルベルト変換を用いて干渉波形の包絡線と位相を算出し、包絡線がピークになる走査位置と、位相が０になる走査位置を算出し、両位置の差から、試料表面の反射光の位相変化による位置ずれの値を検出し、その値の大きさから、その画素の試料表面が他の画素の試料表面と同種であるか異種であるかを判定し、同種のもの同士で干渉波形の位相が０になる走査位置のずれの平均値を算出しておき、各画素で、位相が０になる位置から対応する試料の表面上の物質での位相が０になる走査位置のずれの平均値を引くことで、反射光の位相変化の影響が消されて試料の表面形状が測定される。 （もっと読む）

【課題】走査型白色干渉計を用いて試料の表面形状を測定する際に、少ないデータ数で精度よく試料の表面形状を測定できるようにするデータ処理方法を提供する。
【解決手段】走査型白色干渉計のデータ処理方法は、干渉計で得た動画ファイルデータを読み出し、それぞれの画素において時間軸方向のデータに基き、ヒルベルト変換を用いて、時間軸上での位置で、干渉計の光路差が０になる走査距離に対応した干渉波形の最大のピークの位置を求め、それを全画素で表わす。 （もっと読む）

【課題】試料の表面形状の測定精度を大幅に向上させることのできる、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】対物レンズの下にビームスプリッター及びミラーを配し、試料表面を含めて、マイケルソン型などの干渉計を構成し、試料までの距離又はミラーまでの距離をピエゾアクチュエーターで走査し、それによりできる干渉波形をCCDカメラで撮影して動画ファイルデータとして記録し、データ収集間隔をナイキスト間隔（干渉波形の周期の１／２）よりも広く取って試料の表面形状を測定する、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法において、得られた収集波形についてヒルベルト変換を行い、包絡線と位相を得、こうして得られた位相が０になる走査位置と試料の表面高さとの関係を用いて位相が0になる走査位置から試料表面の高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】コリメータレンズ１５の焦点距離との関係で、光源１１が点光源と見なせない場合でも、軸外光束を考慮して大きな光学部品を用いることなく、平行光の光束径を小さくして、干渉計２を小型化する。
【解決手段】干渉計２は、光源１１と、コリメータレンズ１５と、干渉部１３とを備えている。コリメータレンズ１５は、光源１１の光出射面１１ａの１点から出射される光束を平行光に変換する。干渉部１３は、コリメータレンズ１５を介して入射する光を、ＢＳ１６の分離合成面で２光束に分離し、各光束を移動鏡１７および固定鏡１８で反射させた後、上記分離合成面で合成して干渉させる。光源１１の光出射面１１ａには、半球レンズ１４が密着して配置されている。 （もっと読む）