【課題】最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表わされる繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、及び、光塩基発生剤を含有する、感光性樹脂組成物である。
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【課題】現像欠陥が低減されたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】光酸発生剤としての機能を有するスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるスルホニウム塩とする。


（Ｒ^１は水素原子又は直鎖もしくは分岐の炭素数１〜３の有機基で、Ｒ^２〜Ｒ^４は水素原子、又はアルコキシ基等。Ｄ^１〜Ｄ^３は下記式（２）で表される基等。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆはａ＋ｂ≦５、ｃ＋ｄ≦５、ｅ＋ｆ≦５、ａ＋ｃ＋ｅ≧１を満たす０以上の整数）


（Ｒ^５は直鎖もしくは分岐の炭素数２〜９の２価の有機基、Ｒ^６〜Ｒ^９は水素原子又は直鎖もしくは分岐の炭素数１〜３の有機基、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ独立に有機基。Ｘ⁻は陰イオン） （もっと読む）

【課題】フォトレジストの上に保護膜を用いて保護膜と投影レンズの間に水を挿入する液浸リソグラフィー工程において、（１）保護膜層とフォトレジスト膜層とのインターミキシングを防止し、及び、（２）現像後のレジスト表面をより親水性化させることによって欠陥の発生を防止する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。 （もっと読む）

【課題】 凹凸または貫通孔が形成されたウエハ基板（１０）の角部に、フォトレジストが均一に塗布されるようにフォトレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト塗布方法は、第一面と第二面とを有する基板（１０）を、正極または負極の一方に帯電する帯電ステップ（S1241）と、第一面と第二面に対して、正極または負極の他方に帯電するフォトレジスト粉末（ＰＲ１）を塗布するフォトレジスト粉末塗布ステップ（S1242）と、基板に塗布された感光剤粉末にフォトレジスト粉末を溶解可能な溶剤ガスを噴霧し、フォトレジスト粉末を溶解させる溶解ステップ（S1245）と、溶解したフォトレジストを硬化させるフォトレジスト硬化ステップ（S1246）とを有する。 （もっと読む）

【課題】表面に同伴エア膜が形成される程度の高速でウエブを走行させて塗布を行なった場合でも、塗布膜に膜切れなどの欠陥が生じることがなく、安定した塗布が行なえるとともに、塗布の開始時或いは終了時における厚塗りを防止することのできる塗布装置及び方法を提供する。
【解決手段】バーコータ１０は、バー１２の上流側に塗布液の供給流路２４を有し、その供給流路２４の上流側に堰板１６を備える。堰板１６は、上端１６Ａが鋭角なウェッジ形状に形成され、その上端１６Ａはバー１２の最上端位置１２Ａよりも低い位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】 高い反射防止効果を達成し、かつレジストの現像と共に除去可能でプロセス簡便性が高く、レジストとミキシングを起こさずにレジストの形状を変化させないレジスト上層反射防止膜を提供する。
【解決手段】 ヒドロキシナフチル基又はカルボキシナフチル基を有する高分子化合物を含む反射防止膜材料を提供する。 また、基板にフォトレジスト層を形成する工程と、フォトレジスト層の上層としてこの反射防止膜材料を用いて反射防止膜を形成する工程と、反射防止膜を形成後のレジスト層を露光する露光工程と、露光工程後に、現像液を用いる現像と上記反射防止膜の除去をこの順序もしくは反対の順序もしくは同時に行う現像・反射防止膜除去工程とを含んでなるパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】処理に供される基板及び塗布液の種類や特性に関係なく正確に塗布液の吐出検知を行えるようにした塗布液の吐出検知方法及びその検知用プログラムを提供すること。
【解決手段】レーザーセンサ４０を用いて、レジスト液Ｒが吐出されるウエハＷ表面のレーザー反射光量を測定してノイズマージンの閾値を設定し、次いで、レジストノズル２０からウエハ表面にレジスト液が吐出される前のウエハ表面のレーザー反射光量を検出すると共に、レジスト液が吐出中のウエハ表面の最低レーザー反射光量を検出する。そして、レジスト液の吐出前と吐出中のレーザー反射光量の差と、ノイズマージンの閾値とを比較してレジスト液の吐出状態を検知する。 （もっと読む）

【課題】 容易かつ迅速に欠陥検出が可能な機上現像型平版印刷版原版の製造時の欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】（i）平版印刷版原版を露光する工程、（ii）露光済み原版を印刷機上以外で現像する工程、および（iii）画像形成していない欠陥部分を検出する工程からなる機上現像可能な平版印刷版原版の製造時の欠陥検査方法。工程（ii）がガム液を用いる現像であること、工程（ii）と工程（iii）の間で、現像後の画像部を染色する工程をさらに含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】形状安定性が良好であり、高解像度で、かつ、焦点深度にも優れるレジストパターンを形成することが可能なレジスト保護膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】レジスト膜上に設けられ、このレジスト膜を保護するレジスト保護膜を形成するためのレジスト保護膜形成用組成物であって、レジスト膜中の酸の発生を補助する酸発生補助剤を配合した。 （もっと読む）

【課題】残渣の発生を防止することが出来る導電膜パターニング方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐ上にアルミニウムを含む導電材料によって導電膜Ｌを形成する導電膜形成工程と、この導電膜形成工程によって形成された導電膜Ｌ上に耐アルカリ性材料によってレジスト膜Ｒを積層して形成するレジスト膜形成工程と、このレジスト膜形成工程によって形成されたレジスト膜Ｒに対して露光マスクＭを介して露光を行う露光工程と、この露光工程の終了後に、キレート剤が添加されたアルカリ性の現像液によって、レジスト膜Ｒの現像を行うとともに導電膜Ｌのエッチングを行う現像およびエッチング工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】スループットが向上されるとともに、露光後に迅速に基板の加熱処理を行うことができる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置５００は、インターフェースブロック１５を備える。インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。インターフェースブロック１５は、載置兼ベークユニットＰＡＳＳ−ＰＥＢを含む。露光装置１６において露光処理が施された基板Ｗは、第２の洗浄／乾燥処理ユニットＳＤ２において洗浄および乾燥処理が施された後、載置兼加熱ユニットＰ−ＰＥＢに搬入される。載置兼加熱ユニットＰ−ＰＥＢにおいては、基板Ｗに対して露光後ベーク処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】基板に配線パターンを形成する基板処理方法において、フォトレジスト層下の層をより単純化することにより工程数の削減、装置構成の増大抑制を実現でき、また、パターン形成処理に伴う膜厚減少を抑制することのできる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗに形成された下地層Ｃに配線パターンを形成する基板処理方法において、炭素ナノ物質を分散剤に溶解した炭素ナノ物質分散溶剤を前記下地層Ｃ上に塗布し、炭素ナノ物質層Ｆを形成するステップと、前記炭素ナノ物質層Ｆ上にフォトレジストを塗布しレジスト層Ｒを形成するステップと、前記レジスト層Ｒに対し露光、現像処理を行うことにより所定のレジストパターンを形成するステップとを実行する。 （もっと読む）

【課題】優れたエッチング選択性を有し、かつ、短波長に対する反射防止能が良好なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１ａ），（１ｂ），（１ｃ）で示される構造単位を有する共重合体を含有するレジスト下層膜用組成物であって、


［式中、Ｒ^１は架橋性を有する１価の有機基であり、Ｒ^２は光吸収性を有する１価の有機基であり、Ｒ^３は炭素数１から３の低級アルキル基である。］
前記共重合体における一般式（１ａ）で示される構造単位の含有量は１０モル％から７５モル％であり、一般式（１ｂ）で示される構造単位の含有量は５モル％から２０モル％であり、一般式（１ｃ）で示される構造単位の含有量は５モル％から７０モル％であるレジスト下層膜用組成物とした。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構によってウェハ等の基板を保持でき、そしてターンテーブル上で保持された基板（ウェハ等）の表面に流体を供給した場合、流体に乱れが起き難いような基板保持技術を提供する。
【解決手段】ターンテーブル１及びターンテーブル１上に載置された載置物４をガイドする為のガイド部材３ａ、３ｂ、３ｃを具備し、ターンテーブル１上に載置された載置物４の表面に流体が供給されて処理される回転処理装置であって、ガイド部材３ａ、３ｂ、３ｃは、載置物４に対向する側において、その上側部が突出しているよう構成されてなる。 （もっと読む）

【課題】感度、低誘電特性などのいろいろな性能に優れ、特に一つの感光性樹脂組成物でインシュレータとセパレータの２種類のパターンを同時に形成することができ、工程時間を短縮することができるだけでなく、同時にパネル上の開口率を顕著に向上させてＯＬＥＤ製造工程への適用に適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明によるＯＬＥＤ用感光性樹脂組成物は、ａ）ノボラック樹脂；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；ｃ）光酸発生剤；ｄ）メラミン系架橋剤；およびｅ）溶媒を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の被塗布面に段部が形成されている場合であっても、スプレー塗布法により、膜厚均一性が良好なホトレジスト膜を形成できるようにする。
【解決手段】被塗布面に段差Ｈが１０〜１０００μｍである段部１が設けられている基板上に、変性シロキサン系界面活性剤を含有するホトレジスト組成物を用いて、スプレー塗布法によりホトレジスト膜２を形成する。段部１の上面１ａおよび側面１ｂがホトレジスト膜２で連続的に覆われており、ホトレジスト膜２の、段部上面１ａにおける膜厚が１〜４０μｍであり、かつ段部の上面１ａと側面１ｂとの境界部における膜厚が、該境界部に隣接する上面１ａにおける膜厚の７５％以上である積層体が得られる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性に優れるカラーフィルター、スペーサー（カラーフィルターと電極基板との間のセルギャップを維持するスペーサー）、およびＴＦＴ素子平坦化膜（ＴＦＴと透明電極との間に形成される透明絶縁膜）、並びにこれらに有用な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 バインダー樹脂（Ａ）並びにバインダー樹脂（Ａ）の原料であるモノマー（ａ）の未反応物および連鎖移動剤（ｂ）の未反応物を含む樹脂組成物であって、モノマー（ａ）の未反応物と連鎖移動剤（ｂ）の未反応物の合計量Ｘが、樹脂組成物の固形分１００質量部に対して５質量部以下である樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】液体を介して基板を露光する液浸露光において、露光不良の発生を抑制し、基板を良好に露光することができる露光方法を提供する。
【解決手段】液体を介して基板を露光する液浸露光において、基板の表面に対する異物の付着を抑えるために、基板の表面エネルギーを調整する所定の処理を行う工程と、表面エネルギーが調整された基板の表面に露光光を照射する工程と、を含む露光方法を提供する。また、基板の基材上に反射防止膜を形成した後、反射防止膜上にＨＭＤＳ層を形成して、表面エネルギーを調整することにより異物の付着を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】基板周囲の環境をより詳細に分析し、より精密なレジスト膜厚制御を行うことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす、「気圧ｐ」と、「カップＣＰの温度ｑ」と、「ユニット内の湿度ｒ」とをパラメータとする膜厚モデルの作成を予め実験的に行い、この作成した膜厚モデルに基づいて、レジスト膜形成条件の１つであるウェハの回転数を制御することにより、フィードフォワード制御が可能となる。これにより、露光装置における露光条件だけでは精密な制御を行うことができないレジストパターンの膜厚を予測することができる。 （もっと読む）