【課題】高感度とともに疎密依存性、パターン形状、溶解コントラスト性について良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する性質をもつ、フェノール性水酸基を有する重量平均分子量１５００〜３５００の樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物を含有し、２３℃常圧におけるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド ２．３８ｗｔ％水溶液に対する露光部と非露光部の溶解速度の比が２００〜５０００倍の範囲にあるポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】露光量が変動した際のレジストパターン寸法の変化が小さい（ＥＬマージンが大きい）ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、レジスト膜を形成してアルカリ現像液に所定時間浸漬した際の最大の溶解速度（Ｒ_ｍａｘ）が６００ｎｍ／ｓ以上である樹脂（Ａ１）と、前記溶解速度（Ｒ_ｍａｘ）が１００ｎｍ／ｓ以下である樹脂（Ａ２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】溶媒への溶解性のよい重合体粉末、溶媒への溶解性のよい重合体湿粉およびその製造方法、並びにレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液をろ過して、重合体湿粉を製造する工程と、製造された重合体湿粉を保管する工程とを有する重合体湿粉の製造方法であって、気温が常に３５℃以下となるように管理された環境下で重合体湿粉を保管する、重合体湿粉の製造方法；該製造方法によって得られた重合体湿粉；該製造方法によって得られた重合体湿粉を乾燥して得られた重合体粉末；および、該重合体湿粉から得られるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】顔料の水性分散液を原料として用いても溶剤系塗布が可能であり、顔料の分散安定性、ブラックマトリックス等のパターン形成性（アルカリ現像性、パターン形状）、得られたパターンの面状及び得られたパターンの耐溶剤性に優れ、黒色感材として高濃度な感光性組成物及びそれを用いた表示装置用遮光膜形成用材料の提供。
【解決手段】アルキルアクリレート単位Ｂを３０から９０質量％含み酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の共重合体であるアルカリ可溶性樹脂とエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性モノマーと光重合開始剤と水と混和可能な有機溶剤と水と顔料とを含有する。 （もっと読む）

【課題】充分な機械強度を有しつつ、耐熱性に優れ、更に加工性、接着性に優れた感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性ドライフィルムレジストを提供しようとする。またこのドライフィルムレジストをフレキシブルプリント基板に積層し、良好な物性を示す感光性カバーレイフィルムを提供しようとする。
【解決手段】可溶性ポリイミド、炭素−炭素二重結合を有する化合物、および光反応開始剤および／または増感剤、を必須成分とし、さらに、Ｒ^２２ＳｉＯ_３／２及び／又は Ｒ^２３ＳｉＯ_２／２（Ｒ^２２、Ｒ^２３は、フェニル基、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基から選択される。）で表される構造単位を有するフェニルシロキサン、を含む、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度であり、現像性、保存安定性に優れた、走査露光用平版印刷版原版の感光層として有用な感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）２５℃（ｐＨ＝１１．９５）のアルカリ現像液に対する溶解度が１００(ｍｇ／ｌ)以上である増感色素、（Ｂ）ラジカル、酸又は塩基を生成しうる開始剤化合物、および（Ｃ）ラジカル、酸又は塩基の少なくともいずれかによって反応する重合性化合物、を含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型ポジ型リソグラフィーにおいて、リソグラフィー薄膜のアルカリ現像液に対する最高溶解速度（Ｒｍａｘ）や現像コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた、リソグラフィー用共重合体と該共重合体を含む組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用で分解して極性基が生成する酸不安定構造を有する繰り返し単位（Ａ）と、極性基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを含む共重合体であって、繰り返し単位（Ａ）が、式（１）で表される繰り返し単位（Ａ１）と、エステル部分が水酸基含有アダマンチル基である不飽和モノカルボン酸エステルで表される繰り返し単位（Ａ２）とを含む。
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【課題】 ブリッジ系ディフェクトおよび再析出系ディフェクトの両方が低減されたレジストパターンが形成できるポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物を、ナイロン製の膜を備えたフィルタ（ｆ１）を通過させる工程（Ｉ）を有し、前記樹脂成分（Ａ）が、少なくとも１種の単量体を重合させて製造する際に酸を存在させることにより得られる少なくとも２種の構成単位を有する共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ディフェクトの発生が抑制されたレジスト組成物が得られるレジスト組成物の製造方法、該製造方法に好適に使用できるろ過装置、該ろ過装置を搭載したレジスト組成物の塗布装置、およびディフェクトの発生が抑制されたレジスト組成物の提供。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物を、ポリエチレン製の中空糸膜を備えたフィルタ（ｆ１）を通過させる。 （もっと読む）

【課題】画像記録層の上に、画像記録層成分の一部を溶解する保護層塗布液を塗布しても、細線再現性、耐刷性などの画像形成性が良好である平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、画像記録層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版において、該保護層が特定の式で示されるチキソトロピー指数が２．０よりも大である塗布液を用いて形成され、該画像記録層が該塗布液の溶媒に対して５質量％以上溶出することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題とするところは、着色パターン形成後の加熱処理を行わずに、高スループット・高収率で、耐薬品性の良好なカラーフィルタ用の感光性着色組成物およびこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することにある。
【解決手段】
透明基板上に電子線により硬化した着色パターンを有するカラーフィルターであって、Ｎ−メチルピロリドン、５％水酸化ナトリウム水溶液、５％硫酸水溶液それぞれに３０分浸漬したときの色度変化（ΔＥａｂ）がいずれも５以下であることを特徴とするカラーフィルタとする。 （もっと読む）

【課題】優れた濾過特性を有し、レジスト塗布膜上の欠陥の数を大幅に低減できるだけでなく、経時によるレジスト液の変質によるレジスト塗布膜上の欠陥も大幅に低減でき、長期保存安定性を有する半導体塗布膜用溶液を提供する。
【解決手段】粗樹脂（１）を４０〜９０℃で活性炭と接触させ、その後珪藻土類及び／又はシリカゲル類と接触させることにより得られる処理済樹脂（１）を含むことを特徴とする半導体塗布膜用溶液。該半導体塗布膜用溶液が化学増幅型レジスト組成物であり、処理済樹脂（１）とともに、酸発生剤及び溶媒を含む前記記載の半導体塗布膜用溶液。 （もっと読む）