【課題】反射面を備えた回転反射体の回転軸の傾斜角φが０°の場合に比べて、反射面で反射された走査光による走査軌跡をより柔軟に設定することができる、光走査装置及び距離測定装置を提供する。
【解決手段】基準方向及び基準方向と直交する方向とは異なる方向に光を射出する光源と、回転軸に斜めに交差し且つ光源から入射角θで入射した光を反射する少なくとも１つの反射面を有し、基準方向に対し傾斜角φで傾けられた回転軸の周りに回転する回転反射体と、を備えた光走査装置である。基準方向と予め定めた角度で交差する方向を所定の走査方向として、回転軸の傾斜角φ≠０°で、且つ反射面で反射された走査光の所定の走査方向に対する偏差が回転軸の傾斜角φ＝０°で得られる走査光の所定の走査方向に対する偏差より小さくなるように入射角θに応じて前記傾斜角φが予め設定されている。 （もっと読む）

【課題】広視野高分解能高効率の回転式顕微鏡または走査装置を提供する。
【解決手段】走査システム１００では、静止装置５０が固定光路部分ＬＰ１に配置され、固定光路部分ＬＰ１と中間光路部分ＬＰ２と走査光路部分ＬＰ３とを含む（破線で示される）光路ＬＰに沿って進む平行光を伝播し、標本６０が走査光路部分ＬＰ３の少なくとも一部分を遮断する。走査部分ＬＰ３は固定部分ＬＰ１と平行であり、固定部分ＬＰ１からオフセット距離Ｒだけ間隔を置いて配置されている。 （もっと読む）

パターン生成システムは、光学系（１０６）および回転子（１００）を備えている。光学系（１０６）は、光学スキャナｃ（１０４）にレーザ像を投影するように構成されている。回転子（１００）は、互いに対して第１角度で配置された複数の光学アーム（１０２）を有し、光学スキャナ（１０４）をさらに備えている。レーザ像は、光学スキャナ（１０４）によって回転子（１００）の複数の光学アーム（１０２）の各々に順次反射され、ワーク上にパターンを生成する。
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光学的パターン生成器は、パターン方向と交差する方向に対してパターン方向に沿う方向に異なる寸法を有することができる回転反射アキシコン部を用いる。例としては、単一アキシコンパターン生成器と二重アキシコンパターン生成器が含まれ、それらは独立して画像領域の相対的な口径を制御することにより二つの直交方向に係る画像寸法を制御する。
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【課題】レーザ光による効率的で高精度なレーザ加工を実現する。
【解決手段】可撓性を有する加工対象物の予め設定された加工領域にレーザ光を照射して加工を行うレーザ加工方法において、前記加工対象物に対して前記レーザ光を照射する基点となる位置を中心として、前記加工対象物を所定の曲率で湾曲させる湾曲ステップと、前記レーザ光を前記加工対象物へ照射する前に形成手段により所定の形状に形成する形成ステップと、前記レーザ光を反射させる反射手段を所定の速度で所定の方向に回転させる回転ステップと、所定のタイミングで前記反射手段に反射させたレーザ光を前記加工領域に照射させる照射ステップとを有することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】主走査手段において光ビームを分割して、複数の光ビームで走査露光を行なうインナードラム型の露光装置において、適正な円偏光の光ビームを主走査手段に入射できる露光装置を提供する。
【解決手段】主走査手段に所定の光路で光ビームを入射する光ビーム光学系に、光ビーム光学系によって楕円偏向に変換される光ビームの楕円の長軸方向の光量を低減する光学部材を配置することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】安定した中間調を記録可能とするインナードラム露光装置を提供する。
【解決手段】記録材料を円弧状に保持する支持体と、円偏光した光ビームを出射する光源と、光ビームを画像情報に応じて変調する変調手段と、回転駆動され、かつ全反射鏡面を備え、記録材料に対し、変調光ビームを全反射鏡面で偏向走査する走査手段とを有し、走査手段が、さらに、全反射鏡面に対して所定の距離を隔てて設けられる偏光ビームスプリッター面をその表面に備える光学部材を有し、この偏光ビームスプリッター面と全反射鏡面とにより形成される平行な２つのビームによってそれぞれ記録材料上に形成される２つのビームスポットを、これらの一部どうしが互いに重なるように副走査方向に並列配置されたビームスポットにすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

溶接、切断、孔開け、研削等のさまざまなアプリケーションに用いることのできる回転レーザービーム（５）を生成する装置（１）を提供すること。
【課題】本発明の装置は、高速で回転し、正確なレーザービームを生成することができる。本発明の装置は、メインの回転可能な光学装置（１００）を有し、これは、光学装置が交差する軸（Ｘ１）を中心に回転する反射面（１０２）を有する。 （もっと読む）