【課題】垂直配向型の液晶表示装置における表示均一性の向上。
【解決手段】液晶表示装置は第１基板１１及び第２基板１２、第１電極及び第２電極、第３電極及び第４電極、一軸配向処理された第１垂直配向膜、第２垂直配向膜と、電圧無印加時でプレティルト角を有する液晶層、液晶層にマルチプレックス駆動による駆動電圧を供給する駆動手段を備える。第１電極と第３電極は、互いに重畳した領域が規則的に配列された複数の画素部になったドットマトリクス表示部１を構成し、第２電極と第４電極は互いに重畳した領域が所定の文字又は図案の形状になったセグメント表示部２を構成する。第１垂直配向膜はドットマトリクス表示部１に対応付けて配置された第１領域とセグメント表示部２に対応付けて配置された第２領域を有し、第１領域は第２領域に比べて相対的に高いプレティルト角を発現する。駆動手段は同一のフレーム周波数により駆動電圧を液晶層に供給する。 （もっと読む）

【課題】画素を透過する光の透過率が高く、光源から発する光を有効に利用可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、素子基板１０と、画素に配置された透光性の画素電極１５と、素子基板１０と画素電極１５との間に設けられ、誘電体層１６ｂを介して対向配置された一対の透光性電極を有する蓄積容量１６と、蓄積容量１６と画素電極１５との間に設けられた第３層間絶縁膜１４と、を備え、画素を透過する光の分光分布が、少なくとも赤、緑、青の各波長範囲に対応して透過率のピークを有するように、画素電極１５、一対の透光性電極としての第１電極１６ａおよび第２電極１６ｃ、ならびに第３層間絶縁膜１４のそれぞれの膜厚が設定されている。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された絶縁膜の応力を低減し、歩留まりが向上したデバイスおよびこのデバイスを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】本開示の表示装置は、基板と、基板上の一部の領域に形成された金属層と、金属層上に設けられると共に、金属層未形成領域の少なくとも一部に溝を有する第１絶縁膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】層数を低減し、製造コストを抑え、かつ点灯異常を抑制して製造歩留まりの向上を図ることのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素部（ａ）と周辺部（ｃ）とを有する基板を用いた液晶表示装置の製造方法において、ゲート絶縁膜３上に半導体層４と画素電極５を形成した後、基板上に導電膜を平面ベタに形成し、ホトレジストパターンをマスクとして、画素部（ａ）の半導体層４と画素電極５とを電気的に接続するドレイン電極を形成すると共に、画素部（ａ）と周辺部（ｃ）における半導体層４を露出させ、周辺部の半導体層４をエッチング量の指標として用いて画素領域（ａ）の半導体層４をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。
【解決手段】エッチング方法は、１断目エッチング処理槽６１において、温度ｔ１を有するエッチング液を用いて、金属膜の表層を除去する工程と、金属膜の表層を除去する工程の後に、２〜４段目エッチング処理槽６２〜６４において、温度ｔ１よりも高い温度ｔ２を有するエッチング液を用いて、金属膜をパターニングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板全体でのエッチングレートの面内均一性を向上させるエッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング装置は、基板の主表面を被覆する被覆層にエッチング液を供給して被覆層を加工する装置である。エッチング装置は、被覆層に相対的に少量のエッチング液を供給する第一給液部２１１と、第一給液部２１１よりも後段側に配置され、被覆層に相対的に多量のエッチング液を供給する第二給液部２２１とを備える。第一給液部２１１は、被覆層の表層部分を除去可能な量のエッチング液を被覆層に供給する。 （もっと読む）

【課題】精度の高いセンサ出力を得ることのできる、センサ回路または表示装置を提供する。
【解決手段】光検出素子と、蓄積ノードを介して接続され光検出素子に流れた電流に応じて電荷を蓄積する蓄積部と、リセット信号を蓄積ノードへ供給するリセット信号配線と、読み出し信号を蓄積ノードへ供給する読み出し信号配線と、出力配線に接続され蓄積ノードと出力配線を導通させて蓄積ノードの電位に応じた出力信号を出力するセンサスイッチング素子と、蓄積ノードと所定の電圧が供給される所定電圧電極との間の接続および非接続を切り替えるスイッチ素子であってタッチ操作による押圧を受けると接続状態になるスイッチ素子と、スイッチ素子と蓄積ノードとの間に接続されスイッチ素子と蓄積ノードとの間の導通または非導通状態を切り替える制御信号が入力される制御電極を備える制御スイッチング素子とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶容量の変化の検出感度を向上させることができる容量変化検出回路を提供する。
【解決手段】静電容量の変化を検出する容量変化検出回路であって、一方の電極が電圧供給線に接続された第１の可変容量と、前記第１の可変容量の他方の電極に直列に接続された第２の可変容量と、前記第２の可変容量の前記第１の可変容量とは他方の電極に接続され、前記第１の可変容量、及び前記第２の可変容量の容量値に応じた電気信号を出力するスイッチング素子とを備える。 （もっと読む）

【課題】精細かつ高スループットの導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面と第２の波面とを有する基体と、第１の波面上に形成された、２層以上の層が積層された積層膜とを備える。積層膜が、導電パターン部を形成する。第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、積層構造の単純化を図り、しかも高品質な表示を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板上に、データ線（６）に接続された第１ソースドレイン領域、及び画素電極（９）に接続された第２ソースドレイン領域を含んでなる半導体層（３０ａ）と、半導体層と画素電極との間に配置され、一の走査線（１１）に接続されたゲート電極（３０ｂ）とを有するトランジスター（３０）と、一の走査線に隣り合う走査線に接続された第２トランジスターのゲート電極が延在してなる第１容量電極と、第１容量電極と画素電極との間に設けられるとともに第２ソースドレイン領域に接続された第２容量電極とを有する蓄積容量（７０）とを備える。蓄積容量は、半導体層とゲート電極との間の絶縁膜及び半導体層と基板との間の絶縁膜を貫通するとともに基板に設けられた溝内の少なくとも一部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】容易に簡素な構成でフリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】画素電極１２を備えた素子基板１０と、素子基板１０に対向配置された、対向電極２２を備えた対向基板２０と、素子基板１０と前記対向基板２０との間に挟持された液晶層３０と、素子基板１０の液晶層３０の側に設けられた第１配向膜１５と、対向基板２０の液晶層３０の側に設けられた第２配向膜２５と、を備え、画素電極１２を構成する材料の仕事関数が、対向電極２２を構成する材料の仕事関数に比べて小さく、第１配向膜１５の密度と第２配向膜２５の密度とが概ね等しく、且つ、第１配向膜１５の厚みｄ１が第２配向膜２５の厚みｄ２よりも厚くなっている。 （もっと読む）

【課題】 画像を表示でき、精細度を低下させること無しに画素の開口率の低下を抑制することができ、かつ入力手段にて接触される個所の位置情報を精度良く抽出することができる電子機器を提供する。
【解決手段】 電子機器は、表示パネルと、表示パネルに設けられたセンサモジュールＭとを備える。センサモジュールＭは、複数のセンサ回路ＳＮと、複数の容量カップリング線ｃｕｐと、複数のプリチャージ線ｐｒｅと、複数のプリチャージ制御線ｐｒｅｇと、複数の出力線ｏｕｔと、複数の出力制御線ｏｕｔｇとを有している。センサ回路ＳＮは、それぞれ隣合う複数の画素ＰＸが設けられた領域内に１つの割合で配置され、行方向Ｘに延在し、入力手段による入力動作に応じて静電容量結合の強弱が生じる検知電極Ｃｆを具備している。 （もっと読む）

【課題】高精細画面の液晶表示装置において、画素の面積が小さくなっても、透過率が大きく低下することを防止する。
【解決手段】ゲート線１０１とドレイン線１０４で囲まれた領域に画素電極１０６が形成されている。ゲート線１０１の下には、上面と斜面を有する台形状の突起１０が形成されている。ＴＦＴは台形状の突起１０の上に形成され、チャンネル部１０３１は台形状の突起１０の上面と斜面に渡って形成されているので、チャンネル幅は平面に形成した場合よりも大きくすることが出来る。画素電極１０６は、台形状の突起１０の斜面において、ソース電極１０６と接触する。この構成によれば、ＴＦＴも画素電極１０６とソース電極１０５とのコンタクトも台形状の突起１０の部分に形成できるので、画素の透過率を上げることが出来る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低コストで、容易に形成することが可能であり、高輝度な画像表示を行うことが可能なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板、これを用いた液晶表示装置、および上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を、容易な工程で高いスループットで製造することができ、製造コストを削減することが可能なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】基板と、上記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子と、上記基板上に形成され、少なくとも一色がインクジェット方式で形成された複数色の画素部と、上記画素部上に形成された画素電極と、上記画素部間に配置され、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、上記コンタクトホールと上記画素部とは、同一の着色樹脂材料からなる隔壁で区画されていることを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】現像液の濃度差による斜線状ムラを減少することができるＴＦＴ−ＬＣＤ画素電極層構造およびその形成方法、ならびにその形成用のマスクを提供する。
【解決手段】ＴＦＴ−ＬＣＤ画素電極層構造であって、液晶パネルの表示領域に対応する画素電極パターンと、液晶パネルの非表示領域に対応する周辺領域パターンと、非表示領域における周辺領域パターンを設けていない領域に対応する周辺充填パターンとを備える。本発明は、液晶ディスプレーの形成に適用される。さらに、画素電極層の形成方法および形成用マスクも提供された。 （もっと読む）

【課題】スペーサーの剥れを抑制可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板上に設けられた複数の走査線及び信号線と、前記走査線及び信号線の交差部に設けられたスイッチング素子と、前記走査線、前記信号線及び前記スイッチング素子を覆うように前記アレイ基板上に形成され、有機絶縁膜と前記有機絶縁膜上に形成され表示領域を形成する画素電極と、前記画素電極と前記スイッチング素子を電気的に接続するよう前記有機絶縁膜に設けられたスルーホールと、前記アレイ基板に対向して配置された対向基板と、前記アレイ基板と対向基板の間に配置され、両基板間を保持するスペーサーと、前記アレイ基板と前記対向基板に挟持された液晶層とを備える。前記スペーサーが有機絶縁膜に被覆されて形成されている。 （もっと読む）

【課題】トップコンタクト構造において、有機半導体層の膜質を確保しつつチャネル領域に対するコンタクト抵抗（注入抵抗）の低減を図る。
【解決手段】有機半導体層１７は、ゲート電極１３を幅方向に覆う状態で配置されており、ゲート電極１３の幅方向の中央部に配置された厚膜部１７−１と、この厚膜部１７−１よりも薄い膜厚を有してゲート電極１３の幅方向の両端に配置された薄膜部１７−２とを有する。またソース電極１９ｓおよびドレイン電極１９ｄは、有機半導体層１７の薄膜部１７−２上に端部が積層される。有機半導体層１７は、厚膜部１７−１が前記ゲート電極１３の幅の範囲内に設けられる一方、薄膜部１７−２は、厚膜部１７−１からゲート電極１３の幅方向の外側に延設される。 （もっと読む）

【課題】隣接する画素の間に設ける絶縁膜は、バンク、隔壁、障壁、土手などとも呼ばれ
、薄膜トランジスタのソース配線や、薄膜トランジスタのドレイン配線や、電源供給線の
上方に設けられる。特に、異なる層に設けられたこれらの配線の交差部は、他の箇所に比
べて大きな段差が形成される。隣接する画素の間に設ける絶縁膜を塗布法で形成した場合
においても、この段差の影響を受けて、部分的に薄くなる箇所が形成され、その箇所の耐
圧が低下されるという問題がある。
【解決手段】段差が大きい凸部近傍、特に配線交差部周辺にダミー部材を配置し、その上
に形成される絶縁膜の凹凸形状を緩和する。また、上方配線の端部と下方配線の端部とが
一致しないように、上方配線と下方配線の位置をずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】光の検出精度を向上させる。
【解決手段】ライトユニットと、表示回路と、Ｙ個（Ｙは２以上の自然数）の光検出回路と、を具備する入出力装置の駆動方法であって、Ｙ個の光検出回路のそれぞれに同じ光検出制御信号を入力し、表示選択信号により設定されるフレーム期間において、Ｚ個の発光ダイオードを順次切り替えて発光させることでライトユニットを点灯させることを含み、ライトユニットの点灯状態を切り替える周期より長い周期で、ライトユニットが点灯状態である期間に、Ｙ個の光検出回路に入射する光の照度に応じたＹ個のデータを生成する。 （もっと読む）