【課題】露光対象となっている回路パターン領域以外から光が反射することなく、精度よく露光転写ができる反射型露光用マスクを提供する。
【解決手段】露光に不要な波長を吸収する材料を含有する基板上に多層反射膜、保護膜、吸収膜、裏面導電膜が形成された反射型マスクブランクスを準備する。次に、回路パターンとその領域外の吸収膜を選択的に除去して回路パターンと遮光枠領域を形成する。次に、前記遮光枠領域において保護膜と多層反射膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系のレンズに生じうる不均一な温度分布による結像特性の低下を抑制する。
【解決手段】物体面に配置される原版９のパターンを像面に配置される基板１８に投影する投影光学系を有する露光装置において、前記投影光学系は、前記物体面から前記像面に至る光路に前記物体面から順に配置された第１平面鏡１１、第１凹面鏡１２、凸面鏡１４、第２凹面鏡１５、第２平面鏡１６と、前記第１凹面鏡１２と前記凸面鏡１４との間および前記凸面鏡１４と前記第２凹面鏡１５との間に配置された正のパワーを有する屈折光学系２０とを有し、前記屈折光学系２０は、屈折率の温度変化係数が正の材料で構成された第１レンズ１３ａと、屈折率の温度変化係数が負の材料で構成された第２レンズ１３ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】 水銀ランプ交換などの照明系メンテナンス等で発熱体の発熱量変化に対して周辺部への影響を抑制し、メンテナンス復帰時間を短縮し、露光装置の性能変動への影響を最小限に抑える。
【解決手段】 照明光発生手段の照明光に寄与しない発熱手段、及び照明系の熱量を制御する熱量制御手段により、照明光発生手段における熱量を所定値とする、もしくは温度分布を一定とするように熱量制御手段から熱量を制御する。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。
【解決手段】放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 （もっと読む）

【課題】第１凹面ミラーおよび第２凹面ミラーの独立した位置ずれによる結像性能の低下を抑える。
【解決手段】露光装置は、原版１のパターンを基板１１に投影する投影光学系ＰＯを有する。投影光学系ＰＯは、原版１と基板１１との間の光路中に原版１の側から順に配置された第１凹面ミラー６、凸面ミラー７、第２凹面ミラー８と、第１凹面ミラー６および第２凹面ミラー８を支持する支持機構とを備える。第１凹面ミラー６の反射面と凸面ミラー７の反射面との距離は、第２凹面ミラー６の反射面と凸面ミラー７の反射面との距離と異なる。前記支持機構は、上部部材１０５、中段部材１０７、下部部材１０８およびそれらの端部を連結する側部部材を含む棚形状の枠体を含む。第１凹面ミラー６は、上部部材１０５および中段部材１０７によって支持され、第２凹面ミラー８は、下部部材１０８によって支持され。 （もっと読む）

結像光学系、結像光学系を含む投影露光装置、投影露光装置を用いた微細構造構成要素の生成の方法、及び本方法によって生成される微細構造構成要素を提供する。結像光学系（７）は、複数のミラー（Ｍ１からＭ６）を有する。これらのミラーは、物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像する。結像光学系（７）では、ミラー（Ｍ１からＭ６）の反射面上の結像光（１５）の最大入射角と結像光学系（７）の像側開口数との比率は、３３．８°よりも小さい。これは、ミラーの反射コーティングに対して良好な条件を提供し、それによって特に１０ｎｍよりも短いＥＵＶ範囲の波長の結像光に対してさえも結像光学系を通過する際の低い反射損失を達成することができる結像光学系をもたらす。 （もっと読む）

【課題】空気のゆらぎが少なく、軽量で且つ剛性の高い鏡筒を有する反射型露光装置を提供する。
【解決手段】反射型露光装置（１００）は、マスクを保持するマスクステージ（４０）と、露光光でマスクを照明する照明光学系（１０）と、このマスクを透過した露光光を反射する第１反射ミラー（Ｍ１）、この第１反射ミラーからの反射からの露光光を反射する第２反射ミラー（Ｍ２）、この第２反射ミラーからの反射からの露光光を反射する第３反射ミラー（Ｍ３）、及びこの第３反射ミラーで反射して再び第２反射ミラーへ戻り第２反射ミラーで反射された露光光を反射する第４反射ミラー（Ｍ４）を有する円筒形の鏡筒（５０）と、第４反射ミラーで反射された露光光で露光される被露光基板を保持する基板ステージ（６０）と、を備え、鏡筒の円周面に多角形の開口（５０ｒ、５０ｓ）が複数形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、遮光部材を用いて非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。
【解決手段】遮光部材４０を、反射面２０ａ、３０ａの間から退出させる。かかる場合、ミラー２０は、照射領域ＥＬ内で露光ユニットＯＰＵから照射された光を遮るが、ミラー２０の反射面２０ａから反射された光は、反射面３０ａ、３０ｂ、２０ｂを介して、ミラー２０の影となる部分に照射される。これにより、ミラー２０が照射領域ＥＬの任意の位置にあっても、露光領域ＥＲの露光には影響を与えることがなく、露光バラツキを抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】 大型液晶表示パネル用の投影露光装置では装置の大型化に伴い光学部品の自重変形による性能変化が無視できなくなってきた。また、大型化に伴い面誤差やメカ歪による性能変化も無視できなくなってきた。
【解決手段】 原版１を照明する照明光学系と、該原版からの光を基板２に投影する投影光学系３、５〜９とを有し、該原版および該基板を前記投影光学系の光軸断面内の一方向に走査させながら該原版および前記投影光学系を介して該基板を露光する露光装置において、前記投影光学系内の光学部品３、９を保持する手段４、１０による保持位置を前記投影光学系の光軸断面内で変更することにより像性能を調整する機構１１、１２を設ける。 （もっと読む）

【課題】高負荷の露光条件であっても結像性能が優れかつスループットの高い露光処理を行える露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系５を介して原版３に形成されたパターンを基板４に露光転写する露光装置である。露光装置は、投影光学系５を収容するチャンバ１１と、温度調節ユニットとを備える。温度調節ユニットは、チャンバ１１の内部に温度制御されたガスを供給する供給管１９とチャンバ１１の内部からガスを排出する排出管１８とガス供給及びガス排出を制御する制御器２１を含む。制御器２１は、ガス供給及びガス排出を、露光時には行わず、非露光時に行うように制御する。 （もっと読む）

【課題】 高性能、高スループットと低コストを両立した露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、物体面Ｏから像面Ｉに至る光路において、第一凹反射面Ｍ１、凸反射面Ｍ２、第二凹反射面Ｍ３が順に配列された投影光学系を備えた露光装置に関する。投影光学系は、物体面Ｏと第一凹反射面Ｍ１との間、第一凹反射面Ｍ１と凸反射面Ｍ２との間、凸反射面Ｍ２と第二凹反射面Ｍ３との間、及び、第二凹反射面Ｍ３と像面Ｉとの間のそれぞれにパワーを有する屈折光学部材Ｌ１〜４を含み、かつ、軸外に有限範囲の輪帯状良像域を有する。投影光学系に含まれる反射光学部材Ｍ１〜３のパワーの総和をφ１とし、屈折光学部材Ｌ１〜４のパワーの総和をφ２としたとき、φ１及びφ２が、０．００１≦｜φ２／φ１｜≦０．１を満たす。 （もっと読む）

【課題】所望の光学特性が得られる多層膜反射鏡を提供する。
【解決手段】多層膜反射鏡は、基材と、基材上に形成される多層膜とを備える。多層膜は、交互に積層される第１層と第２層とをそれぞれが含む複数の層対と、極端紫外光を反射可能な第１領域及び第２領域と、第１及び第２領域に配されかつ第１周期長を有する第１群と、第１領域に配されかつ第１周期長と異なる第２周期長を有する第２群と、第２領域に配されかつ第１周期長と実質的に同じ周期長を有する第３群とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の輝線を含む分光分布の広い光束を、色収差に起因する結像位置のずれのない状態で照射することができる投影露光装置を提供する。
【解決手段】投影露光装置（１００）は、ｇ線，ｈ線，ｉ線及びｊ線の輝線を含む露光光を照射する光源（１０）と、その露光光から所定の組み合わせの輝線を含む光束を選択する波長選択部（１５）と、パターンが描かれたフォトマスクを位置決めするマスクステージ（４０）と、波長選択部で選択された露光光がフォトマスクに照射され、このフォトマスクを透過した露光光を基板に投影するオフナー型反射式投影光学系（５０）と、基板を位置決めする基板ステージ（６０）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフプロセスを設定するための良好な装置や方法を提供すること、及び／又は、こうしたリソグラフプロセスで使用するマスクを設計し、そしてリソグラフマスクを製造するための良好な方法およびシステムを提供する。
【解決手段】基板のリソグラフプロセスで使用するリソグラフマスクを設計するための方法（１４００）であって、初期位置を有する複数の初期設計構造物を備えたリソグラフマスクのための初期設計を取得すること（１４０２）と、少なくとも１つのシフトを少なくとも１つの初期設計構造物に適用して（１４１２）、そこから変更した設計を導出して（１４１６）、前記所定の照射構成における前記変更した設計に対応したリソグラフマスクを用いて基板を照射する場合のシャド−イング効果を補償することとを含む。 （もっと読む）

【課題】露光に不要な非露光光のウエハへの到達を抑制し、露光精度を良好に維持できる光学素子、露光装置、及びこれらを用いたデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】光学素子１００は、露光光である例えば極端紫外線を反射する多層膜１０３と、多層膜１０３の最表層に設けられて光学素子１００の反射特性を調整する反射調整層１０５とを備える。反射調整層１０５は、光源光に含まれる露光光の反射率と比較して、光源光に含まれる露光光以外の非露光光の反射率が低くなるように、光学素子１００の反射特性を調整する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置等における光学系の最適フォーカスを簡易に求めることができ、露光精度及びスループットの向上に寄与する。
【解決手段】マスク３０上に形成されたパターンを該マスク３０とほぼ平行に載置されたウエハ５０上に露光する露光装置に対し、ウエハ面上でのフォーカスをモニタする方法であって、ウエハ５０上の露光エリア又はマスクの少なくとも一方に意図的に傾きを与え、露光エリアとマスク３０とが相対角度を持つ状態で露光することにより、露光エリア内にマスク３０のパターンの正像と偽解像の両方を形成し、露光エリア内に形成された正像と偽解像との位置関係を計測し、計測した位置関係に基づいて露光装置の最適フォーカス位置を測定する。 （もっと読む）

微細構造素子微細構造素子マイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）は、ＥＵＶ光源（３）を備えた照明システム（２）と、対物面（５）内で物体視野を露光するための照明光学ユニット（６）とを有する。投影光学ユニット（６）は、物体視野を像平面（７）の像視野内に結像するように機能する。投影光学ユニット（６）の瞳平面に一致するか又はそれに対して光学的に共役な照明光学ユニット（４）の平面に配置された瞳ファセットミラー（１５）は、照明光（８）が衝突することができる複数の個々のファセットを有する。補正絞り（１７）は、投影光学ユニット（６）の瞳平面に又はそれに隣接して、又はそれに対して共役な平面に配置される。補正絞り（１７）は、投影光学ユニット（６）の入射瞳内の瞳ファセットミラー（１５）の個々のファセットに割り当てられた少なくとも一部の光源像が、１つの同じ絞り縁部によって部分的に遮光されるように、投影光学ユニットの入射瞳の照明を遮蔽する。 （もっと読む）

【課題】デバイスの大型化に伴う原版の大型化を抑制するための投影光学系を含む露光装置の提供。
【解決手段】物平面Ｐ１から像平面Ｐ２に至る光路に第１凹反射面Ｍ１１、凸反射面Ｍ１２、第２凹反射面Ｍ１３が順に配置された投影光学系１０を備え、第１凹反射面Ｍ１１と凸反射面Ｍ１２との間に配置された屈折光学部材Ｌ１３と、物平面Ｐ１から第１凹反射面Ｍ１２に至る光路中及び第２凹反射面Ｍ１３から像平面Ｐ３に至る光路中に配置された屈折光学部材Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１４を含む。物平面Ｐ１に対する像平面Ｐ２の画面領域の拡大率である結像倍率をβとしたときに、１．１≦β≦２．０を満たす。第１凹反射面Ｍ１１の近軸曲率中心Ｃ１、凸反射面Ｍ１２の近軸曲率中心Ｃ２、第２凹反射面Ｍ１３の近軸曲率中心Ｃ３の少なくとも１つが物平面Ｐ１と像平面Ｐ２との間に存在する。 （もっと読む）

請求項１の序文に従ったマイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システム、更に、この種の照明システムを使用するマイクロリソグラフィ投影露光装置、更に、この種の投影露光装置を使用して微小構造構成要素を生成する方法、及びこの種の方法によって生成される微小構造構成要素を提供する。マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）のための照明システム（６）は、直線偏光されたＥＵＶ照明光の放射ビーム（１３）を発生するＥＵＶ光源（７）を含む。照明光学器械（２４、２５、３１、３７）は、光軸（２０）に沿って放射ビーム（１３）を案内し、これは、レチクル平面（２）における照明視野を放射ビーム（１３）によって照明させる。照明システム（６）の照明サブユニット（７）は、少なくともＥＵＶ光源（７）を含み、かつ照明サブユニット（７）のＥＵＶ放射ビーム（１３）の所定の偏光を設定するための偏光設定デバイス（１５、１８）を含む。この結果は、装置の偏光要件に対して及び基板又はウェーハ上に投影される構造に対して柔軟に適応可能な照明システムである。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光源に用いられる反射鏡等、スズが付着した部材からスズを除去する方法を提供する。
【解決手段】水素イオン２３及び希ガスイオン２２を含むプラズマを生成し、スズ付着部材２１に負の電位が与えられるように部材と接地の間にプラズマを加速するための電圧を印加する。これにより、希ガスイオン２２がスズ付着部材２１の表面に入射してスズ２４を物理的にスパッタすると共に、水素イオン２３や水素ラジカル２５がスズ付着部材２１の表面においてスズ２４を水素脆化させ、スズ２４をスズ付着部材２１表面から除去する。除去されたスズ２４Ａは、プラズマ中の水素プラズマと反応し、気体である四水素化スズ２６となる。排気装置によりこの四水素化スズ２６を除去することにより、スズがスズ付着部材２１の表面に再付着することを防ぐことができる。 （もっと読む）