【課題】基板上に塗布液を塗布する際に、塗布液の供給量を少量に抑えつつ、基板面内で均一に塗布液を塗布する。
【解決手段】回転中のウェハ上に溶剤を供給し、ウェハを第６の回転数で回転させて溶剤を拡散させる（工程Ｓ１）。ウェハの回転を第１の回転数まで加速させ、第１の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ２）。ウェハの回転を第２の回転数まで減速させ、ウェハＷを第２の回転数で回転させる（工程Ｓ３）。ウェハの回転を第３の回転数までさらに加速し、第３の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ４）。ウェハの回転を第４の回転数である０ｒｐｍ超５００ｒｐｍ以下まで減速させ、第４の回転数で１〜１０秒間ウェハを回転させる（工程Ｓ５）。ウェハの回転を第５の回転数まで加速し、第５の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ６）。工程Ｓ２から工程Ｓ３の途中まで、あるいは工程Ｓ２の間ウェハの中心にレジスト液を連続的に供給する。 （もっと読む）

【課題】金属混合液を用いて基板上に金属膜を適切且つ効率よく形成する。
【解決手段】金属膜形成システム１は、ウェハＷを搬入出する搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に前処理液を塗布し、ウェハＷ上に下地膜を形成する前処理ステーション３と、下地膜が形成されたウェハＷ上に金属混合液を塗布し、ウェハＷ上に金属膜を形成する主処理ステーション４と、搬入出ステーション２と前処理ステーション３とを接続する第１のロードロックユニット１０と、前処理ステーション３と主処理ステーション４とを接続する第２のロードロックユニット１３とを有している。前処理ステーション３、主処理ステーション４、第１のロードロックユニット１０及び第２のロードロックユニット１３は、それぞれ内部を不活性ガスの大気圧雰囲気又は減圧雰囲気に切り替え可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、ミストやパーティクルの流出を抑え、且つ排気ポートから排気するための排気流量を抑えることができる技術を提供すること。

【解決手段】基板の回転により基板上の液を振り切るときには、外カップの下縁部をベース部の上方の第１の高さ位置に位置させ、装置が待機状態にあるときには前記外カップの下縁部の下方側から外部の気体を排気空間に流入させるために当該下縁部を第１の高さ位置よりも高い第２の高さ位置に位置させる昇降部と、前記処理液を案内するために、前記外カップの下縁部から内側に下向きに傾斜しながら伸び出す傾斜面部とを備えるように液処理装置を構成する。スピンチャックが回転しているときに前記排気空間の気体が外カップの下縁部に回り込んでベース体との間から外カップの外にミストやパーティクルが流出することが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】
ドラム状物体ごとの液状物質の塗布時間を短くして、多くのドラム状物体に液状物質を塗布する必要がある場合でも、液状物質を塗布する装置を多くせずに生産効率が悪くならないようにすることができるドラム状物体への液状物質塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
複数本のドラム状物体を、ドラム状物体の中心軸が略水平であり、それぞれのドラム状物体の中心軸が略１点で交差するように固定するドラム状物体セット手段と、ドラム状物体の中心軸が略交差する位置付近を通り、ドラム状物体のそれぞれの中心軸方向と略直角な軸を回転軸にして、ドラム状物体セット手段を回転させる第１の回転手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ストリエーションを発生させずに基板上に塗布液を塗布できる塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布チャンバ１１と、塗布チャンバ１１内に設けられ、基板Ｓが載置される回転台１３と、前記回転台１３に載置される基板Ｓに塗布液を滴下するための塗布液用ノズル１４とを備え、前記塗布液用ノズル１４から、回転台１３により回転する基板Ｓの塗布面に塗布液を滴下して、遠心力により前記基板Ｓ上の前記塗布液を外周方向に伸展させて前記塗布面に塗布液を塗布する塗布装置１であって、前記塗布チャンバ１１には、塗布チャンバ１１内を、前記塗布液を構成する溶媒のうち少なくとも一つの溶媒の飽和蒸気で満たす雰囲気形成手段１７を備えたことを特徴とする塗布装置。 （もっと読む）

【課題】基板面内において塗布液を均一に塗布しつつ、塗布液の供給量を低減する。
【解決手段】ウェハを第１の回転数で回転させ、ウェハ上に純水が拡散しないように、ウェハの中心部に純水を供給する（工程Ｓ１）。ウェハの回転を第２の回転数まで加速させ、ウェハ上の純水の中心部に塗布液を供給し、塗布液の下層に塗布液と純水の混合層を形成する（工程Ｓ２）。ウェハの回転を第３の回転数まで加速させ、塗布液をウェハ上の全面に拡散させる（工程Ｓ３）。ウェハの回転を第４の回転数まで減速させ、ウェハ上の塗布液の膜厚を調整する（工程Ｓ４）。ウェハの回転を第５の回転数まで加速させ、ウェハ上の塗布液を乾燥させる（工程Ｓ５）。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハに対して安価にコーティングを行なうコーティング装置及び方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ２０６を支持しかつ回転させる回転可能にされたプラットフォーム２１２と、半導体ウェハの中央部上に予備加湿溶剤、フォトレジストまたはＡＲＣを供給し、かつ半導体ウェハの周辺部上に予備加湿溶剤を追加して供給する第１、第２、第３のノズル２０４、２０８、２１０と、プラットフォーム２１２の回転を制御すると共に、半導体ウェハの中央部上に予備加湿溶剤を供給し、半導体ウェハが回転している期間に予備加湿溶剤が供給されている半導体ウェハの中央部上にフォトレジストまたはＡＲＣを供給し、半導体ウェハが回転し続けている期間に半導体ウェハの周辺部上に予備加湿溶剤を追加して供給するように第１、第２、第３のノズルを制御するコントローラ２２０を具備する。 （もっと読む）

【課題】 異種ＳＯＧ材料を搭載するＳＯＧコート装置において、ノズルからの不所望なＳＯＧの滴下を防止し、かつ、結晶化または固化したパーティクルの塗布を防止する。
【解決手段】 ＳＯＧの供給方法は、ロットに対して第１のノズルから第１のスピンオンガラスを供給する処理を実行するとき、当該ロットへの処理の開始時または終了時に、第２のノズルから第２のスピンオンガラスを一定量だけ吐出するステップを含む。さらにＳＯＧの供給方法は、ロットに含まれる基板の処理開始時に第２のノズルを洗浄するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で、平坦でない被塗布物の表面にスピンコーティング法により塗布物を塗布するための、塗布物展延装置および塗布物展延方法を提供することを目的とする。
【解決手段】回転軸Ｒ回りに回転する回転軸部３０と、塗布物８８が供給された被塗布物８０を固定支持し、回転軸部３０に支持され、回転軸部３０の回転に伴い回転しながら回転軸Ｒの方向と交差する方向の回動軸Ｄ回りに回動する載置台１０とを備える塗布物展延装置１。被塗布物８０の表面に塗布物８８を供給する工程と、塗布物８８が供給された被塗布物８０を回転軸Ｒ回りに回転し、塗布物８８を展延する工程と、塗布物８８を展延する工程において、回転軸Ｒの方向と交差する方向の回動軸Ｄ回りに被塗布物８０を回動し、被塗布物８８の回転軸Ｒに対する角度Ｔを変える工程とを備える塗布物展延方法。 （もっと読む）

【課題】傾斜角が大きい光学部材に対して、均一な光学膜を再現性良く形成する方法及び装置並びにその光学膜を有する光学物品を提供する。
【解決手段】基板１を回転自在な治具20に取り付け、基板１を回転させながら、基板１に光学膜成分を含有する塗布液をノズル40から滴下し、得られた塗膜を乾燥させることにより、基板１上に光学膜を形成する方法であって、基板１を8,000 rpm以上のほぼ一定の速度で回転させながら、基板１に塗布液を滴下した後、治具20の軸ぶれを50μm以下に保持しながら、基板１を上記ほぼ一定の速度で回転させて塗膜を形成する方法。
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【課題】樹脂の再利用が可能な樹脂膜形成装置、樹脂膜形成方法および樹脂膜形成装置を制御するための制御装置可読のプログラムを提供すること。
【解決手段】中心に孔２を有する円板状のディスク１を載置しディスク１を孔２を中心に回転させるスピンナ１６と、ディスク１の孔２の周囲に樹脂３を塗布する樹脂供給装置と、スピンナ１６に載置されたディスク１の樹脂３を硬化する光線を照射する光線照射装置であってスピンナ１６に載置されたディスク１の内周側から外周側に向けて光線の照射位置を移動しディスク１の外周に至る手前で光線の照射を停止する光線照射装置１７とを備える樹脂膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】短時間でたくさんのレンズにコーティング被膜を形成するコーティング装置を提供すること。
【解決手段】レンズのコーティング装置において、レンズセンタリング装置２のレンズ支持部、レンズ塗布装置５のレンズ支持部及びレンズ乾燥装置７のレンズ支持部を等間隔に配置した。レンズ搬送装置８のレンズ保持部８０，８１を各レンズ支持部の間隔と同じ間隔を開けて一対設け、レンズ保持部のうち第１のレンズ保持部８０がレンズ１０をセンタリング装置２のレンズ支持部から塗布装置５のレンズ支持部に搬送すると同時に、レンズ保持部の第２のレンズ保持部８１がレンズ１０を塗布装置５のレンズ支持部から乾燥装置７のレンズ支持部に搬送するようにした。 （もっと読む）

【課題】 従来、人手に頼っていたシャフト部材へのグリース塗布を、効率よく、かつ必要とする箇所にだけ塗布することで、作業性の向上、省力化、および品質向上を図ることのできる回転塗布装置および回転塗布方法を提供する。
【解決手段】回転式塗布装置は、一対のガイドレール５，５と、ガイドレールに振動を与える振動発生手段と、ガイドレール間に懸架され振動により移送されるピン状被塗物１００をガイドレールの特定位置で回動自在に停留させるストッパーと、この停留時に、振動により自転するピン状被塗物１００に粘着性塗物を塗布するための塗布手段１０と、ピン状被塗物に塗着した粘着性塗物を平らにならすための塗膜平均化手段１０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 薬液収納容器を容易に交換できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ＬＥＤ表示部７５の各ＬＥＤ７６は、各容器７１の配置形態と略同一となるように配置される。容器７１内の薬液が空になると、対応するＬＥＤ表示部７５のＬＥＤ７６が点灯する。オペレータは、容器７１を交換する作業に先立ち、バーコードリーダ８２によって未使用容器７１のバーコード７２を読み取る。バーコードリーダ照合機８３は、未使用容器７１のバーコードデータと、データベースに登録されており点灯中のＬＥＤ７６に対応する容器７１のバーコードデータとを照合する。そして、バーコードリーダ照合機８３によって両容器７１の薬液種類が同一であると判断された場合、ＬＥＤ７６の表示は点灯表示から点滅表示に移行させられる。これにより、容易に交換対象となる空の容器７１の配置位置を容易に把握でき、容器７１の交換ミスを有効に防止できる。 （もっと読む）

バッチスプレイ方法は、ターンテーブル上に搭載される基板を設置するステップと、ターンテーブルの中心軸まわりに基板を回転させるためにターンテーブルを回転させるステップと、ターンテーブルから独立して基板を回転させるステップであって、基板の回転がターンテーブルの回転と同時に生ずるステップと、少なくとも１つの固定位置から基板上に化学物質を定量供給するステップとを含む。ターンテーブルから独立して基板を回転させることは、基板の全周が化学物質の噴射に晒されることを可能とする。一実施例では、基板は、プロセスカセット内に装着されてもよく、プロセスカセットは、ターンテーブル上に搭載され、プロセスカセットは、ターンテーブルが回転している間、ターンテーブルから独立して回転してもよい。

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２つの絞りローラ（３、４）によって形成された少なくとも１つの加圧ニップ（５）が設けられたプレス区間（２）を有し、かつ媒体、特に澱粉を塗布する装置（６、７）が配置された、紙ウェブ、厚紙ウェブ、又は他の繊維ウェブ（１）の製造用機械を開示する。繊維ウェブ（１）は、バンド（８）に沿って加圧ニップ（５）を通って案内され得る。本発明による機械は、この装置（６、７）が、媒体を繊維ウェブ（１）に間接的に塗布するために絞りローラ（３、４）の少なくとも１つに載っていることを特徴とする。
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