【課題】パターン化磁気記録ディスクをナノインプリントするための放射状２進符号化非データマークを有するマスタディスクを作製するためのブロック共重合体を使用する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、マスタディスクを作製するエッチマスクとして使用することができるＢＣＰ成分の１つの放射状線と円周方向隙間の組のパターンを形成するためにＢＣＰの誘導自己組織化を利用する。放射状線と円周方向隙間の組は２進数を符号化するようにパターン化され得る。上記パターンは、データセクタ番号および／またはサーボセクタ番号の２進数として機能する２進符号化非データマークとしてナノインプリントディスク内に複製される。ディスクがシェブロンサーボパターンを使用する場合も、２進数はシェブロンサーボパターンに関連したトラックのグループを特定すべく機能することができる。 （もっと読む）

【課題】 型に形成されているパターンと、基板上に既に形成されているパターンとの重ね合わせ精度の向上に有利なインプリント装置を提供すること。
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、前記型はパターン部を有する面を有し、前記型を保持する型保持手段と、前記基板を保持する基板保持手段と、前記パターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第１の取得手段とを有し、前記パターン部と前記インプリント材が接触している状態における前記型と前記基板との間隔を前記第１の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて調整するために、前記型保持部と基板保持部の少なくとも一方を制御する制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】単一の記録マスタから両面テンプレートを作る方法を提供する。
【解決手段】単一の記録マスタを使用して第一のテンプレートを製造するステップを備える。第一のテンプレートにおいては、デューティサイクルが変更され、サーボアーク配向は変更されない。方法はさらに、第一のテンプレートの複製物を作成するステップを備える。複製物においては、サーボアーク配向が鏡写しとなり、デューティサイクルが変更される。方法はさらに、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備え、パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを第二のテンプレートに形成する。 （もっと読む）

【課題】本実施形態は、パターン形成にかかる時間を短縮しつつ、インプリントリソグラフィ法において、硬化性樹脂をパターン形成用テンプレートのパターン溝に充填する際に生じる充填欠陥を低減することができ、加えて、異物によるパターン形成用テンプレートの欠損を避けることができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン形成方法は、被加工基板上に硬化性樹脂を塗布し、硬化性樹脂にパターン形成用テンプレートを接触させて、被加工基板上に硬化性樹脂からなるパターンを形成するものであり、硬化性樹脂を塗布する前に、被加工基板上にある異物の位置情報を測定し、記憶し、記憶された異物の位置情報に基づいて、異物粉砕テンプレートを異物に押し付けることにより異物を粉砕し、次いで、粘着膜が貼付けされた除去用テンプレートを粉砕された異物に接触させて粘着することにより異物を除去する。 （もっと読む）

【課題】モールドに、別途、離型層を設けることなく所定のパターンを転写した被成形物を良好に離型する。
【解決手段】モールド３０に形成された所望のパターンを被成形材料に転写することで被成形物を成形するインプリントでの被成形物からモールド３０を引き離す離型方法において、被成形物とモールド３０との離型力を低減させるように、前記被成形物を収縮させる収縮工程と、収縮工程後、被成形物からモールド３０を引き離す離型工程とを備えることで実現する。 （もっと読む）

【課題】離型剤を用いることなく、離型力を大幅に低減させて、被成形物からモールドを容易に離型させる。
【解決手段】モールド３０に形成されたナノメートルオーダーの所望のパターンを被成形材料に転写することで被成形物を成形するナノインプリント装置１において、モールド３０と被成形物との間に気体を吹き付け、モールド３０と被成形物との間に入り込んだ気体によって、モールド３０と被成形物との間の圧力を上昇させる。具体的には、モールド３０と被成形物との間の圧力上昇が、少なくともモールド３０と被成形物とを含む空間の圧力に近付くよう、気体を吹き付け、モールドと被成形物との間に入り込ませる気体の量を制御することで実現する。 （もっと読む）

【課題】気体の残留やモールドと基材との未接触部（未密着部）の発生に起因する未転写やパターン形状不良を抑制できるシート状デバイスの製造装置を提供する。
【解決手段】本発明のシート状デバイスの製造装置は、パターンが形成されたパターン形成面を有するモールド４と、モールド４に対向配置された弾性体９とで基材８を挟み、その基材８上の樹脂にパターン形成面を押し当てて加圧した後、パターン形成面に接触している樹脂を硬化させるものであって、モールド４に対向する弾性体９の表面が、モールド４側へ凸状の曲面であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上にシランカップリング剤を適切に成膜し、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートＴの表面に紫外線を照射し、当該表面を洗浄する（図１１（ａ））。その後、テンプレートＴ上に離型剤Ｓを塗布する（図１１（ｂ））。その後、テンプレートＴの離型剤Ｓ上にアルコールＡを塗布する（図１１（ｃ））。その後、テンプレートＴ上の離型剤Ｓに超音波振動を付与する（図１１（ｄ））。この超音波振動により、テンプレートＴの表面と離型剤Ｓとの化学反応が促進され、当該テンプレートＴの表面と離型剤Ｓとの密着性が向上する。その後、テンプレートＴ上の離型剤Ｓをリンスし、当該テンプレートＴ上に転写パターンに沿った離型膜Ｓ_Ｆを成膜する（図１１（ｅ））。 （もっと読む）

【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。
【解決手段】 （Ａ）重合性化合物と、（Ｂ）２５℃、１ａｔｍの条件下においてＡＳＴＭ−Ｄ３５３９に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき１〜１５の範囲内にある有機溶媒とを含有し、（Ａ）成分１００重量部に対して（Ｂ）成分を０．０１〜１０重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】レジスト膜に凹凸パターンを形成するパターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）と、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凹状部分の底部に対してエッチングを行う除去工程（Ｓ６）と、を備えるレジストパターン形成方法において、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の後で前記除去工程（Ｓ６）の前に、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凸状部分の頂部を含む当該頂部の近傍領域に、前記除去工程（Ｓ６）での前記エッチングによる前記凹凸パターンのパターン消失を抑制する形状の保護膜を、化学的成膜処理により形成する保護膜形成工程（Ｓ５）を備える。 （もっと読む）

【課題】濡れ広がりに異方性を生じせしめるパターン形成面に複数の液滴が接している場合であっても、その濡れ広がりおよび合一を容易に予測することを可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターン１により規定されるパターン形成面Ｐであって液滴６の濡れ広がりに異方性を生じせしめるパターン形成面Ｐに配置された複数の液滴６の濡れ広がりおよび合一を予測するためのシミュレーション方法において、解析対象であるパターン形成面Ｐを規定する凹凸パターン１が液滴６の濡れ広がりに与える影響を解析面Ａにおける濡れ性として取り扱って、この濡れ性を表す濡れ性パラメータが組み込まれた気液二相流解析により、解析面Ａ上での複数の液滴６の濡れ広がりおよび合一を解析する。 （もっと読む）

【課題】型が光を透過しない材質で構成され、また、被成型品にアライメントマークが設けられていなくても、被成型品の正確な位置に微細な転写パターンを転写できる転写装置を提供する。
【解決手段】型Ｍを保持し、被成型品Ｗに接近・離反する方向に移動位置決め自在な型保持体９と；被成型品Ｗを保持し、型保持体９の接近・離反方向に交差する方向に移動位置決め自在な被成型品保持体５と；型Ｍと被成型品Ｗとの間に挿入される第１の位置と、型Ｍと被成型品Ｗとから離れた第２の位置との間を移動自在な検出子１５で被成型品Ｗの縁の位置を検出して、型Ｍに対する被成型品Ｗの位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出手段１１と；第１の位置に検出子１５を位置させて被成型品Ｗの位置ずれ量を検出し、この位置ずれ量を、型保持体９を移動することによって補正し、型Ｍを被成型品Ｗに接触させて転写を行うように制御する制御手段５１とを有する。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、アルコール溶媒Ａと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】インプリントレジスト特徴寸法の拡大を可能にするパターン化磁気記録ディスクの製作方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、インプリントレジストがＮＩＬによりパターン化された後インプリントレジスト特徴部の寸法を拡大する。インプリントレジスト材料の層は、ブランクディスク上に堆積される。インプリントレジスト層はＮＩＬによりパターン化され、上部から基部まで傾斜した側壁を有する複数の離間されたレジスト柱を生じる。被覆層が、傾斜したレジスト柱側壁の上を含むパターン化されたレジスト層の上に堆積される。被覆層は次に、レジスト柱間の空間部内にブランクディスクを露出する一方で傾斜したレジスト柱側壁上に被覆層を残すためにエッチングされる。レジスト柱は次に、ブランクディスクをエッチングするためのマスクとして使用され、ブランクディスク上に複数の個別のアイランドを残す。 （もっと読む）

【課題】接着性、微細パターン形成、離型性に優れた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】基材１１、該基材上に設けられた金属層１４及び該金属層上に設けられたＳｉＯ_２層１５が積層されてなるエッチング層１２、並びに該エッチング層上に設けられ、カチオン硬化性樹脂組成物とラジカル硬化性樹脂組成物とを含むレジスト層１３を具備する感光性樹脂積層体。該カチオン硬化性樹脂組成物は、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種類のカチオン硬化性モノマーと光酸発生剤を含み、該ラジカル硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリレート誘導体であるラジカル硬化性モノマーと光ラジカル発生剤と所定のウレタン（メタ）アクリレート化合物を含み、該ウレタン（メタ）アクリレート化合物の含有量は、該カチオン及び該ラジカル硬化性樹脂組成物の固形分合計１００重量部に対し０．１〜５重量部である。 （もっと読む）

【課題】高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ビットパターンドメディアにおいて磁性体領域の元となるドット状の凸部が基板の主表面に形成されており、前記ドット状の凸部が前記基板の主表面において所定の方向に一定周期で形成されているインプリントモールドにおいて、前記ドット状の凸部は、前記基板の主表面を削って形成された、複数の連続的な平面視ライン状の溝が交わってなる格子状の溝部に囲まれることによって形成され、前記一定周期において、前記ライン状の溝の幅は、前記ドット状の凸部の幅よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】化学増幅レジストの性能を引き出すことにより、高い解像性能と良好なパターン品質を有するレジストパターンが得られるレジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】基体上に化学増幅レジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程後、レジスト塗布基体に対してベークを行うパターン露光前ベーク工程と、を有し、前記パターン露光前ベーク工程後に形成されることになるパターン未露光のレジスト層に対して現像剤による減膜処理を行うとすると前記レジスト層の残膜率が９５％以上となる時間及び温度条件にて、前記パターン露光前ベーク工程を行う。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成性に優れたインプリントを行うためのメンテナンス液を開示する。
【解決手段】エステルおよび／またはエーテル官能基を有する化合物を含有するインプリントを行うためのインクジェット装置のメンテナンス液。 （もっと読む）