【課題】耐久性が高く、かつ安価な複製モールドを提供する。
【解決手段】本発明に係る複製モールド１は、ナノインプリント用の複製モールド１であって、基体１０と、基体１０上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体２０とを具備する。複製モールド構造体２０は、押し込み弾性率が４０００Ｎ／ｍｍ^２以上、７４０００Ｎ／ｍｍ^２以下であり、線熱膨脹係数が１０×１０^−５Ｋ^−１未満であり、かつ、３６５ｎｍにおける透過率が７０％以上である。 （もっと読む）

【課題】基板の表面へのソフトリソグラフィ・スタンプまたはマクロスタンプの印加圧力を、簡単に効率的に制御でき、自動化を促進する装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板にマイクロ構造またはナノ構造の被着を実現できる可撓性スタンプを備える、転写によるソフトリソグラフィ用装置であって、該可撓性スタンプ１が、転写によって被着を実現できる構造面３１を、その片面に備えるエラストマ製層３と、該第１層３の構造面に対向する面に密接した状態のエラストマ製第２層２であって、軟強磁性材料から成る粒子を分散させたエラストマから成る第２層２とから成ることを特徴とする装置。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、光硬化性転写シートの転写層に、載置、押圧して、積層体を形成する工程；スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する中間スタンパを得る工程；中間スタンパの反転凹凸パターンの表面を、光硬化性転写シートの転写層に載置、押圧して、積層体を形成する工程；及び中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンが形成された基板から、容易に他の基板等に正確なパターン転写を行うことができる微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも片側に凹凸パターンが形成された第一の基板１１上に、誘電体膜１５を形成する。第一の基板１１とパターン転写先の第二の基板１４とを、第一の基板１１側から順にフッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２及びフッ素未含有の第二の紫外線硬化性樹脂１３を介して結合させる。第一の基板１１と第二の基板１４とを、誘電体膜１５とフッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２との境界で分離し、フッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２に凹凸パターンを転写する。 （もっと読む）

【課題】パターン転写用金型の微細なパターン形状にダメージを与えることなくフッ素化処理し、これを用いた複製パターン転写用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】微細パターンを有するパターン転写用金型４をフッ化アンモニウム水溶液中に浸漬し表面にフッ化ニッケル層５を形成し、フッ化ニッケル層５の表面に電鋳により第１ニッケルめっき膜６を形成した後、これを剥離し、剥離した電鋳物の表面に電鋳により第２ニッケルめっき膜９を形成した後、これを剥離し微細パターンを有する複製パターン転写用金型１０を複製することを特徴とする複製パターン転写用金型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】被転写基板の局所的な突起に追従し、パターン転写不良領域を低減することが可能で、耐久性のあるスタンパおよび転写方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されたインプリント用スタンパ１０１において、前記凹凸形状が形成された樹脂製のパターン層１０２と、前記パターン層１０２の裏面に配置された樹脂製の緩衝層１０３と、前記緩衝層１０３の裏面に配置された基材層１０４とを有し、前記緩衝層１０３のヤング率が前記パターン層１０２のヤング率よりも小さく、前記基材層１０４のヤング率が前記緩衝層１０３のヤング率よりも大きいことを特徴とするインプリント用スタンパ１０１。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れた離型剤が不要なフィルム又はシート表面成形用の表面が極低表面エネルギーな転写ロール、及びその製造方法、それを用いて製造した表面に微細な凸凹を有するフィルム又はシートを提供する。
【解決手段】少なくとも表面をブラスト加工、あるいはディンプル加工、化学エッチング加工、電解エッチングする工程と、撥水撥油防汚性離型膜５を形成する工程とによるか、もしくは少なくとも表面をブラスト加工あるいはディンプル加工する工程と、化学エッチングあるいは電解エッチングする工程と、撥水撥油防汚性離型膜５を形成する工程とにより、微細な凸凹もしくは複合的に大きな凸凹と小さな凸凹が施された表面を撥水撥油防汚性離型膜５で被覆することにより、離型剤が不要な転写ロール６を提供する。 （もっと読む）