凹凸パターンの形成方法及び凹凸パターンの製造装置
【課題】 電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、光硬化性転写シートの転写層に、載置、押圧して、積層体を形成する工程；スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する中間スタンパを得る工程；中間スタンパの反転凹凸パターンの表面を、光硬化性転写シートの転写層に載置、押圧して、積層体を形成する工程；及び中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。
【解決手段】 微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、光硬化性転写シートの転写層に、載置、押圧して、積層体を形成する工程；スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する中間スタンパを得る工程；中間スタンパの反転凹凸パターンの表面を、光硬化性転写シートの転写層に載置、押圧して、積層体を形成する工程；及び中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイス、光学部品、記録媒体等の製造に有利に使用することができる光硬化性転写シートを用いた凹凸パターンの形成方法及び凹凸パターンの製造装置に関する。
【０００２】
光或いは電子線を用いる微細加工技術の進展はめざましく、光では１００ｎｍ、電子線では１０ｎｍの加工が達成されている。しかしながら、それら微細加工装置は高価なため、より安価な加工技術が求められている。このような目的の沿って、ナノインプリント技術によりシリコン基板等に所望の回路パターン等を形成する方法が確立されつつある。ナノインプリント技術は、従来のプレス技術と比較して、より微小な構造を実現するための微細加工の技術である。この技術自体には解像度に限界がなく、解像度はモールド（即ち金型）の作製精度によって決まる。したがって、モールドさえ作製できれば、従来のフォトリソグラフィーより容易に、且つはるかに安価な装置により、極微細構造を形成することが可能である。
【０００３】
ナノインプリント技術には転写される材料により２種類に大別される。一方は、転写される材料を加熱し、モールド（金型）により塑性変形させた後、冷却してパターンを形成する熱ナノインプリント技術である。もう一方は、基板上に室温で液状の光硬化性樹脂を塗布した後、光透過性のモールドを樹脂に押し当て、光を照射させることで基板上の樹脂を硬化させパターンを形成する光ナノインプリント技術である。特に光ナノインプリント技術は室温にてパターン形成できるため熱による基板、モールド間の線膨張係数差による歪が発生しにくく、高精度のパターン形成が可能であり、半導体等のリソグラフィ技術の代替技術として注目を集めている。
【０００４】
ナノインプリントによりパターン成形を安価に行うことができるが、マザースタンパであるモールド（金型）に樹脂が付着し易く、樹脂が付着した場合、そのモールドを補修することは極めて困難である。しかしながら、モールド（金型）は非常に高価なものであり、製造全体として安価とは言えない場合が多い。
【０００５】
特許文献１（特開２００７−１６５８１２号公報）には、２工程によるインプリント法が開示されている。即ち、第１工程で、マイクロメータ又はナノメータのオーダの微細な凹凸のパターンニングがなされた表面を有するテンプレート（上記マザースタンパの反転したもの）に、サーモプラスティックポリマー等の可塑性ポリマーフォイルの表面と表面が向かい合い接触するように置かれ、インプリント処理により、テンプレート表面のパターンが反転されたものがポリマーフォイルの表面に形成される。そして、第２工程で、得られたポリマースタンパ（中間スタンパ）は表面のパターンは、上記同様な処理において、他の可塑性ポリマーフォイルに第二の反転レプリカ（テンプレートと同一のパターン）が形成される。
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−１６５８１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載の方法では、中間スタンパを用いて成形されるため、マザースタンパ（テンプレート）には深刻な損傷が発生することはない。しかしながら、中間スタンパの作製に熱可塑性ポリマーを使用しているため、幅広く様々なポリマーを使用することができる反面、成形に加熱、冷却という大きなエネルギーが必要となること、そして成形時間が１分以上の長い時間が必要となることとの不利がある。即ち、このような長時間の処理工程は、連続製造する場合、タクト（処理に必要な時間）の短縮が困難となる。
【０００８】
また特許文献１には、中間スタンパ作製時に、光硬化性樹脂を併用する例を記載しているが、光硬化性樹脂は液状物なため、作業性が悪く、また硬化収縮、厚みムラ等も大きいことから、上記タクトの短縮等を含む生産性の向上を図ることができない。
【０００９】
従って、本発明は、電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供することをその目的とする。
【００１０】
また、本発明は、上記凹凸パターンの形成方法に有利に使用することができる凹凸パターンの製造装置を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的は、
下記の工程（１）〜（４）：
（１）表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する光硬化性転写シートの当該転写層に、該スタンパの凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（２）スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する光硬化性転写シート（中間スタンパ）を得る工程；
（３）中間スタンパの微細な反転凹凸パターンの表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する別の光硬化性転写シートの当該転写層に、該中間スタンパの反転凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が反転凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；及び
（４）中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；
を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法；
により達成される。
【００１２】
上記本発明の光硬化性転写シートの好適態様は以下の通りである。
【００１３】
１）工程（１）の載置、押圧と及び（２）の紫外線照射、及び／又は工程（３）の載置、押圧と及び（４）の紫外線照射を、同時に行う。これによりタクト時間の短縮が図れる。
【００１４】
２）工程（１）及び（３）で使用される光硬化性転写層が加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる。
【００１５】
３）少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写層が滑剤を含有する。従って、工程（１）及び（３）で使用される両方の光硬化性転写層が滑剤を含有していても良い（離型性がより向上する）。滑剤としては、リン原子含有化合物又は変性ポリシロキサン、特に（メタ）アクリロイル基含有ポリシロキサンが好ましい。光硬化性組成物が、滑剤を０．０１〜２０質量％含むことが好ましい。
【００１６】
ナノインプリントプロセス法等の微細な凹凸パターンの形成方法においては、上記のように生産性向上、コスト低減のためにタクトを短くすることが重要であるが、スタンパとの剥離（離型）が良好でないと、タクト短縮が困難となる。またスタンパの剥離後に得られる光硬化した転写層を有するシートは、その膜自立性が十分で無く、柔らかすぎて腰がないため、得られたシートの移動、巻き取り等のハンドリング性が十分でないとの問題がある。上記滑剤を用いることにより大幅に改善される。
【００１７】
４）透明フィルムが、表面に易接着層を有するポリマーフィルムである。易接着層が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂及びアクリル樹脂から選択される少なくとも１種からなる。易接着層は転写層とポリマーフィルムとの両方に対する接着性が優れている。上記光硬化性転写シートでは、光硬化性転写層の一方の表面にポリマーフィルムとその上に形成された易接着層とを有する易接着フィルムが、易接着層と転写層の一方の表面が接触するように設けられている。
【００１８】
５）易接着層の厚さが、０．０１〜０．３μｍの範囲にある。
【００１９】
６）ポリマーフィルムがポリエステルフィルム（特にＰＥＴフィルム）である。転写シートに適度な自立性を当てることができる。
【００２０】
７）ポリマーフィルムの厚さ１〜５００μｍの範囲にある。
【００２１】
８）光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む。
【００２２】
９）リン原子含有化合物が、リン酸エステル系化合物である。
【００２３】
１０）リン原子含有化合物が、下記の一般式（Ｉ）：
【００２４】
【化１】
【００２５】
［但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１個は水素原子以外の基を表す。］
で表されるリン酸エステル系化合物である。
【００２６】
１１）リン原子含有化合物が、下記の一般式（II）：
【００２７】
【化２】
【００２８】
［但し、Ｒ4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
Ｒ5が、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−を表し、そして
ｎが１〜２０を表す。］
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物である。
【００２９】
１２）ポリマーのガラス転移温度が８０℃以上である。
【００３０】
１３）光硬化性転写層の３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上である。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすい凹凸形状等のダレ発生を防止することが可能で、転写された凹凸形状等を保持することができる。
【００３１】
１４）光硬化性組成物（一般に光硬化性転写層）のガラス転移温度が２０℃未満である。優れた転写性を得ることができやすい。
【００３２】
１５）さらにポリイソシアネート（ジイソシアネートが好ましい）を含む。光硬化前の後架橋が可能となり、転写前のフィルムの形状保持性が向上する。
【００３３】
１６）ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーが、アクリル樹脂である。
【００３４】
１７）上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％含むアクリル樹脂である。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
【００３５】
１８）上記アクリル樹脂が、重合性官能基を有するアクリル樹脂である。
【００３６】
１９）アクリル樹脂が、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である。
【００３７】
２０）メチルメタクリレートを５０質量％以上有する。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
【００３８】
２１）ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーの数平均分子量が１０００００以上、及び／又は重量平均分子量が１０００００以上である。特に数平均分子量が１０００００〜３０００００、重量平均分子量が１０００００〜３０００００であることが好ましい。この分子量、アクリル樹脂の組成、及び反応性希釈剤の割合を、後述するように好適にすることにより特に優れた転写性と高い硬化速度を得ることができる。上記数平均分子量は、ポリスチレン標準を用いてＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ）により測定する。
【００３９】
２２）光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む。
【００４０】
２３）光硬化性転写層の厚さが１〜３００μｍである。
【００４１】
２４）少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写シートが長尺状である。これにより本発明の凹凸パターンの形成方法を容易に連続的に行うことができる。
【００４２】
本発明は、
長尺状の透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する長尺状の光硬化性転写シートを送り出す送出手段、
送出された長尺状の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面の凹凸パターンが接触するように載置、押圧する第１の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射して転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する長尺状の光硬化性転写シート（中間スタンパ）を形成するための第１の紫外線照射手段、及び
別の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有する中間スタンパを、その微細な反転凹凸パターン面と転写層の表面が接触するように載置、押圧する、第２の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射する第２の紫外線照射手段、
を含む凹凸パターンの製造装置
にもある。
【００４３】
上記装置においても、本発明の凹凸パターンの形成方法における好適態様を適用することができる。
【発明の効果】
【００４４】
光硬化性転写シートを用いる、ナノインプリントプロセス法に従う本発明の微細な凹凸パターンの形成方法においては、マザースタンパと光硬化性転写シートにより作成された中間スタンパを介して最終の微細な凹凸パターンを形成しているので、マザースタンパを損傷するがない上、光硬化性転写シートを使用しているので（作業性に優れ）高い生産性で凹凸パターンの形成を行うことができる。さらに、中間スタンパの作製（工程１，２）、最終の微細な凹凸パターンを形成（工程３，４）を、共に光（紫外線）硬化により行うので、タクト（処理に必要な時間）を短くすることが可能となり、より高い生産性を得ることができ、コスト低減も可能となる。
【００４５】
特に、中間スタンパの作製時の光硬化性転写シートの転写層に滑剤を含有させることにより、中間スタンパからの最終製品の剥離が容易となるとの利点がある。
【００４６】
従って、本発明の凹凸パターンの形成方法により、電子ディスプレイリブ、電子デバイス（リソグラフィ、トランジスタ）、光学部品（マイクロレンズアレイ、導波路、光学フィルタ、フォトニックス結晶）、バイオ関連材料（ＤＮＡチップ、マイクロリアクタ）、記録媒体（パターンドメディア、ＤＶＤ）を有利に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４７】
以下に図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００４８】
図１は本発明の微細な凹凸パターンの形成方法で使用される光硬化性転写シート１０の実施形態の代表例を示す断面図である。光硬化性転写層１１には、一方の表面に、易接着層１２ａを有するポリマーフィルム１２ｂからなる易接着フィルム１２、及び他方の表面に剥離シート１３が設けられている。易接着フィルム１２は、易接着層１２ａにより光硬化性転写層１１に強力に接着されている。従って、易接着層１２ａは、光硬化性転写層１１、硬化後の光硬化性転写層１１及びポリマーフィルム１２ｂと優れた接着性を示す。また、ポリマーフィルム１２ｂにより、光硬化性転写シート１０及び硬化後の光硬化性転写シート１０の膜自立性が付与されている。剥離シート１３は、保護のためのシートで、通常使用時に除去される。剥離シートは、一般に、プラスチックシート上に剥離層が設けられたものであり、剥離層が光硬化性転写層１１の表面と接触するように設けられている。
【００４９】
本発明の光硬化性転写層１１は、スタンパ（一般にマザースタンパ）あるいは中間スタンパの微細凹凸パターン表面を押圧することにより精確に転写できるように、加圧により変形し易い層であるとともに、硬化後においてスタンパの剥離性にも優れた層である。即ち、光硬化性転写層１１は、光硬化性組成物（一般に、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む）からなり、滑剤含んでいることが好ましい。特に、中間スタンパを作成する際の光硬化性転写層の滑剤を含むことが好ましい。これにより、硬化した転写層の表面がスタンパと剥離しやすい状態となるため、硬化した転写層の一部がスタンパに付着することがほとんど無い。また、このような中間スタンパを用いて、最終製品のマザースタンパと同形状の微細凹凸パターン表面を形成する際の、最終製品のシートの剥離も容易となる。最終製品となる光硬化性転写シートの転写層も滑剤を含んでいると、より一層剥離性が向上し、好ましい。
【００５０】
本発明では、光硬化性組成物は、ポリマーとして、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーを含むことが好ましい。これにより、マザースタンパ又は中間スタンパの微細凹凸パターンが容易に転写でき、硬化も高速で行うことができる。また硬化された形状も高いＴｇ有するのでその形状が変わることなく長期に維持され得る。ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーとしては、重合性官能基を有することが、反応性希釈剤と反応が可能となり硬化の高速化に有利である。またヒドロキシル基を有することにより、転写層１１にジイソシアネートを含ませることで、ポリマーを僅かに架橋させることが可能となり、転写層のしみ出し、層厚変動が大きく抑えられた層とするのに特に有利である。ジイソシアネートは、ヒドロキシル基の無いポリマーでもある程度有効である。
【００５１】
次に、上記光硬化性転写シート１０を用いて、本発明の微細凹凸パターンの形成方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。一般にナノインプリントプロセス法もこの微細凹凸パターンの形成方法のように行うことができる。
【００５２】
図２及び図３に、本発明の微細凹凸パターンの形成方法における代表的な実施の形態の概略を描いた断面図を示す。まず光硬化性転写シート１０から、剥離シート１３を除去し、光硬化性転写層１１を露出させる。光硬化性転写層１１は易接着フィルム１２のポリマーフィルム１２ｂ上の易接着層１２ａに接着、固定されている。マザースタンパ１４を、その微細凹凸パターン面が光硬化性転写層１１の表面に対向するように配置する（ａ）。続いて、光硬化性転写層１１上に、マザースタンパ１４を押圧する（ｂ：以上工程（１））。押圧が可能なように、光硬化性転写層１１は必要に応じて加熱される。常温で押圧可能であれば加熱する必要はない。この状態で、光硬化性転写層１１を、光（ＵＶ）照射することにより硬化させる。押圧しながら光照射することがタクトを短縮できるので好ましい。その後、スタンパ１４を硬化した光硬化性転写層１１Ｃから除去する（ｃ：以上工程（２））。このようにして、微細凹凸パターンを光硬化性転写層１１上に形成し、マザースタンパの微細凹凸パターンが反転した中間スタンパを得る。
【００５３】
別の光硬化性転写シートから剥離シートを除去して、露出した光硬化性転写層２１が易接着フィルム２２のポリマーフィルム２２ｂ上の易接着層２２ａに接着、固定された転写シートを用意する。上記で得られた、易接着フィルム１２上に微細凹凸パターン面が形成された光硬化性転写層１１ｃを備えた中間スタンパ２４を、その微細凹凸パターンが光硬化性転写層２１の表面に対向するように配置する（ｄ）。続いて、光硬化性転写層２１上に、中間スタンパ２４を押圧する（ｅ：以上工程（３））。押圧が可能なように、光硬化性転写層２１は必要に応じて加熱される。常温で押圧可能であれば加熱する必要はない。この状態で、光硬化性転写層２１を、光（ＵＶ）照射することにより硬化させる。押圧しながら光照射することがタクトを短縮できるので好ましい。その後、中間スタンパ２４を微細凹凸パターン面が形成され且つ硬化した光硬化性転写層１１Ｃから除去する（ｆ：以上工程（４））。このようにして、微細凹凸パターンを光硬化性転写層２１上に形成し、マザースタンパの微細凹凸パターンと同じパターンを有するシートを得る。一般に、工程（１）〜（４）を繰り返して微細凹凸パターンを有する光硬化性転写層を得るが、中間スタンパを用いて、多数の微細凹凸パターンを有する光硬化性転写層を作成しても良い。即ち、工程（１）及び（２）を行った後、工程（３）及び（４）を繰り返しても良い。
【００５４】
本発明では、マザースタンパ１４の微細凹凸パターンを有する表面に載置される光硬化性転写層１１が滑剤を含み、光硬化性転写層１１の裏面には自立性を付与する易接着フィルム１２が接着されていることが好ましい。これにより、マザースタンパ１４を硬化した光硬化性転写層１１からきわめて容易に除去することができ、かつ、その硬化層の一部がスタンパ側に移ることもない。別の光硬化性転写層２１も滑剤を含み、光硬化性転写層１１の裏面には自立性を付与する易接着フィルム２２が接着されていることが好ましい。中間スタンパ２４を硬化した光硬化性転写層２１からきわめて容易に除去することができる。なお本発明の光硬化性転写シートは、光硬化性転写層を易接着層上に形成した後、少なくとも３０分程度経過した後使用することが好ましい。これにより、光硬化性転写層と易接着層との優れた密着性を確保することができる。
【００５５】
図４に、本発明の微細凹凸パターンの連続形成方法における代表的な実施の形態の概略を描いた断面図を示す。まず送りロール３６ａから、易接着フィルム３２（ポリマーフィルム及びその上の易接着層）に接着、固定された露出した光硬化性転写層３１を有する長尺状の光硬化性転写シート３０（一般に、幅５０〜５００ｍｍ、長さ１００〜２０００ｍ）が送り出され（一般に、搬送速度：０．２〜２ｍ／分）、剥離シート３３が案内ロール３６ｃを介して巻き取りロール３６ｂに巻き取られて除去される。光硬化性転写シート３０は、矢印方向に搬送され、上下に作動するマザースタンパ部３４とＵＶランプ３７を備えたＵＶ透過型圧着部３５の間に来た時、搬送は停止し（一般に、停止時間：１〜５秒）、マザースタンパ部３４が上方に移動しての光硬化性転写シート３０の光硬化性転写層３１を押し上げるが、押し上げられた光硬化性転写層３１の裏面側の易接着フィルム３２はＵＶ透過型圧着部３５で支持されるため、光硬化性転写層３１はマザースタンパ３４で押圧されることになる。押圧後又は押圧と同時にＵＶランプ３７で光照射され光硬化性転写層３１は硬化する。その後スタンパ部３４が下方移動すると共に硬化した易接着フィルム３２付き光硬化性転写層３１ｃは搬送が開始される。硬化した易接着フィルム３２付き光硬化性転写層３１は、マザースタンパの微細凹凸パターンが反転した微細凹凸パターンを有し、中間スタンパ４４として、次工程で使用される。
【００５６】
引き続き、中間スタンパ４４は、矢印方向に搬送され、次の、上下に作動するシート設置台４４とＵＶランプ４７を備えたＵＶ透過型圧着部４５の間に来た時、搬送は停止し（一般に、停止時間：１〜５秒）、シート設置台４４に置かれた別の光硬化性転写層４１を有する光硬化性転写シート４０が押し上げられるが、中間スタンパ４４の裏面側の易接着フィルムはＵＶ透過型圧着部４５で支持されるため、光硬化性転写層４１は中間スタンパ４４で押圧されることになる。押圧後又は押圧と同時にＵＶランプ４７で光照射され光硬化性転写層４１は硬化する。その後シート設置台４４が下方移動すると共に硬化した易接着フィルム４２付き光硬化性転写層４１は離型される。これにより、微細凹凸パターンを光硬化性転写層４１上に形成し、マザースタンパの微細凹凸パターンと同じパターンを有するシートを得る。中間スタンパは、巻き取りロール３６ｄにより巻き取られる。
【００５７】
図４では、光硬化性転写シート４０は、長尺状でなく、枚葉で供給しているが、ロールを用いて長尺状のシートを連続的に供給しても良い。
【００５８】
光硬化性転写シートを、スタンパ又はシート載置台とＵＶ透過型圧着部とで押圧する際、光硬化性転写シートは一般に上記のように一時的に停止するが、スタンパ又はシート載置台とＵＶ透過型圧着部が一緒に移動しも良い。
【００５９】
本発明で使用される透明フィルムは、一般に、易接着フィルム１２、２２であり、易接着フィルム１２、２２はポリマーフィルム１２ｂ、２２ｂ及びその上の易接着層１２ａ、２２ａからなるものである。
【００６０】
本発明において、ポリマーフィルム１２ｂ、２２ｂは、一般にポリエステルフィルムである。このポリエステルは、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。
【００６１】
このようなポリエステルの例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等を挙げることができ、これらの共重合体又はこれと副成分（５０モル％未満）としての他樹脂とのブレンドであってもよい。これらのポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましい。特に、ポリエチレン−２，６−ナフタレートは機械的強度の大きさ、熱収縮率の小ささ、加熱時のオリゴマー発生量の少なさなどの点でポリエチレンテレフタレートに優っており最も好ましい。
【００６２】
ポリエステルは、ホモポリマーでも、第三成分を共重合したコポリマーでもよいが、ホモポリマーが好ましい。ポリエステルがポリエチレンテレフタレートである場合、コポリマーとしてイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートが最適である。このイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートは、イソフタル酸が５モル％以下であることが好ましい。ポリエステルにはイソフタル酸以外の共重合成分または共重合アルコール成分が、その特性を損なわない範囲、例えば全酸成分又は全アルコール成分に対して３モル％以下の割合で、共重合されていてもよい。共重合酸成分の例としては、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１０−デカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等を挙げることができ、またアルコール成分としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族ジオール等を挙げることができる。これらは単独または二種以上を使用することができる。
【００６３】
ポリエステルが、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートである場合、主たるジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸が用いられ、主たるグリコール成分としてエチレングリコールが用いられる。ナフタレンジカルボン酸としては、例えば２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸を挙げることができ、これらの中で２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。ここで「主たる」とは、本発明のフィルムの成分であるポリマーの構成成分において全繰返し単位の少なくとも９０モルｌ％、好ましくは少なくとも９５モル％を意味する。
【００６４】
コポリマーの場合、コポリマーを構成する共重合成分としては、分子内に２つのエステル形成性官能基を有する化合物を用いることができ、このような化合物としては、例えば、蓚酸、アジピン酸、フタル酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、４，４'−ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等の如きジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、或いはプロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ジエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール等の２価アルコールを好ましく用いることができる。
【００６５】
これらの化合物は１種のみ用いてもよく、２種以上を用いることができる。またこれらの中で好ましくは酸成分としては、イソフタル酸、テレフタル酸、４，４'−ジフェニルジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸であり、グリコール成分としてはトリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコールネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物である。
【００６６】
また、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートは、例えば安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの一官能性化合物によって末端の水酸基および／またはカルボキシル基の一部または全部を封鎖したものであってよく、極く少量の例えばグリセリン、ペンタエリスリトール等の如き三官能以上のエステル形成性化合物で実質的に線状のポリマーが得られる範囲内で共重合したものであってもよい。
【００６７】
本発明におけるポリエステルは従来公知の方法で、例えばジカルボン酸とグリコールの反応で直接低重合度ポリエステルを得る方法や、ジカルボン酸の低級アルキルエステルとグリコールとを従来公知のエステル交換触媒である、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ストロンチウム、チタン、ジルコニウム、マンガン、コバルトを含む化合物の一種または二種以上を用いて反応させた後、重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。重合触媒としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモンのようなアンチモン化合物、二酸化ゲルマニウムで代表されるようなゲルマニウム化合物、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラフェニルチタネートまたはこれらの部分加水分解物、蓚酸チタニルアンモニウム、蓚酸チタニルカリウム、チタントリスアセチルアセトネートのようなチタン化合物を用いることができる。
【００６８】
エステル交換反応を経由して重合を行う場合は、重合反応前にエステル交換触媒を失活させる目的でトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ−ｎ−ブチルホスフェート、正リン酸等のリン化合物が通常は添加されるが、リン元素としてのポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート中の含有量が２０〜１００ｐｐｍであることがポリエステルの熱安定性の点から好ましい。
【００６９】
なお、ポリエステルは、溶融重合後これをチップ化し、加熱減圧下または窒素などの不活性気流中において更に固相重合を施してもよい。
【００７０】
本発明においてポリエステルは、エチレンテレフタレート単位またはエチレン−２，６−カルボキシレート単位を９０モル％以上、好ましくは９５％以上、更に好ましくは９７％以上有するポリエステルが好ましい。ポリエステルの固有粘度は０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０〜０．９０ｄｌ／ｇであることが更に好ましい。固有粘度が０．４０ｄｌ／ｇ未満では工程切断が多発することがある。また０．９ｄｌ／ｇより高いと溶融粘度が高いため溶融押出しが困難になり、重合時間が長く不経済であり好ましくない。本発明におけるポリエステルフィルムは、実質的に粒子を含有していない必要がある。粒子を含有していると高透明性が損なわれたり、表面が粗面化してしまう。
【００７１】
本発明におけるポリエステルフィルムは、長手方向の１４０ｇ／ｍｍ2荷重下の２００℃での寸法変化率が−２〜＋２％である必要がある。−２％未満または＋２％を越えると、ポリエステルフィルム上に機能層を積層する際、あるいは積層した後に積層体にひび割れが生じたり、逆にしわが寄ることで積層体が破壊されるなどして充分な機能が発揮できなくなる。１４０ｇ／ｍｍ2荷重下の２００℃での寸法変化率は、より好ましくは−１．５〜＋１．５％、さらに好ましくは−１〜＋１％、特に好ましくは−０．５〜＋０．５％である。本発明の高透明性易接着ポリエステルフィルムは、ヘーズ値が１．５％以下であることが好ましい。さらに好ましいヘーズ値は１．０％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
【００７２】
３次元中心線平均粗さは、両面共に好ましくは０．０００１〜０．０２μｍ、さらに好ましくは、０．０００１〜０．０１５μｍ、さらに好ましくは０．０００１〜０．０１０μｍである。特に、少なくとも片面の３次元中心線平均粗さが０．０００１〜０．００５μｍであると、機能層を積層したときの機能層表面が極めて平坦となるので好ましい。少なくとも片面の最も好ましい表面粗さは、０．０００５〜０．００４μｍである。
【００７３】
本発明における易接着フィルムのポリマーフィルムの厚さは１〜５００μｍであることが好ましく、より好ましくは３〜４００μｍ、更に好ましくは６〜３００μｍ、特に好ましくは１２〜２５０μｍである。
【００７４】
本発明の易接着フィルムのポリエステルフィルムの好ましい製造方法について説明する。なおガラス転位温度をＴｇと略記する。本発明におけるポリエステルフィルムは、ポリエステルをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃で長手方向に１回もしくは２回以上合計の倍率が３倍〜６倍になるよう延伸し、その後Ｔｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃で幅方向に倍率が３〜５倍になるように延伸し、必要に応じて更にＴｍ１８０℃〜２５５℃で１〜６０秒間熱処理を行うことにより得ることができる。
【００７５】
本発明におけるポリエステルフィルム等のポリマーフィルムの少なくとも一方の表面には、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂の１種又は２種以上の混合物の易接着層が設けられることが好ましい。ポリエステル樹脂とアクリル樹脂（好ましくは、オキサゾリン基等の官能基を有するもの）との組合せ（Ａ）、ポリエステル樹脂とポリウレタン樹脂（好ましくは水溶性、水分散性ポリウレタン）の組合せ（Ｂ）が好ましい。
【００７６】
組合せ（Ａ）における、ポリエステル樹脂とオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の易接着層は、以下の構成を有する。
【００７７】
組合せ（Ａ）のポリエステル樹脂は、水（多少の有機溶剤を含有していても良い）に可溶性又は分散性のポリエステルが好ましい。
【００７８】
このようなポリエステル樹脂として、以下の多塩基酸又はそのエステル形成誘導体とポリオール又はそのエステル形成誘導体から得られるポリエステルが好ましい。
【００７９】
上記ポリエステル樹脂の多塩基酸成分としては例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を挙げることができる。これら酸成分が２種以上の共重合ポリエステルであることが好ましい。尚、ポリエステル樹脂には、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分が、或いはＰ−ヒドロキシ安息香酸のようなヒドロキシカルボン酸成分が含まれていてもよい。
【００８０】
ポリエステル樹脂のポリオール成分としては、例えばエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパンや、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコール、あるいはこれらモノマーを挙げることができる。
【００８１】
組合せ（Ａ）のアクリル樹脂は、オキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有することが好ましく、特に水（多少の有機溶剤を含有していても良い）に可溶性又は分散性のアクリル樹脂が好ましい。このようなオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂としては以下に示すようなモノマーを成分として含むものを挙げることができる。
【００８２】
オキサゾリン基を有するモノマーとしては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリンを挙げることができ、これらの１種又は２種以上の混合物を使用することができる。これらの内、２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的に入手しやすく好適である。オキサゾリン基を有するアクリル樹脂を用いることにより塗布層の凝集力が向上し、転写層との密着性がより強固になる。 また、ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付与させたものを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖はポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシド等を挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位は３〜１００であることが好ましい。ポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂を用いることにより、ポリエステル樹脂とアクリル樹脂の相溶性がポリアルキレンオキシド連鎖を含有しないアクリル樹脂と比較して向上し、易接着層の透明性を向上させることができる。なお、ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位が３より少ないとポリエステル樹脂とアクリル樹脂との相溶性が低下して易接着層の透明性も低下し、１００より大きい場合は易接着層の耐湿熱性が不十分となり、高湿度、高温下で転写層との密着性が悪化する。
【００８３】
アクリル樹脂のその他の共重合成分としては、例えば以下のモノマーを挙げることができる。即ち、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシル基又はその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等。
【００８４】
易接着層を形成するポリエステル樹脂の易接着層中の含有割合は５〜９５重量％であることが好ましく、特に５０〜９０重量％であることが好ましい。易接着層を形成するオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の塗布層中の含有割合は５〜９０重量％であることが好ましく、特に１０〜５０重量％であることが好ましい。ポリエステル樹脂が９５重量％を超え、もしくはオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂が５重量％未満になると塗布層の凝集力が低下し、転写層への接着性が不十分となる場合があり、好ましくない。アクリル樹脂が９０重量％を超えるとポリエステルフィルムとの密着性が低下し、転写層への接着性が不十分となる場合があり好ましくない。
【００８５】
上記易接着層中には脂肪族ワックスが０．５〜３０重量％含まれていることが好ましく、１重量％〜１０重量％含まれることが更に好ましい。この割合が０．５重量％より少ないとフィルム表面の滑性が得られないことがあり、好ましくない。３０重量％を超えるとポリマーフィルムへの密着やハードコートや粘着剤等に対する易接着性が十分でない場合があり好ましくない。
【００８６】
上記の脂肪族ワックスの例としては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスバルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス、ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラックワックス等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の鉱物系ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の石油系ワックス、フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリフロピレンワックス等の合成炭化水素系ワックス等を挙げることができる。更に、ハードコートや粘着剤等に対する易接着性と滑性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスがより好ましい。特に環境問題や取扱のし易さから水分散体がより好ましい。
【００８７】
易接着層中には、平均粒子径が０．００５〜０．５μｍの範囲のフィラーを０．１〜２０重量％含ませることが好ましい。塗布層中のフィラーの含有量が０．１重量％より少ないとフィルムの滑り性が不足し、ロール状に巻き取ることが困難になることがあり、２０重量％を超えると塗布層の透明性が不足して、ディスプレイ用途に使用できなくなることがあり好ましくない。
【００８８】
上記のフィラーとしては、例えば炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、ケイ酸ソーダ、水酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化錫、三酸化アンチモン、カーボンブラック、二硫化モリブデン等の無機微粒子、アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、ポリエチレンワックス等の有機微粒子等を挙げることができる。これらのうち、水不溶性の固体物質は、水分散液中で沈降するのを避けるため、比重が３を超えない超微粒子を選ぶことが好ましい。
【００８９】
上記組合せ（Ａ）の易接着層の塗設に用いられる塗布液は、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。塗膜を形成するために、必要に応じて、前記組成物以外の他の樹脂、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。特に、滑剤を添加することで滑性、耐ブロッキング性を更に良好なものにすることができる。
【００９０】
上記塗布液のポリエステルフィルムへの塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステルフィルムの製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステルフィルムに塗布するのが好ましい。ここで、結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向および横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向また横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルムまたは一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸および／または横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
【００９１】
塗布液をフィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
【００９２】
塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独または組合せて用いることができる。尚、塗膜は、必要に応じ、フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
【００９３】
また、本発明の易接着層は、前記のポリエステル樹脂（好ましくは共重合ポリエステル樹脂）とポリウレタン樹脂（好ましくは水溶性、水分散性ポリウレタン）の組合せ（Ｂ）を含むことも好ましい。
【００９４】
上記共重合ポリエステル系樹脂単独では、ポリエステル等のポリマーフィルムとの接着性は十分であるが、転写層との接着性に劣る場合がある。また、ポリウレタン系樹脂単独では転写層とのとの接着性には優れるがポリエステル等のポリマーフィルムとの接着性に劣る場合がある。
【００９５】
上記共重合ポリエステル系樹脂は、ジカルボン酸成分と分岐したグリコール成分を構成成分とする。前記の分岐したグリコール成分としては、例えば、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−ｎ−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、及び２，２−ジ−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオールを挙げることができる。
【００９６】
上記の分岐したグリコール成分は、全グリコール成分の中に、好ましくは１０モル％以上の割合で、さらに好ましくは２０モル％以上の割合で含まれる。上記化合物以外のグリコール成分としては、エチレンリコールが最も好ましい。少量であれば、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオールまたは１，４−シクロヘキサンジメタノールなどを用いても良い。
【００９７】
共重合ポリエステル系樹脂に構成成分として含有される、ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸及びイソフタル酸が最も好ましい。少量であれば他のジカルボン酸、特に、ジフェニルカルボン酸及び２，６−ナルタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸を加えて共重合させてもよい。前記ジカルボン酸成分の他に、水分散性を付与させるため、５−スルホイソフタル酸を１〜１０モル％の範囲で使用するのが好ましく、例えば、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホナフタレンイソフタル酸−２，７−ジカルボン酸及び５−（４−スルフォフェノキシ）イソフタル酸及びその塩類等を挙げることができる。
【００９８】
組合せ（Ｂ）で使用されるポリウレタン樹脂は、例えば、ブロック型イソシアネート基を含有する樹脂であり、末端イソシアネート基を親水性基で封鎖（以下ブロックと言う）した、熱反応型の水溶性ウレタン等を挙げることができる。上記イソシアネート基のブロック化剤としては、重亜硫酸塩類及びスルホン酸基を含有したフェノール類、アルコール類、ラクタム類オキシム類及び活性メチレン化合物類等を挙げることができる。ブロック化されたイソシアネート基はウレタンプレポリマーを親水化あるいは水溶化する。フィルム製造時の乾燥あるいは熱セット過程で、上記樹脂に熱エネルギーが与えられると、ブロック化剤がイソシアネート基からはずれるため、上記樹脂は自己架橋した編み目に混合した水分散性共重合ポリエステル樹脂を固定化するとともに、上記樹脂の末端基等とも反応する。塗布液調整中の樹脂は親水性であるため耐水性が劣るが、塗布、乾燥、熱セットして熱反応が完了すると、ウレタン樹脂の親水基、即ちブロック化剤がはずれるため、耐水性が良好な塗膜が得られる。
【００９９】
上記ブロック化剤の内、熱処理温度、熱処理時間が適当で、工業的に広く用いられるものとして、重亜硫酸塩類が最も好ましい。上記ポリウレタン樹脂において使用される、ウレタンプレポリマーの化学組成としては、（１）分子内に２個以上の活性水素原子を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは分子内に少なくとも２個の活性水素原子を有する分子量が２００〜２０，０００の化合物、（２）分子内に２個以上のイソシアネート基を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは（３）分子内に少なくとも２個活性水素原子を有する鎖伸長剤を反応させて得られる末端イソシアネート基を有する化合物である。
【０１００】
上記（１）の化合物として一般に知られているものは、末端又は分子中に２個以上のヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基あるいはメルカプト基を含むものであり、特に好ましい化合物としては、ポリエーテルポリオールおよびポリエーテルエステルポリオール等を挙げることができる。 ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキシド、及びプロピレンオキシド等のアルキレンオキシド類、或いはスチレンオキシドおよびエピクロルヒドリン等を重合した化合物、あるいはそれらのランダム重合、ブロック重合或いは多価アルコールへの付加重合により得られる化合物がある。
【０１０１】
ポリエステルポリオール及びポリエーテルエステルポリオールは、一般に直鎖状あるいは分岐状である。コハク酸、アジピン酸、フタル酸及び無水マレイン酸等の多価の飽和或いは不飽和カルボン酸、或いはこのカルボン酸無水物等と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール及びトリメチロールプロパン等の多価の飽和及び不飽和のアルコール類、比較的低分子量のポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコール等のポリアルキレンエーテルグリコール類、或いはそれらアルコール類の混合物とを縮合させることにより得ることができる。
【０１０２】
さらにポリエステルポリオールとしては、ラクトン及びヒドロキシ酸から得られるポリエステル類、またポリエーテルエステルポリオールとしては、あらかじめ製造されたポリエステル類にエチレンオキシド或いはプロピレンオキシド等を付加させたポリエーテルエステル類も使用することができる。
【０１０３】
上記（２）の有機ポリイソシアネートとしては、トルイレンジイソシアネートの異性体類、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、キシリレンジイソシアネート等の芳香族脂肪族ジイソシアネート類、イソホロンジイソシアネート及び４，４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート、及び２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類、或いはこれらの化合物を単一又は複数でトリメチロールプロパン等とあらかじめ付加させたポリイソシアネート類を挙げることができる。
【０１０４】
上記（３）の少なくとも２個の活性水素を有する鎖伸長剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、及び１，６−ヘキサンジオール等のグリコール類、グリセリン、トリメチロールプロパン、及びペンタエリスリトール等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、及びピペラジン等のジアミン類、モノエタノールアミン及びジエタノールアミン等のアミノアルコール類、チオジエチレングルコール等のチオジグリコール類、或いは水を挙げることができる。
【０１０５】
ウレタンプレポリマーを合成するには通常、上記鎖伸長剤を用いた一段式あるいは多段式イソシアネート重付加方法により、１５０℃以下、好ましくは７０〜１２０℃の温度において、５分ないし数時間反応させる。活性水素原子に対するイソシアネート基の比は、１以上であれば自由に選べるが、得られるウレタンプレポリマー中に遊離のイソシアネート基が残存することが必要である。さらに、遊離のイソシアネート基の含有量は１０重量％以下であればよいが、ブロック化された後のウレタンポリマー水溶液の安定性を考慮すると、７重量％以下であるのが好ましい。
【０１０６】
得られた上記ウレタンプレポリマーは、好ましくは重亜硫酸塩を用いてブロック化を行う。重亜硫酸塩水溶液と混合し、約５分〜１時間、よく攪拌しながら反応を進行させる。反応温度は６０℃以下とするのが好ましい。その後、水で希釈して適当な濃度にして、熱反応型水溶性ウレタン組成物とする。該組成物は使用する際、適当な濃度及び粘度に調製するが、通常８０〜２００℃前後に加熱すると、ブロック剤の重亜硫酸塩が解離し、活性なイソシアネート基が再生するために、プレポリマーの分子内あるいは分子間で起こる重付加反応によってポリウレタン重合体が生成したり、また他の官能基への付加を起こす性質を有するようになる。
【０１０７】
上記に説明したブロック型イソシアネート基を含有する樹脂の１例としては、第一工業製薬（株）製の商品名エラストロンが代表的に例示される。エラストロンは、重亜硫酸ソーダによってイソシアネート基をブロックしたものであり、分子末端に強力な親水性を有するカルバモイルスルホネート基が存在するため、水溶性となっている。
【０１０８】
上記組合せ（Ｂ）で使用される、分岐したグリコール成分を含有する共重合ポリエステル樹脂（ａ）及びブロック型イソシアネート基を含有する樹脂（ｂ）を混合して塗布液を調製する場合、樹脂（ａ）と樹脂（ｂ）の重量比は（ａ）：（ｂ）＝９０：１０〜１０：９０が好ましく、更に好ましくは（ａ）：（ｂ）＝８０：２０〜２０：８０の範囲である。固形分重量に対する上記樹脂（ａ）の割合が１０重量％未満では、ポリマーフィルムへの塗布性が不良で、表面層とフィルムとの間の接着性が不十分となる。固形分重量に対する上記樹脂（ｂ）の割合が１０重量％未満の場合には、転写層に対して実用性のある接着性が得られない。
【０１０９】
上記組合せ（Ｂ）の塗布液は、水性塗布液であることが好ましい。この塗布液を前記のポリマーフィルム表面に塗布する際には、フィルムへの濡れ性を改善させ、塗布液を均一にコートするために、公知のアニオン性活性剤およびノニオン性の界面活性剤を必要量添加して用いることができる。塗布液に用いる溶剤は、水の他にエタノール、イソプロピルアルコール及びベンジルアルコール等のアルコール類を、全塗布液に占める割合が５０重量％未満となるまで混合してもよい。さらに、１０重量％未満であれば、アルコール類以外の有機溶剤を溶解可能な範囲で混合してもよい。ただし、塗布液中、アルコール類とその他の有機溶剤との合計は、５０重量％未満とする。
【０１１０】
有機溶剤の添加量が５０重量％未満であれば、塗布乾燥時に乾燥性が向上するとともに、水のみの場合と比較して塗布膜の外観向上の効果がある。５０重量％以上では、溶剤の蒸発速度が速く塗工中に塗布液の濃度変化が起こり、粘度が上昇して塗工性が低下するために、塗布膜の外観不良を起こす恐れがあり、さらには火災などの危険性も考えられる。
【０１１１】
本発明の易接着層の厚さは、０．０１〜０．３μｍの範囲、特に０．０２〜０．２μｍの範囲あることが好ましい。
【０１１２】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、上記本発明の易接着フィルム上に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有するものである。
【０１１３】
本発明の上記光硬化性組成物は、一般に、ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上のポリマー）、光重合性官能基（一般に炭素炭素２重結合基、好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。さらに、滑剤を含むことが好ましい。
【０１１４】
特に、中間スタンパの作成で使用される光硬化性転写層は滑剤を含有することが好ましい。滑剤としては、リン原子含有化合物、又は変性ポリシロキサンを含むポリシロキサンを挙げることができる。変性ポリシロキサンが好ましく、特に（メタ）アクリロイル基含有ポリシロキサンが好ましい。（メタ）アクリロイル基はポリアルキレンオキシドを介してポリシロキサンに結合していても良い。
【０１１５】
ナノインプリントプロセス法等の微細な凹凸パターンの形成方法においては、上記のように生産性向上、コスト低減のためにタクトを短くすることが重要であるが、スタンパとの剥離が良好でないと、タクト短縮が困難となる。またスタンパの剥離後に得られる光硬化した転写層を有するシートは、その膜自立性が十分で無く、柔らかすぎて腰がないため、得られたシートの移動、巻き取り等のハンドリング性が十分でないとの問題がある。上記滑剤を用いることにより大幅に改善される。
【０１１６】
ポリシロキサンの例としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、メチルハイドロジェンシリコーンを挙げることができる。また、変性ポリシロキサンの例としては、上記ポリシロキサンの、側鎖、両末端又は片末端に官能基を有する物であり、その官能基の例としては、アミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基を挙げることができる。変性ポリシロキサンが好ましく、特にアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基変性ポリシロキサンが好ましい。また（メタ）アクリロイル基はポリアルキレンオキシドを介してポリシロキサンに結合していても良い。
【０１１７】
滑剤としてポリシロキサン又は変性ポリシロキサンを用いる場合、それは、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．１〜２０質量％、特に０．５〜１５質量％の範囲で含まれている。２０質量％より多い場合は、透明フィルムへの接着性が低下し、０．１質量％より少ない場合は、スタンパ等からの剥離性が十分に良好とは言えない。
【０１１８】
滑剤としてリン原子含有化合物も好ましい。リン原子含有化合物としては、例えば、リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物及びリン酸アルキルエステル化合物等のリン酸アルキルエステル系化合物、リン酸塩及びリン酸アミド等を挙げることができる。
【０１１９】
リン酸アルキルエステル化合物としては、例えば、リン酸トリアルキルエステル（例、トリオクチルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリスクロロエチルホスフェート）、リン酸トリアリールエステル（例、トリクレジルホスフェート、トリトリルホスフェート）等を挙げることができる。リン酸塩としては、例えば、リン酸のナトリウム塩（例、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、ピロリン酸四ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム）を挙げることができる。またリン酸アミドとしては、例えば、トリス（エチレンイミノ）リン酸アミド、トリス（メチルエチレンイミノ）リン酸アミド、ヘキサメチルリン酸アミド等を挙げることができる。さらにリン脂質界面活性剤（例えばレシチン）、リンの塩素化合物（例、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン）等を挙げることができる。
【０１２０】
本発明のリン原子含有化合物としては、リン酸アルキルエステル系化合物、特にリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物或いはリン酸エステル型陰イオン界面活性剤が好ましい。
【０１２１】
上記リン酸アルキルエステル系化合物としては、下記の一般式（Ｉ）：
【０１２２】
【化３】
【０１２３】
［但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１個は水素原子以外の基を表す。］
で表される化合物を使用することが好ましい。
【０１２４】
上記一般式（Ｉ）において、アルキル基としては、一般に炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、アリール基としては一般にフェニル基であり、アルキルアリール基としては一般に炭素原子数１〜３のアルキル基を有するフェニル基であり、アリールアルキル基としては、一般にフェニルアルキル基（アルキル基は炭素原子数１〜３アルキル基）であり、アルキルポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数５〜２０のアルキルポリオキシエチレン基又は炭素原子数７〜２０のアルキルポリオキシプロピレン基であり、アリールポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数１０〜３０のアルキルフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数１２〜３０のアルキルフェニルポリオキシプロピレン基、或いは炭素原子数９〜３０のフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数１１〜３０のフェニルポリオキシプロピレン基である。置換基としては、ハロゲン（特に塩素、臭素）、アルキルアンモニウム塩（特に−Ｎ+（ＣＨ3）3）、ビニル基を挙げることができる。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが水素原子以外の基をであることが好ましく、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが同一であることが特に好ましい。
【０１２５】
上記リン酸アルキルエステル系化合物（Ｉ）は、特に下記の一般式（II）：
【０１２６】
【化４】
【０１２７】
［但し、Ｒ4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
Ｒ5が、 −ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−を表し、そして
ｎが１〜２０を表す。］
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物であることが好ましい。
【０１２８】
Ｒ4において、アルキル基としては炭素原子数１〜２０のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、セチル）、特に炭素原子数４〜１８のアルキル基が好ましく、アリール基としてはフェニル基が好ましく、アルキルアリール基としては炭素原子数１〜３のアルキル基を有するフェニル基（特にメチルフェニル）が好ましく、アリールアルキル基としてはフェニルアルキル基（特にアルキル基は炭素原子数１〜３のアルキル基）が好ましい。置換基としては、ハロゲン（特に塩素、臭素）を挙げることができるが、有しないことが好ましい。
【０１２９】
またＲ5は−ＣＨ2ＣＨ2−が好ましい。ｎは、１〜１０、特に２〜５が好ましい。
【０１３０】
上記一般式(II)で表されるリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物は、商品名：ＬＴＰ−２（川研ファインケミカル（株）製）、商品名：Ｎ３Ａ及びＮ１０Ａ（クローダジャパン（株）製）が市場で入手可能であり、好ましい。上記Ｎ３Ａは、式(II)におけるＲ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：３である化合物、上記Ｎ１０Ａは、式（II）におけるＲ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：１０である化合物である。
【０１３１】
滑剤としてリン原子含有化合物を用いる場合、それは、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．０１〜１質量％、特に０．０１〜０．５質量％、中でも０．０２〜０．２質量％の範囲で含まれている。１質量％より多い場合は、透明フィルムへの接着性が低下し、０．０１質量％より少ない場合は、スタンパ等からの剥離性が十分に良好とは言えない。
【０１３２】
本発明の光硬化性組成物の一般的な構成要件である光重合性官能基を有する反応性希釈剤としては、例えば、（メタ）アクリルモノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、
グリセリンジアクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレートメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；
ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と、有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。
【０１３３】
前記ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）としては、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、ビニルアセテート／（メタ）アクリレート共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン及びその共重合体、ポリ塩化ビニル及びその共重合体、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、２−クロロブタジエン−１，３−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン／ブタジエン／スチレン共重合体、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、セルロースエステル、セルロースエーテル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等を挙げることができる。
【０１３４】
本発明では、良好な転写性及び優れた硬化性の点から、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、前述したように、重合性官能基を有するアクリル樹脂又はヒドロキシル基を有するアクリル樹脂であることが特に好ましい。またアクリル樹脂は、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％（特に６０〜９０質量％）含むことが、Ｔｇ８０℃以上のアクリル樹脂を得られやすく、また良好な転写性、高速硬化性も得られやすく好ましい。このような官能基を有するアクリル樹脂として、例えばＰＯＲＥＡＳ−７（大阪有機化学工業（株）製）を用いることが好ましい。
【０１３５】
上記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、一般に重合性官能基を有するアクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル（メタ）アクリレートとの共重合体で、且つ該グリシジル基に重合性官能基を有するカルボン酸が反応したもの、或いはメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、重合性官能基を有するカルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸基にグリシジル（メタ）アクリレートが反応したものである。
メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル（メタ）アクリレートとの共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に５０質量％以上（特に６０〜９０質量％）含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが好ましい。またこのような（メタ）アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜３０質量％、特に１０〜３０質量％含まれることが好ましい。グリシジル（メタ）アクリレート又は重合性官能基を有するカルボン酸は、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜２５質量％、特に５〜２０質量％含まれることが好ましい。得られた共重合体のグリシジル基又はカルボン酸基に、それぞれ重合性官能基を有するカルボン酸又はグリシジル（メタ）アクリレートを反応させる。
【０１３６】
上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂は、一般にメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種との共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に５０質量％以上（特に６０〜９０質量％）含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが好ましい。またこのような（メタ）アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜３０質量％、特に１０〜３０質量％含まれることが好ましい。アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートを挙げることができ、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜２５質量％、特に５〜２０質量％含まれることが好ましい。
【０１３７】
前記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、例えば、以下のように製造することができる。
【０１３８】
１種又は複数種の（メタ）アクリルモノマー（好ましくは上述の、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル基を１個かつ重合性官能基を１個有する化合物（好ましくはグリシジル（メタ）アクリレート）或いは重合性官能基を有するカルボン酸とを、ラジカル重合開始剤と有機溶剤の存在下で溶液重合法などの公知の方法にて反応させて共重合体であるグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）又はカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）を得る。（メタ）アクリルモノマー等のモノマー類の配合割合はグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）又はカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）の固形分換算合計量に対して１０〜４５質量％とすることが好ましい。
【０１３９】
次いで得られたグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）に重合性官能基を有するカルボン酸を加え、或いは得られたカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）にグリシジル基を１個かつ重合性官能基を１個有する化合物（好ましくはグリシジルメタクリレート）を加え、必要に応じ加熱することによりアクリル系光硬化型樹脂（Ａ）又はアクリル系光硬化型樹脂（Ｂ）を得る。この配合比は、グリシジル基とカルボキシル基のモル比が１／０．９〜１／１となるように配合するのが好ましく、より好ましくは１／１である。グリシジル基過剰では長期安定性において増粘、ゲル化のおそれがあり、カルボキシル基過剰では皮膚刺激性が上がり作業性が低下する。さらに１／１の場合は残存グリシジル基がなくなり、貯蔵安定性が顕著に良好になる。反応は塩基性触媒、リン系触媒などの存在下で公知の方法にて行うことができる。
【０１４０】
上記ＯＨ又は重合性官能基を有するアクリル樹脂を含み、本発明で用いることができるアクリル樹脂を構成する主成分として使用することができる（メタ）アクリル系モノマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルを挙げることができる。アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルの例として、メチル（メタ）アクリレート（（メタ）アクリレートとはアクリレート及びメタクリレートを示す。以下同様）、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート、２−メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルコキシアルキル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシ（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレート、ピレノキシド付加物（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。さらに不飽和基を含有する芳香族化合物（例、スチレン）も使用しても良い。
【０１４１】
本発明では、前述のように、アクリル系モノマーの主成分としては、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種を使用することが好ましい。
【０１４２】
本発明のポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）は、数平均分子量が１０００００以上、特に１０００００〜３０００００、そして重量平均分子量が１０００００で以上、特に１０００００〜３０００００であることが好ましい。
【０１４３】
さらに本発明では、ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）として、ヒドロキシル基等の活性水素を有する官能基及び光重合性官能基の両方を有するポリマーも使用することができる。このような反応性ポリマーとしては、例えば、主として前記アクリル系モノマーから得られる単独重合体又は共重合体（即ちアクリル樹脂）で、且つ、主鎖又は側鎖に光重合性官能基及び活性水素を有する官能基を有するものである。従って、このような反応性ポリマーは、例えば、メチルメタクリレートと、前記１種以上の（メタ）アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アクリレート（例、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。その際、ヒドロキシル基が残るようにイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートの量を調節して使用することにより、活性水素を有する官能基としてヒドロキシル基及び光重合性官能基を有するポリマーが得られる。
【０１４４】
或いは上記において、ヒドロキシル基の代わりにアミノ基を有する（メタ）アクリレート（例、２−アミノエチル（メタ）アクリレート）を用いることにより活性水素を有する官能基としてアミノ基を有する、光重合性官能基含有ポリマーを得ることができる。同様に、活性水素を有する官能基としてカルボキシル基等を有する、光重合性官能基含有ポリマーも得ることができる。
【０１４５】
本発明では、前記光重合性官能基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂も好ましい。
【０１４６】
上記光重合性官能基を有するポリマーは、光重合性官能基を一般に１〜５０モル％、特に５〜３０モル％含むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
【０１４７】
本発明の光硬化性組成物中に添加され得るジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げることができる。またトリメチロールプロパンのＴＤＩ付加体等の３官能以上のイソシアネート化合物等のポリイソシアネートシアネートも使用することができる。これらの中でトリメチロールプロパンのヘキサメチレンジイソシアネート付加体が好ましい。
【０１４８】
本発明のジイソシアネートは、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．２〜４質量％、特に０．２〜２質量％の範囲で含まれていることが好ましい。転写層のしみ出しを防止するために適当な架橋がもたらされると共に、スタンパ等の金型の凹凸の良好な転写性も維持される。上記化合物とポリマーとの反応は、転写層形成後、徐々に進行し、常温（一般に２５℃）、２４時間でかなり反応している。転写層形成用の塗布液を調製した後、塗布するまでの間にも反応は進行するものと考えられる。転写層を形成後、ロール状態で巻き取る前にある程度硬化させることが好ましいので、必要に応じて、転写層を形成時、或いはその後、ロール状態で巻き取る前の間に加熱して反応を促進させても良い。
【０１４９】
本発明の光硬化性組成物は、上述のように、一般に、特定の滑剤、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマー、光重合性官能基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。ポリマーと反応性希釈剤との質量比は、２０：８０〜８０：２０、特に３０：７０〜７０：３０の範囲が好ましい。
【０１５０】
本発明の光硬化性転写層の周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率は、２５℃において１×１０7Ｐａ以下であることが好ましく、特に１×１０4〜６×１０5Ｐａの範囲であることが好ましい。また８０℃において８×１０4Ｐａ以下であることが好ましく、特に１×１０4〜５×１０5Ｐａの範囲であることが好ましい。これにより、精確で迅速な転写が可能となる。さらに、本発明の光硬化性転写層は、ガラス転移温度を２０℃以下であることが好ましい。これにより、得られる光硬化性転写層がスタンパ等の金型の凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃、さらに０℃〜−４０℃の範囲にすることにより追随性がたものとなる。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な硬度が得られなくなる。
【０１５１】
また上記光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上となるように設計されていることが好ましい。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすいピット形状等のダレ発生を防止することが容易で、転写されたピット形状等を保持することができる。本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、主として、上記好ましいポリマー、以下の反応性希釈剤を使用することにより有利に得ることができる。
【０１５２】
光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系又は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。光硬化性組成物（不揮発分）中に、光重合開始剤を一般に０．１〜２０質量％、特に１〜１０質量％含むことが好ましい。
【０１５３】
光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１など、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンッゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなどが使用できる。
【０１５４】
アセトフェノン系重合開始剤としては、特に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。また、第３級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。
【０１５５】
本発明では、上記光重合性官能基を有する反応性希釈剤及び光重合開始剤に加えて、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤を添加することが好ましい。
【０１５６】
他の添加剤として、シランカップリング剤（接着促進剤）を添加することができる。このシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。これらシランカップリング剤の添加量は、上記ポリマー（固形分）１００質量部に対し通常０．０１〜５質量部で十分である。
【０１５７】
また同様に接着性を向上させる目的でエポキシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基含有化合物としては、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート；ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル；アクリルグリシジルエーテル；２−エチルヘキシルグリシジルエーテル；フェニルグリシジルエーテル；フェノールグリシジルエーテル；ｐ−ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル；アジピン酸ジグリシジルエステル；ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル；グリシジルメタクリレート；ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを添加することによっても同様の効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量は上記ポリマー（固形分）１００質量部に対し０．１〜２０質量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくとも１種を単独で又は混合して添加することができる。
【０１５８】
さらに他の添加剤として、加工性や貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。
【０１５９】
上記炭化水素樹脂等の樹脂の添加量は適宜選択されるが、上記ポリマー（固形分）１００質量部に対して１〜２０質量部が好ましく、より好ましくは５〜１５質量部である。
【０１６０】
以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲル、炭酸カルシウム、シリコーン共重合体の微粒子等の添加剤を少量含んでもよい。
【０１６１】
本発明で使用される光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートは、本発明のリン原子含有化合物、ポリマー（好ましくはＴｇ８０℃以上）、光重合性官能基を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、所望によりジイソシアネートシアネート及び、所望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることができる。一般に易接着フィルムの易接着層に上に製膜する。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により易接着層上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する方法である。
【０１６２】
また、光硬化性転写シートの厚さは１〜１２００μｍ、特に５〜５００μｍとすることが好ましい。特に５〜３００μｍ（好ましくは１５０μｍ以下）が好ましい。１μｍより薄いと封止性が劣り、一方、１０００μｍより厚いと得られる成形体の厚みが増し、成形体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがある。
【０１６３】
光硬化性転写層の厚さは、１〜３００μｍ、特に３〜１００μｍが好ましい。
【０１６４】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、一般に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層と、易接着性フィルムの無いもう一方の側の表面に剥離シートとを有する。
【０１６５】
剥離シートは、一般にプラスチックフィルム上に、シリコーン等の表面張力の低い剥離層を有する。例えば、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる剥離層、或いは不飽和２重結合基（好ましくはビニル基）を有するポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）と水素化ポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）から形成される剥離層等を挙げることができる。
【０１６６】
剥離シートのプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂フィルムを用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートのフィルムが好適に用いることができ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１６７】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、一般に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層とその一方の表面に易接着フィルム及び他方の表面に剥離シートを有するものであり、この場合、この光硬化性転写シートはアニール処理されていることが好ましい。即ち、アニール処理した光硬化性転写シートを用いて、凹凸パターンの形成に用いることが好ましい。アニール処理は、転写シートを３０〜１００℃、特に４０〜７０℃の温度で、１時間〜３０日間、特に１０時間〜１０日間に亘って保管することにより行うことが好ましい。転写シートは、一般にロール状態（巻かれた状態）でアニール処理することが好ましい。このようなアニール処理により、剥離シートの剥離層の剥離を促進する成分（離型成分）が、光硬化性転写層への移行が進み、スタンパの除去が容易になると考えられる。
【０１６８】
本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に制御したフィルム状で提供することができるため、スタンパ等の金型との貼り合わせを容易にかつ精度良くおこなうことが可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で２０〜１００℃で仮圧着した後、光により常温、１〜数十秒で硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングができるという特徴を有している。
【０１６９】
本発明の光硬化性転写シートを硬化する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、０．１秒〜数十秒程度、好ましくは０．５〜数秒である。紫外線照射量は、３００ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましい。
【０１７０】
また、硬化促進のために、予め積層体を３０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。
【０１７１】
以下に実施例を示し、本発明についてさらに詳述する。
【実施例】
【０１７２】
［実施例１］
＜光硬化性転写シートの作製＞
（ヒドロキシル基を有するポリマーＡの作製）
ポリマー配合Ａ
メチルメタクリレート ７４．６質量部
ｎ−ブチルメタクリレート １３．２質量部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート １２．１質量部
ＡＩＢＮ ５質量部
トルエン ５０質量部
酢酸エチル ５０質量部
【０１７３】
上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、７０℃に加熱して重合を開始させ、この温度で８時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するヒドロキシル基を有するポリマー１（アクリル樹脂）を得た。固形分を３６質量％に調製した（ポリマー溶液Ａ）。
【０１７４】
得られたポリマーＡは、Ｔｇが７３℃であり、重量平均分子量が１１００００であった。
【０１７５】
組成物配合Ａ
ヒドロキシル基を有するポリマー溶液Ａ（固形分） １００質量部
ヘキサンジオールジアクリレート １００質量部
（ＳＲ２３８Ｆ；サートマー（株）製）
トリメチロールプロパントリアクリレート １０質量部
（ＴＭＰ−Ａ；共栄社化学（株）製）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート １０質量部
（Ｇ−２０１Ｐ；共栄社化学（株）製）
ジイソシアネート（BXX5627、東洋インキ製造（株）製） １．５質量部
イルガキュア６５１（チバスペシャルティケミカルズ社製） ２．０質量部
ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ、
川口化学工業（株）製） ０．０５質量部
【０１７６】
上記配合Ａの混合物を均一に溶解、混練し、易接着フィルム（商品名ＨＰＥ、帝人デュポンフィルム（株）製；幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ７５μｍ）上に、全面塗布し、乾燥厚さ２５μｍの光硬化性転写層を形成し、シートの反対側に剥離シート（商品名Ａ３１、帝人デュポンフィルム（株）製；幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ５０μｍ）を貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのフルエッジタイプのロール（直径２６０ｍｍ）を得た。光硬化性転写層のＴｇは、−２５℃であった。
【０１７７】
上記易接着フィルムはＰＥＴフィルム（７５μｍ）上に易接着層（ポリエステル／アクリル樹脂混合物、層厚０．２μｍ）からなるものである。
【０１７８】
［実施例２］
実施例１において、組成物配合Ａにさらにリン酸エステル（商品名：ＬＴＰ−２；川研ファインケミカル（株）製）を０．１質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１７９】
［実施例３］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにリン酸エステル（商品名：ＣＲＯＤＡＦＯＳ Ｎ３Ａ；クローダジャパン（株）製）を０．１質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１８０】
［実施例４］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにリン酸エステル（商品名：ＣＲＯＤＡＦＯＳ Ｎ１０Ａ；クローダジャパン（株）製）を０．１質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１８１】
［実施例５］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにアクリル変性ポリシロキサン（商品名：Ｘ２２−１６０２；固形分１００質量％、信越化学工業（株）製）を１０質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１８２】
［実施例６］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにアクリル変性ポリシロキサン（商品名：ＢＹＫ−ＵＶ３５００；固形分９７質量％、ビックケミー・ジャパン（株）製）を１０質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
（１）光硬化性転写シートの評価
（１−１）ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定
得られた光硬化性転写シートから両側の剥離シートを除去し、長さ２０ｍｍ、幅４ｍｍ（厚さ２５μｍ）に裁断してサンプルとした。
【０１８３】
サンプルのＴｇを、ＴＭＡ (Thermal Mechanical Analysis) 装置ＳＳ６１００(SIIナノテクノロジー（株）製)を用いて、サンプル温度：３０〜１２０℃、昇温レート：５℃／分、引張張力：４．９×１０5Ｐａの条件で測定した。
【０１８４】
以上の条件で試験を行うと、図４に示すグラフが得られ、安定領域の接線と伸び領域の最大傾斜からの接線との交点をガラス転移温度とした。
【０１８５】
（２）微細凹凸パターンの作製及び評価
（２−１）微細凹凸パターンの作製
図４に示す装置を用いて微細凹凸パターンの作製を行った。
【０１８６】
まずマザースタンパとして、ニッケル板にレジスト（ＰＡＫ−１、東洋合成（株）製）を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形状（マイクロパターン：深さ１０μｍ、高さ１０μｍのリブ形状、及びナノパターン２：深さ５０ｎｍ、高さ５０ｎｍのリブ形状）を形成し、マザースタンパを得た。
【０１８７】
実施例で得られた光硬化性転写シートの一方の表面の剥離シートを除去し、図４に示す装置に導入し（搬送速度：１．０ｍ／分）、上下に作動するマザースタンパ部とＵＶ透過型圧着部に送り、停止し（停止時間２秒）、微細凹凸面を有する５０℃に温調された上記のニッケル製のマザースタンパ（マザースタンパ部）を押し上げることによりその凹凸面とシート表面とが接触してマザースタンパで光硬化性転写シートを押圧し、同時に易接着フィルム側から、ＵＶ透過型圧着部で保持するとともに、その内部のメタルハライドランプ（６００ｍＷ／ｃｍ）を用いて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件でＵＶ照射した。これにより、ニッケル製のスタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した転写層を硬化させ、中間スタンパを作製した。
【０１８８】
次いで、中間スタンパは、次の、上下に作動するシート設置台とＵＶ透過型圧着部に送り、停止し（停止時間２秒）、中間スタンパがシート設置台に来た時、シート設置台に置かれた前記と同じ新たな光硬化性転写シートを押し上げると共に、光硬化性転写シートとともに押し上げられた中間スタンパの裏面側の易接着フィルムはＵＶ透過型圧着部で支持される。これにより、光硬化性転写層４１は中間スタンパ４４で押圧され、同時に易接着フィルム側から、メタルハライドランプ（６００ｍＷ／ｃｍ）を用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件でＵＶ照射した。これにより、ニッケル製のスタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した転写層を硬化させ、前記マザースタンパのパターンを有するシートを作製した。
【０１８９】
［比較例１］
熱可塑性樹脂として、上記マザースタンパから、ゼオノアノフィルム（ＺＦ−１４；
オプテス（株）製）を用いて、１９０℃加熱（１０分）、１３０℃への冷却（３分）の条件で、中間スタンパを作製し、次いで、同様にして、前記マザースタンパのパターンを有するシートを作製した。
【０１９０】
［比較例２］
比較例１において、熱可塑性樹脂としてＰＣフィルム（ピュアエース；帝人化成（株）製））を用いた以外は同様にして、前記マザースタンパのパターンを有するシートを作製した。
（２−２）中間スタンパの凹凸パターンの評価
（ｉ）マイクロパターンについて、マザースタンパの形状と中間スタンパの形状を顕微鏡を用いて評価した、
◎： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に全く差が認められない
○： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状にほとんど差が認められない
△： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に若干の差が認められる
×： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に明らかに差が認められる。
【０１９１】
(ii)ナノパターンについて、マザースタンパの形状と中間スタンパの形状を透過型電子顕微鏡を用いて評価した、
◎： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に全く差が認められない
○： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状にほとんど差が認められない
△： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に若干の差が認められる
×： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に明らかに差が認められる。
（２−３）凹凸パターン作成の所要時間
各ＵＶ透過型圧着部での停止時間を測定し、タクトとした。
【０１９２】
【表１】
【０１９３】
本発明の方法（実施例１〜６）は、比較例１及び２の従来の熱可塑性樹脂を用いて微細凹凸パターンを作成した場合に比べて、タクト時間を大幅に短縮できる上、得られるパターンもマザースタンパのパターンと同じまたほぼ同じであり、従来のものより優れていた。
【図面の簡単な説明】
【０１９４】
【図１】本発明に従う光硬化性転写シートの実施形態の代表例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に従う微細凹凸パターンの形成方法の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明に従う微細凹凸パターンの形成方法の一例を示す概略断面図である（図２の続き）。
【図４】本発明に従う微細凹凸パターンの連続形成方法の一例を示す概略断面図である。
【図５】ガラス転移温度（Ｔｇ）の決定に用いられるグラフである。
【符号の説明】
【０１９５】
１１、２１ 光硬化性転写層
１２、２２ 易接着フィルム
１２ａ、２２ａ 易接着層
１２ｂ、２２ｂ ポリマーフィルム
１３ 剥離シート
１４、２４ スタンパ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイス、光学部品、記録媒体等の製造に有利に使用することができる光硬化性転写シートを用いた凹凸パターンの形成方法及び凹凸パターンの製造装置に関する。
【０００２】
光或いは電子線を用いる微細加工技術の進展はめざましく、光では１００ｎｍ、電子線では１０ｎｍの加工が達成されている。しかしながら、それら微細加工装置は高価なため、より安価な加工技術が求められている。このような目的の沿って、ナノインプリント技術によりシリコン基板等に所望の回路パターン等を形成する方法が確立されつつある。ナノインプリント技術は、従来のプレス技術と比較して、より微小な構造を実現するための微細加工の技術である。この技術自体には解像度に限界がなく、解像度はモールド（即ち金型）の作製精度によって決まる。したがって、モールドさえ作製できれば、従来のフォトリソグラフィーより容易に、且つはるかに安価な装置により、極微細構造を形成することが可能である。
【０００３】
ナノインプリント技術には転写される材料により２種類に大別される。一方は、転写される材料を加熱し、モールド（金型）により塑性変形させた後、冷却してパターンを形成する熱ナノインプリント技術である。もう一方は、基板上に室温で液状の光硬化性樹脂を塗布した後、光透過性のモールドを樹脂に押し当て、光を照射させることで基板上の樹脂を硬化させパターンを形成する光ナノインプリント技術である。特に光ナノインプリント技術は室温にてパターン形成できるため熱による基板、モールド間の線膨張係数差による歪が発生しにくく、高精度のパターン形成が可能であり、半導体等のリソグラフィ技術の代替技術として注目を集めている。
【０００４】
ナノインプリントによりパターン成形を安価に行うことができるが、マザースタンパであるモールド（金型）に樹脂が付着し易く、樹脂が付着した場合、そのモールドを補修することは極めて困難である。しかしながら、モールド（金型）は非常に高価なものであり、製造全体として安価とは言えない場合が多い。
【０００５】
特許文献１（特開２００７−１６５８１２号公報）には、２工程によるインプリント法が開示されている。即ち、第１工程で、マイクロメータ又はナノメータのオーダの微細な凹凸のパターンニングがなされた表面を有するテンプレート（上記マザースタンパの反転したもの）に、サーモプラスティックポリマー等の可塑性ポリマーフォイルの表面と表面が向かい合い接触するように置かれ、インプリント処理により、テンプレート表面のパターンが反転されたものがポリマーフォイルの表面に形成される。そして、第２工程で、得られたポリマースタンパ（中間スタンパ）は表面のパターンは、上記同様な処理において、他の可塑性ポリマーフォイルに第二の反転レプリカ（テンプレートと同一のパターン）が形成される。
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−１６５８１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載の方法では、中間スタンパを用いて成形されるため、マザースタンパ（テンプレート）には深刻な損傷が発生することはない。しかしながら、中間スタンパの作製に熱可塑性ポリマーを使用しているため、幅広く様々なポリマーを使用することができる反面、成形に加熱、冷却という大きなエネルギーが必要となること、そして成形時間が１分以上の長い時間が必要となることとの不利がある。即ち、このような長時間の処理工程は、連続製造する場合、タクト（処理に必要な時間）の短縮が困難となる。
【０００８】
また特許文献１には、中間スタンパ作製時に、光硬化性樹脂を併用する例を記載しているが、光硬化性樹脂は液状物なため、作業性が悪く、また硬化収縮、厚みムラ等も大きいことから、上記タクトの短縮等を含む生産性の向上を図ることができない。
【０００９】
従って、本発明は、電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供することをその目的とする。
【００１０】
また、本発明は、上記凹凸パターンの形成方法に有利に使用することができる凹凸パターンの製造装置を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的は、
下記の工程（１）〜（４）：
（１）表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する光硬化性転写シートの当該転写層に、該スタンパの凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（２）スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する光硬化性転写シート（中間スタンパ）を得る工程；
（３）中間スタンパの微細な反転凹凸パターンの表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する別の光硬化性転写シートの当該転写層に、該中間スタンパの反転凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が反転凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；及び
（４）中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；
を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法；
により達成される。
【００１２】
上記本発明の光硬化性転写シートの好適態様は以下の通りである。
【００１３】
１）工程（１）の載置、押圧と及び（２）の紫外線照射、及び／又は工程（３）の載置、押圧と及び（４）の紫外線照射を、同時に行う。これによりタクト時間の短縮が図れる。
【００１４】
２）工程（１）及び（３）で使用される光硬化性転写層が加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる。
【００１５】
３）少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写層が滑剤を含有する。従って、工程（１）及び（３）で使用される両方の光硬化性転写層が滑剤を含有していても良い（離型性がより向上する）。滑剤としては、リン原子含有化合物又は変性ポリシロキサン、特に（メタ）アクリロイル基含有ポリシロキサンが好ましい。光硬化性組成物が、滑剤を０．０１〜２０質量％含むことが好ましい。
【００１６】
ナノインプリントプロセス法等の微細な凹凸パターンの形成方法においては、上記のように生産性向上、コスト低減のためにタクトを短くすることが重要であるが、スタンパとの剥離（離型）が良好でないと、タクト短縮が困難となる。またスタンパの剥離後に得られる光硬化した転写層を有するシートは、その膜自立性が十分で無く、柔らかすぎて腰がないため、得られたシートの移動、巻き取り等のハンドリング性が十分でないとの問題がある。上記滑剤を用いることにより大幅に改善される。
【００１７】
４）透明フィルムが、表面に易接着層を有するポリマーフィルムである。易接着層が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂及びアクリル樹脂から選択される少なくとも１種からなる。易接着層は転写層とポリマーフィルムとの両方に対する接着性が優れている。上記光硬化性転写シートでは、光硬化性転写層の一方の表面にポリマーフィルムとその上に形成された易接着層とを有する易接着フィルムが、易接着層と転写層の一方の表面が接触するように設けられている。
【００１８】
５）易接着層の厚さが、０．０１〜０．３μｍの範囲にある。
【００１９】
６）ポリマーフィルムがポリエステルフィルム（特にＰＥＴフィルム）である。転写シートに適度な自立性を当てることができる。
【００２０】
７）ポリマーフィルムの厚さ１〜５００μｍの範囲にある。
【００２１】
８）光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む。
【００２２】
９）リン原子含有化合物が、リン酸エステル系化合物である。
【００２３】
１０）リン原子含有化合物が、下記の一般式（Ｉ）：
【００２４】
【化１】
【００２５】
［但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１個は水素原子以外の基を表す。］
で表されるリン酸エステル系化合物である。
【００２６】
１１）リン原子含有化合物が、下記の一般式（II）：
【００２７】
【化２】
【００２８】
［但し、Ｒ4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
Ｒ5が、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−を表し、そして
ｎが１〜２０を表す。］
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物である。
【００２９】
１２）ポリマーのガラス転移温度が８０℃以上である。
【００３０】
１３）光硬化性転写層の３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上である。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすい凹凸形状等のダレ発生を防止することが可能で、転写された凹凸形状等を保持することができる。
【００３１】
１４）光硬化性組成物（一般に光硬化性転写層）のガラス転移温度が２０℃未満である。優れた転写性を得ることができやすい。
【００３２】
１５）さらにポリイソシアネート（ジイソシアネートが好ましい）を含む。光硬化前の後架橋が可能となり、転写前のフィルムの形状保持性が向上する。
【００３３】
１６）ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーが、アクリル樹脂である。
【００３４】
１７）上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％含むアクリル樹脂である。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
【００３５】
１８）上記アクリル樹脂が、重合性官能基を有するアクリル樹脂である。
【００３６】
１９）アクリル樹脂が、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である。
【００３７】
２０）メチルメタクリレートを５０質量％以上有する。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
【００３８】
２１）ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーの数平均分子量が１０００００以上、及び／又は重量平均分子量が１０００００以上である。特に数平均分子量が１０００００〜３０００００、重量平均分子量が１０００００〜３０００００であることが好ましい。この分子量、アクリル樹脂の組成、及び反応性希釈剤の割合を、後述するように好適にすることにより特に優れた転写性と高い硬化速度を得ることができる。上記数平均分子量は、ポリスチレン標準を用いてＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ）により測定する。
【００３９】
２２）光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む。
【００４０】
２３）光硬化性転写層の厚さが１〜３００μｍである。
【００４１】
２４）少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写シートが長尺状である。これにより本発明の凹凸パターンの形成方法を容易に連続的に行うことができる。
【００４２】
本発明は、
長尺状の透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する長尺状の光硬化性転写シートを送り出す送出手段、
送出された長尺状の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面の凹凸パターンが接触するように載置、押圧する第１の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射して転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する長尺状の光硬化性転写シート（中間スタンパ）を形成するための第１の紫外線照射手段、及び
別の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有する中間スタンパを、その微細な反転凹凸パターン面と転写層の表面が接触するように載置、押圧する、第２の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射する第２の紫外線照射手段、
を含む凹凸パターンの製造装置
にもある。
【００４３】
上記装置においても、本発明の凹凸パターンの形成方法における好適態様を適用することができる。
【発明の効果】
【００４４】
光硬化性転写シートを用いる、ナノインプリントプロセス法に従う本発明の微細な凹凸パターンの形成方法においては、マザースタンパと光硬化性転写シートにより作成された中間スタンパを介して最終の微細な凹凸パターンを形成しているので、マザースタンパを損傷するがない上、光硬化性転写シートを使用しているので（作業性に優れ）高い生産性で凹凸パターンの形成を行うことができる。さらに、中間スタンパの作製（工程１，２）、最終の微細な凹凸パターンを形成（工程３，４）を、共に光（紫外線）硬化により行うので、タクト（処理に必要な時間）を短くすることが可能となり、より高い生産性を得ることができ、コスト低減も可能となる。
【００４５】
特に、中間スタンパの作製時の光硬化性転写シートの転写層に滑剤を含有させることにより、中間スタンパからの最終製品の剥離が容易となるとの利点がある。
【００４６】
従って、本発明の凹凸パターンの形成方法により、電子ディスプレイリブ、電子デバイス（リソグラフィ、トランジスタ）、光学部品（マイクロレンズアレイ、導波路、光学フィルタ、フォトニックス結晶）、バイオ関連材料（ＤＮＡチップ、マイクロリアクタ）、記録媒体（パターンドメディア、ＤＶＤ）を有利に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４７】
以下に図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００４８】
図１は本発明の微細な凹凸パターンの形成方法で使用される光硬化性転写シート１０の実施形態の代表例を示す断面図である。光硬化性転写層１１には、一方の表面に、易接着層１２ａを有するポリマーフィルム１２ｂからなる易接着フィルム１２、及び他方の表面に剥離シート１３が設けられている。易接着フィルム１２は、易接着層１２ａにより光硬化性転写層１１に強力に接着されている。従って、易接着層１２ａは、光硬化性転写層１１、硬化後の光硬化性転写層１１及びポリマーフィルム１２ｂと優れた接着性を示す。また、ポリマーフィルム１２ｂにより、光硬化性転写シート１０及び硬化後の光硬化性転写シート１０の膜自立性が付与されている。剥離シート１３は、保護のためのシートで、通常使用時に除去される。剥離シートは、一般に、プラスチックシート上に剥離層が設けられたものであり、剥離層が光硬化性転写層１１の表面と接触するように設けられている。
【００４９】
本発明の光硬化性転写層１１は、スタンパ（一般にマザースタンパ）あるいは中間スタンパの微細凹凸パターン表面を押圧することにより精確に転写できるように、加圧により変形し易い層であるとともに、硬化後においてスタンパの剥離性にも優れた層である。即ち、光硬化性転写層１１は、光硬化性組成物（一般に、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む）からなり、滑剤含んでいることが好ましい。特に、中間スタンパを作成する際の光硬化性転写層の滑剤を含むことが好ましい。これにより、硬化した転写層の表面がスタンパと剥離しやすい状態となるため、硬化した転写層の一部がスタンパに付着することがほとんど無い。また、このような中間スタンパを用いて、最終製品のマザースタンパと同形状の微細凹凸パターン表面を形成する際の、最終製品のシートの剥離も容易となる。最終製品となる光硬化性転写シートの転写層も滑剤を含んでいると、より一層剥離性が向上し、好ましい。
【００５０】
本発明では、光硬化性組成物は、ポリマーとして、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーを含むことが好ましい。これにより、マザースタンパ又は中間スタンパの微細凹凸パターンが容易に転写でき、硬化も高速で行うことができる。また硬化された形状も高いＴｇ有するのでその形状が変わることなく長期に維持され得る。ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーとしては、重合性官能基を有することが、反応性希釈剤と反応が可能となり硬化の高速化に有利である。またヒドロキシル基を有することにより、転写層１１にジイソシアネートを含ませることで、ポリマーを僅かに架橋させることが可能となり、転写層のしみ出し、層厚変動が大きく抑えられた層とするのに特に有利である。ジイソシアネートは、ヒドロキシル基の無いポリマーでもある程度有効である。
【００５１】
次に、上記光硬化性転写シート１０を用いて、本発明の微細凹凸パターンの形成方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。一般にナノインプリントプロセス法もこの微細凹凸パターンの形成方法のように行うことができる。
【００５２】
図２及び図３に、本発明の微細凹凸パターンの形成方法における代表的な実施の形態の概略を描いた断面図を示す。まず光硬化性転写シート１０から、剥離シート１３を除去し、光硬化性転写層１１を露出させる。光硬化性転写層１１は易接着フィルム１２のポリマーフィルム１２ｂ上の易接着層１２ａに接着、固定されている。マザースタンパ１４を、その微細凹凸パターン面が光硬化性転写層１１の表面に対向するように配置する（ａ）。続いて、光硬化性転写層１１上に、マザースタンパ１４を押圧する（ｂ：以上工程（１））。押圧が可能なように、光硬化性転写層１１は必要に応じて加熱される。常温で押圧可能であれば加熱する必要はない。この状態で、光硬化性転写層１１を、光（ＵＶ）照射することにより硬化させる。押圧しながら光照射することがタクトを短縮できるので好ましい。その後、スタンパ１４を硬化した光硬化性転写層１１Ｃから除去する（ｃ：以上工程（２））。このようにして、微細凹凸パターンを光硬化性転写層１１上に形成し、マザースタンパの微細凹凸パターンが反転した中間スタンパを得る。
【００５３】
別の光硬化性転写シートから剥離シートを除去して、露出した光硬化性転写層２１が易接着フィルム２２のポリマーフィルム２２ｂ上の易接着層２２ａに接着、固定された転写シートを用意する。上記で得られた、易接着フィルム１２上に微細凹凸パターン面が形成された光硬化性転写層１１ｃを備えた中間スタンパ２４を、その微細凹凸パターンが光硬化性転写層２１の表面に対向するように配置する（ｄ）。続いて、光硬化性転写層２１上に、中間スタンパ２４を押圧する（ｅ：以上工程（３））。押圧が可能なように、光硬化性転写層２１は必要に応じて加熱される。常温で押圧可能であれば加熱する必要はない。この状態で、光硬化性転写層２１を、光（ＵＶ）照射することにより硬化させる。押圧しながら光照射することがタクトを短縮できるので好ましい。その後、中間スタンパ２４を微細凹凸パターン面が形成され且つ硬化した光硬化性転写層１１Ｃから除去する（ｆ：以上工程（４））。このようにして、微細凹凸パターンを光硬化性転写層２１上に形成し、マザースタンパの微細凹凸パターンと同じパターンを有するシートを得る。一般に、工程（１）〜（４）を繰り返して微細凹凸パターンを有する光硬化性転写層を得るが、中間スタンパを用いて、多数の微細凹凸パターンを有する光硬化性転写層を作成しても良い。即ち、工程（１）及び（２）を行った後、工程（３）及び（４）を繰り返しても良い。
【００５４】
本発明では、マザースタンパ１４の微細凹凸パターンを有する表面に載置される光硬化性転写層１１が滑剤を含み、光硬化性転写層１１の裏面には自立性を付与する易接着フィルム１２が接着されていることが好ましい。これにより、マザースタンパ１４を硬化した光硬化性転写層１１からきわめて容易に除去することができ、かつ、その硬化層の一部がスタンパ側に移ることもない。別の光硬化性転写層２１も滑剤を含み、光硬化性転写層１１の裏面には自立性を付与する易接着フィルム２２が接着されていることが好ましい。中間スタンパ２４を硬化した光硬化性転写層２１からきわめて容易に除去することができる。なお本発明の光硬化性転写シートは、光硬化性転写層を易接着層上に形成した後、少なくとも３０分程度経過した後使用することが好ましい。これにより、光硬化性転写層と易接着層との優れた密着性を確保することができる。
【００５５】
図４に、本発明の微細凹凸パターンの連続形成方法における代表的な実施の形態の概略を描いた断面図を示す。まず送りロール３６ａから、易接着フィルム３２（ポリマーフィルム及びその上の易接着層）に接着、固定された露出した光硬化性転写層３１を有する長尺状の光硬化性転写シート３０（一般に、幅５０〜５００ｍｍ、長さ１００〜２０００ｍ）が送り出され（一般に、搬送速度：０．２〜２ｍ／分）、剥離シート３３が案内ロール３６ｃを介して巻き取りロール３６ｂに巻き取られて除去される。光硬化性転写シート３０は、矢印方向に搬送され、上下に作動するマザースタンパ部３４とＵＶランプ３７を備えたＵＶ透過型圧着部３５の間に来た時、搬送は停止し（一般に、停止時間：１〜５秒）、マザースタンパ部３４が上方に移動しての光硬化性転写シート３０の光硬化性転写層３１を押し上げるが、押し上げられた光硬化性転写層３１の裏面側の易接着フィルム３２はＵＶ透過型圧着部３５で支持されるため、光硬化性転写層３１はマザースタンパ３４で押圧されることになる。押圧後又は押圧と同時にＵＶランプ３７で光照射され光硬化性転写層３１は硬化する。その後スタンパ部３４が下方移動すると共に硬化した易接着フィルム３２付き光硬化性転写層３１ｃは搬送が開始される。硬化した易接着フィルム３２付き光硬化性転写層３１は、マザースタンパの微細凹凸パターンが反転した微細凹凸パターンを有し、中間スタンパ４４として、次工程で使用される。
【００５６】
引き続き、中間スタンパ４４は、矢印方向に搬送され、次の、上下に作動するシート設置台４４とＵＶランプ４７を備えたＵＶ透過型圧着部４５の間に来た時、搬送は停止し（一般に、停止時間：１〜５秒）、シート設置台４４に置かれた別の光硬化性転写層４１を有する光硬化性転写シート４０が押し上げられるが、中間スタンパ４４の裏面側の易接着フィルムはＵＶ透過型圧着部４５で支持されるため、光硬化性転写層４１は中間スタンパ４４で押圧されることになる。押圧後又は押圧と同時にＵＶランプ４７で光照射され光硬化性転写層４１は硬化する。その後シート設置台４４が下方移動すると共に硬化した易接着フィルム４２付き光硬化性転写層４１は離型される。これにより、微細凹凸パターンを光硬化性転写層４１上に形成し、マザースタンパの微細凹凸パターンと同じパターンを有するシートを得る。中間スタンパは、巻き取りロール３６ｄにより巻き取られる。
【００５７】
図４では、光硬化性転写シート４０は、長尺状でなく、枚葉で供給しているが、ロールを用いて長尺状のシートを連続的に供給しても良い。
【００５８】
光硬化性転写シートを、スタンパ又はシート載置台とＵＶ透過型圧着部とで押圧する際、光硬化性転写シートは一般に上記のように一時的に停止するが、スタンパ又はシート載置台とＵＶ透過型圧着部が一緒に移動しも良い。
【００５９】
本発明で使用される透明フィルムは、一般に、易接着フィルム１２、２２であり、易接着フィルム１２、２２はポリマーフィルム１２ｂ、２２ｂ及びその上の易接着層１２ａ、２２ａからなるものである。
【００６０】
本発明において、ポリマーフィルム１２ｂ、２２ｂは、一般にポリエステルフィルムである。このポリエステルは、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。
【００６１】
このようなポリエステルの例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等を挙げることができ、これらの共重合体又はこれと副成分（５０モル％未満）としての他樹脂とのブレンドであってもよい。これらのポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましい。特に、ポリエチレン−２，６−ナフタレートは機械的強度の大きさ、熱収縮率の小ささ、加熱時のオリゴマー発生量の少なさなどの点でポリエチレンテレフタレートに優っており最も好ましい。
【００６２】
ポリエステルは、ホモポリマーでも、第三成分を共重合したコポリマーでもよいが、ホモポリマーが好ましい。ポリエステルがポリエチレンテレフタレートである場合、コポリマーとしてイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートが最適である。このイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートは、イソフタル酸が５モル％以下であることが好ましい。ポリエステルにはイソフタル酸以外の共重合成分または共重合アルコール成分が、その特性を損なわない範囲、例えば全酸成分又は全アルコール成分に対して３モル％以下の割合で、共重合されていてもよい。共重合酸成分の例としては、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１０−デカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等を挙げることができ、またアルコール成分としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族ジオール等を挙げることができる。これらは単独または二種以上を使用することができる。
【００６３】
ポリエステルが、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートである場合、主たるジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸が用いられ、主たるグリコール成分としてエチレングリコールが用いられる。ナフタレンジカルボン酸としては、例えば２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸を挙げることができ、これらの中で２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。ここで「主たる」とは、本発明のフィルムの成分であるポリマーの構成成分において全繰返し単位の少なくとも９０モルｌ％、好ましくは少なくとも９５モル％を意味する。
【００６４】
コポリマーの場合、コポリマーを構成する共重合成分としては、分子内に２つのエステル形成性官能基を有する化合物を用いることができ、このような化合物としては、例えば、蓚酸、アジピン酸、フタル酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、４，４'−ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等の如きジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、或いはプロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ジエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール等の２価アルコールを好ましく用いることができる。
【００６５】
これらの化合物は１種のみ用いてもよく、２種以上を用いることができる。またこれらの中で好ましくは酸成分としては、イソフタル酸、テレフタル酸、４，４'−ジフェニルジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸であり、グリコール成分としてはトリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコールネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物である。
【００６６】
また、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートは、例えば安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの一官能性化合物によって末端の水酸基および／またはカルボキシル基の一部または全部を封鎖したものであってよく、極く少量の例えばグリセリン、ペンタエリスリトール等の如き三官能以上のエステル形成性化合物で実質的に線状のポリマーが得られる範囲内で共重合したものであってもよい。
【００６７】
本発明におけるポリエステルは従来公知の方法で、例えばジカルボン酸とグリコールの反応で直接低重合度ポリエステルを得る方法や、ジカルボン酸の低級アルキルエステルとグリコールとを従来公知のエステル交換触媒である、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ストロンチウム、チタン、ジルコニウム、マンガン、コバルトを含む化合物の一種または二種以上を用いて反応させた後、重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。重合触媒としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモンのようなアンチモン化合物、二酸化ゲルマニウムで代表されるようなゲルマニウム化合物、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラフェニルチタネートまたはこれらの部分加水分解物、蓚酸チタニルアンモニウム、蓚酸チタニルカリウム、チタントリスアセチルアセトネートのようなチタン化合物を用いることができる。
【００６８】
エステル交換反応を経由して重合を行う場合は、重合反応前にエステル交換触媒を失活させる目的でトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ−ｎ−ブチルホスフェート、正リン酸等のリン化合物が通常は添加されるが、リン元素としてのポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート中の含有量が２０〜１００ｐｐｍであることがポリエステルの熱安定性の点から好ましい。
【００６９】
なお、ポリエステルは、溶融重合後これをチップ化し、加熱減圧下または窒素などの不活性気流中において更に固相重合を施してもよい。
【００７０】
本発明においてポリエステルは、エチレンテレフタレート単位またはエチレン−２，６−カルボキシレート単位を９０モル％以上、好ましくは９５％以上、更に好ましくは９７％以上有するポリエステルが好ましい。ポリエステルの固有粘度は０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０〜０．９０ｄｌ／ｇであることが更に好ましい。固有粘度が０．４０ｄｌ／ｇ未満では工程切断が多発することがある。また０．９ｄｌ／ｇより高いと溶融粘度が高いため溶融押出しが困難になり、重合時間が長く不経済であり好ましくない。本発明におけるポリエステルフィルムは、実質的に粒子を含有していない必要がある。粒子を含有していると高透明性が損なわれたり、表面が粗面化してしまう。
【００７１】
本発明におけるポリエステルフィルムは、長手方向の１４０ｇ／ｍｍ2荷重下の２００℃での寸法変化率が−２〜＋２％である必要がある。−２％未満または＋２％を越えると、ポリエステルフィルム上に機能層を積層する際、あるいは積層した後に積層体にひび割れが生じたり、逆にしわが寄ることで積層体が破壊されるなどして充分な機能が発揮できなくなる。１４０ｇ／ｍｍ2荷重下の２００℃での寸法変化率は、より好ましくは−１．５〜＋１．５％、さらに好ましくは−１〜＋１％、特に好ましくは−０．５〜＋０．５％である。本発明の高透明性易接着ポリエステルフィルムは、ヘーズ値が１．５％以下であることが好ましい。さらに好ましいヘーズ値は１．０％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
【００７２】
３次元中心線平均粗さは、両面共に好ましくは０．０００１〜０．０２μｍ、さらに好ましくは、０．０００１〜０．０１５μｍ、さらに好ましくは０．０００１〜０．０１０μｍである。特に、少なくとも片面の３次元中心線平均粗さが０．０００１〜０．００５μｍであると、機能層を積層したときの機能層表面が極めて平坦となるので好ましい。少なくとも片面の最も好ましい表面粗さは、０．０００５〜０．００４μｍである。
【００７３】
本発明における易接着フィルムのポリマーフィルムの厚さは１〜５００μｍであることが好ましく、より好ましくは３〜４００μｍ、更に好ましくは６〜３００μｍ、特に好ましくは１２〜２５０μｍである。
【００７４】
本発明の易接着フィルムのポリエステルフィルムの好ましい製造方法について説明する。なおガラス転位温度をＴｇと略記する。本発明におけるポリエステルフィルムは、ポリエステルをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃で長手方向に１回もしくは２回以上合計の倍率が３倍〜６倍になるよう延伸し、その後Ｔｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃で幅方向に倍率が３〜５倍になるように延伸し、必要に応じて更にＴｍ１８０℃〜２５５℃で１〜６０秒間熱処理を行うことにより得ることができる。
【００７５】
本発明におけるポリエステルフィルム等のポリマーフィルムの少なくとも一方の表面には、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂の１種又は２種以上の混合物の易接着層が設けられることが好ましい。ポリエステル樹脂とアクリル樹脂（好ましくは、オキサゾリン基等の官能基を有するもの）との組合せ（Ａ）、ポリエステル樹脂とポリウレタン樹脂（好ましくは水溶性、水分散性ポリウレタン）の組合せ（Ｂ）が好ましい。
【００７６】
組合せ（Ａ）における、ポリエステル樹脂とオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の易接着層は、以下の構成を有する。
【００７７】
組合せ（Ａ）のポリエステル樹脂は、水（多少の有機溶剤を含有していても良い）に可溶性又は分散性のポリエステルが好ましい。
【００７８】
このようなポリエステル樹脂として、以下の多塩基酸又はそのエステル形成誘導体とポリオール又はそのエステル形成誘導体から得られるポリエステルが好ましい。
【００７９】
上記ポリエステル樹脂の多塩基酸成分としては例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を挙げることができる。これら酸成分が２種以上の共重合ポリエステルであることが好ましい。尚、ポリエステル樹脂には、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分が、或いはＰ−ヒドロキシ安息香酸のようなヒドロキシカルボン酸成分が含まれていてもよい。
【００８０】
ポリエステル樹脂のポリオール成分としては、例えばエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパンや、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコール、あるいはこれらモノマーを挙げることができる。
【００８１】
組合せ（Ａ）のアクリル樹脂は、オキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有することが好ましく、特に水（多少の有機溶剤を含有していても良い）に可溶性又は分散性のアクリル樹脂が好ましい。このようなオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂としては以下に示すようなモノマーを成分として含むものを挙げることができる。
【００８２】
オキサゾリン基を有するモノマーとしては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリンを挙げることができ、これらの１種又は２種以上の混合物を使用することができる。これらの内、２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的に入手しやすく好適である。オキサゾリン基を有するアクリル樹脂を用いることにより塗布層の凝集力が向上し、転写層との密着性がより強固になる。 また、ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付与させたものを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖はポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシド等を挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位は３〜１００であることが好ましい。ポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂を用いることにより、ポリエステル樹脂とアクリル樹脂の相溶性がポリアルキレンオキシド連鎖を含有しないアクリル樹脂と比較して向上し、易接着層の透明性を向上させることができる。なお、ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位が３より少ないとポリエステル樹脂とアクリル樹脂との相溶性が低下して易接着層の透明性も低下し、１００より大きい場合は易接着層の耐湿熱性が不十分となり、高湿度、高温下で転写層との密着性が悪化する。
【００８３】
アクリル樹脂のその他の共重合成分としては、例えば以下のモノマーを挙げることができる。即ち、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシル基又はその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等。
【００８４】
易接着層を形成するポリエステル樹脂の易接着層中の含有割合は５〜９５重量％であることが好ましく、特に５０〜９０重量％であることが好ましい。易接着層を形成するオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の塗布層中の含有割合は５〜９０重量％であることが好ましく、特に１０〜５０重量％であることが好ましい。ポリエステル樹脂が９５重量％を超え、もしくはオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂が５重量％未満になると塗布層の凝集力が低下し、転写層への接着性が不十分となる場合があり、好ましくない。アクリル樹脂が９０重量％を超えるとポリエステルフィルムとの密着性が低下し、転写層への接着性が不十分となる場合があり好ましくない。
【００８５】
上記易接着層中には脂肪族ワックスが０．５〜３０重量％含まれていることが好ましく、１重量％〜１０重量％含まれることが更に好ましい。この割合が０．５重量％より少ないとフィルム表面の滑性が得られないことがあり、好ましくない。３０重量％を超えるとポリマーフィルムへの密着やハードコートや粘着剤等に対する易接着性が十分でない場合があり好ましくない。
【００８６】
上記の脂肪族ワックスの例としては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスバルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス、ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラックワックス等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の鉱物系ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の石油系ワックス、フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリフロピレンワックス等の合成炭化水素系ワックス等を挙げることができる。更に、ハードコートや粘着剤等に対する易接着性と滑性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスがより好ましい。特に環境問題や取扱のし易さから水分散体がより好ましい。
【００８７】
易接着層中には、平均粒子径が０．００５〜０．５μｍの範囲のフィラーを０．１〜２０重量％含ませることが好ましい。塗布層中のフィラーの含有量が０．１重量％より少ないとフィルムの滑り性が不足し、ロール状に巻き取ることが困難になることがあり、２０重量％を超えると塗布層の透明性が不足して、ディスプレイ用途に使用できなくなることがあり好ましくない。
【００８８】
上記のフィラーとしては、例えば炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、ケイ酸ソーダ、水酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化錫、三酸化アンチモン、カーボンブラック、二硫化モリブデン等の無機微粒子、アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、ポリエチレンワックス等の有機微粒子等を挙げることができる。これらのうち、水不溶性の固体物質は、水分散液中で沈降するのを避けるため、比重が３を超えない超微粒子を選ぶことが好ましい。
【００８９】
上記組合せ（Ａ）の易接着層の塗設に用いられる塗布液は、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。塗膜を形成するために、必要に応じて、前記組成物以外の他の樹脂、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。特に、滑剤を添加することで滑性、耐ブロッキング性を更に良好なものにすることができる。
【００９０】
上記塗布液のポリエステルフィルムへの塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステルフィルムの製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステルフィルムに塗布するのが好ましい。ここで、結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向および横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向また横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルムまたは一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸および／または横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
【００９１】
塗布液をフィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
【００９２】
塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独または組合せて用いることができる。尚、塗膜は、必要に応じ、フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
【００９３】
また、本発明の易接着層は、前記のポリエステル樹脂（好ましくは共重合ポリエステル樹脂）とポリウレタン樹脂（好ましくは水溶性、水分散性ポリウレタン）の組合せ（Ｂ）を含むことも好ましい。
【００９４】
上記共重合ポリエステル系樹脂単独では、ポリエステル等のポリマーフィルムとの接着性は十分であるが、転写層との接着性に劣る場合がある。また、ポリウレタン系樹脂単独では転写層とのとの接着性には優れるがポリエステル等のポリマーフィルムとの接着性に劣る場合がある。
【００９５】
上記共重合ポリエステル系樹脂は、ジカルボン酸成分と分岐したグリコール成分を構成成分とする。前記の分岐したグリコール成分としては、例えば、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−ｎ−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、及び２，２−ジ−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオールを挙げることができる。
【００９６】
上記の分岐したグリコール成分は、全グリコール成分の中に、好ましくは１０モル％以上の割合で、さらに好ましくは２０モル％以上の割合で含まれる。上記化合物以外のグリコール成分としては、エチレンリコールが最も好ましい。少量であれば、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオールまたは１，４−シクロヘキサンジメタノールなどを用いても良い。
【００９７】
共重合ポリエステル系樹脂に構成成分として含有される、ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸及びイソフタル酸が最も好ましい。少量であれば他のジカルボン酸、特に、ジフェニルカルボン酸及び２，６−ナルタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸を加えて共重合させてもよい。前記ジカルボン酸成分の他に、水分散性を付与させるため、５−スルホイソフタル酸を１〜１０モル％の範囲で使用するのが好ましく、例えば、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホナフタレンイソフタル酸−２，７−ジカルボン酸及び５−（４−スルフォフェノキシ）イソフタル酸及びその塩類等を挙げることができる。
【００９８】
組合せ（Ｂ）で使用されるポリウレタン樹脂は、例えば、ブロック型イソシアネート基を含有する樹脂であり、末端イソシアネート基を親水性基で封鎖（以下ブロックと言う）した、熱反応型の水溶性ウレタン等を挙げることができる。上記イソシアネート基のブロック化剤としては、重亜硫酸塩類及びスルホン酸基を含有したフェノール類、アルコール類、ラクタム類オキシム類及び活性メチレン化合物類等を挙げることができる。ブロック化されたイソシアネート基はウレタンプレポリマーを親水化あるいは水溶化する。フィルム製造時の乾燥あるいは熱セット過程で、上記樹脂に熱エネルギーが与えられると、ブロック化剤がイソシアネート基からはずれるため、上記樹脂は自己架橋した編み目に混合した水分散性共重合ポリエステル樹脂を固定化するとともに、上記樹脂の末端基等とも反応する。塗布液調整中の樹脂は親水性であるため耐水性が劣るが、塗布、乾燥、熱セットして熱反応が完了すると、ウレタン樹脂の親水基、即ちブロック化剤がはずれるため、耐水性が良好な塗膜が得られる。
【００９９】
上記ブロック化剤の内、熱処理温度、熱処理時間が適当で、工業的に広く用いられるものとして、重亜硫酸塩類が最も好ましい。上記ポリウレタン樹脂において使用される、ウレタンプレポリマーの化学組成としては、（１）分子内に２個以上の活性水素原子を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは分子内に少なくとも２個の活性水素原子を有する分子量が２００〜２０，０００の化合物、（２）分子内に２個以上のイソシアネート基を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは（３）分子内に少なくとも２個活性水素原子を有する鎖伸長剤を反応させて得られる末端イソシアネート基を有する化合物である。
【０１００】
上記（１）の化合物として一般に知られているものは、末端又は分子中に２個以上のヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基あるいはメルカプト基を含むものであり、特に好ましい化合物としては、ポリエーテルポリオールおよびポリエーテルエステルポリオール等を挙げることができる。 ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキシド、及びプロピレンオキシド等のアルキレンオキシド類、或いはスチレンオキシドおよびエピクロルヒドリン等を重合した化合物、あるいはそれらのランダム重合、ブロック重合或いは多価アルコールへの付加重合により得られる化合物がある。
【０１０１】
ポリエステルポリオール及びポリエーテルエステルポリオールは、一般に直鎖状あるいは分岐状である。コハク酸、アジピン酸、フタル酸及び無水マレイン酸等の多価の飽和或いは不飽和カルボン酸、或いはこのカルボン酸無水物等と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール及びトリメチロールプロパン等の多価の飽和及び不飽和のアルコール類、比較的低分子量のポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコール等のポリアルキレンエーテルグリコール類、或いはそれらアルコール類の混合物とを縮合させることにより得ることができる。
【０１０２】
さらにポリエステルポリオールとしては、ラクトン及びヒドロキシ酸から得られるポリエステル類、またポリエーテルエステルポリオールとしては、あらかじめ製造されたポリエステル類にエチレンオキシド或いはプロピレンオキシド等を付加させたポリエーテルエステル類も使用することができる。
【０１０３】
上記（２）の有機ポリイソシアネートとしては、トルイレンジイソシアネートの異性体類、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、キシリレンジイソシアネート等の芳香族脂肪族ジイソシアネート類、イソホロンジイソシアネート及び４，４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート、及び２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類、或いはこれらの化合物を単一又は複数でトリメチロールプロパン等とあらかじめ付加させたポリイソシアネート類を挙げることができる。
【０１０４】
上記（３）の少なくとも２個の活性水素を有する鎖伸長剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、及び１，６−ヘキサンジオール等のグリコール類、グリセリン、トリメチロールプロパン、及びペンタエリスリトール等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、及びピペラジン等のジアミン類、モノエタノールアミン及びジエタノールアミン等のアミノアルコール類、チオジエチレングルコール等のチオジグリコール類、或いは水を挙げることができる。
【０１０５】
ウレタンプレポリマーを合成するには通常、上記鎖伸長剤を用いた一段式あるいは多段式イソシアネート重付加方法により、１５０℃以下、好ましくは７０〜１２０℃の温度において、５分ないし数時間反応させる。活性水素原子に対するイソシアネート基の比は、１以上であれば自由に選べるが、得られるウレタンプレポリマー中に遊離のイソシアネート基が残存することが必要である。さらに、遊離のイソシアネート基の含有量は１０重量％以下であればよいが、ブロック化された後のウレタンポリマー水溶液の安定性を考慮すると、７重量％以下であるのが好ましい。
【０１０６】
得られた上記ウレタンプレポリマーは、好ましくは重亜硫酸塩を用いてブロック化を行う。重亜硫酸塩水溶液と混合し、約５分〜１時間、よく攪拌しながら反応を進行させる。反応温度は６０℃以下とするのが好ましい。その後、水で希釈して適当な濃度にして、熱反応型水溶性ウレタン組成物とする。該組成物は使用する際、適当な濃度及び粘度に調製するが、通常８０〜２００℃前後に加熱すると、ブロック剤の重亜硫酸塩が解離し、活性なイソシアネート基が再生するために、プレポリマーの分子内あるいは分子間で起こる重付加反応によってポリウレタン重合体が生成したり、また他の官能基への付加を起こす性質を有するようになる。
【０１０７】
上記に説明したブロック型イソシアネート基を含有する樹脂の１例としては、第一工業製薬（株）製の商品名エラストロンが代表的に例示される。エラストロンは、重亜硫酸ソーダによってイソシアネート基をブロックしたものであり、分子末端に強力な親水性を有するカルバモイルスルホネート基が存在するため、水溶性となっている。
【０１０８】
上記組合せ（Ｂ）で使用される、分岐したグリコール成分を含有する共重合ポリエステル樹脂（ａ）及びブロック型イソシアネート基を含有する樹脂（ｂ）を混合して塗布液を調製する場合、樹脂（ａ）と樹脂（ｂ）の重量比は（ａ）：（ｂ）＝９０：１０〜１０：９０が好ましく、更に好ましくは（ａ）：（ｂ）＝８０：２０〜２０：８０の範囲である。固形分重量に対する上記樹脂（ａ）の割合が１０重量％未満では、ポリマーフィルムへの塗布性が不良で、表面層とフィルムとの間の接着性が不十分となる。固形分重量に対する上記樹脂（ｂ）の割合が１０重量％未満の場合には、転写層に対して実用性のある接着性が得られない。
【０１０９】
上記組合せ（Ｂ）の塗布液は、水性塗布液であることが好ましい。この塗布液を前記のポリマーフィルム表面に塗布する際には、フィルムへの濡れ性を改善させ、塗布液を均一にコートするために、公知のアニオン性活性剤およびノニオン性の界面活性剤を必要量添加して用いることができる。塗布液に用いる溶剤は、水の他にエタノール、イソプロピルアルコール及びベンジルアルコール等のアルコール類を、全塗布液に占める割合が５０重量％未満となるまで混合してもよい。さらに、１０重量％未満であれば、アルコール類以外の有機溶剤を溶解可能な範囲で混合してもよい。ただし、塗布液中、アルコール類とその他の有機溶剤との合計は、５０重量％未満とする。
【０１１０】
有機溶剤の添加量が５０重量％未満であれば、塗布乾燥時に乾燥性が向上するとともに、水のみの場合と比較して塗布膜の外観向上の効果がある。５０重量％以上では、溶剤の蒸発速度が速く塗工中に塗布液の濃度変化が起こり、粘度が上昇して塗工性が低下するために、塗布膜の外観不良を起こす恐れがあり、さらには火災などの危険性も考えられる。
【０１１１】
本発明の易接着層の厚さは、０．０１〜０．３μｍの範囲、特に０．０２〜０．２μｍの範囲あることが好ましい。
【０１１２】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、上記本発明の易接着フィルム上に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有するものである。
【０１１３】
本発明の上記光硬化性組成物は、一般に、ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上のポリマー）、光重合性官能基（一般に炭素炭素２重結合基、好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。さらに、滑剤を含むことが好ましい。
【０１１４】
特に、中間スタンパの作成で使用される光硬化性転写層は滑剤を含有することが好ましい。滑剤としては、リン原子含有化合物、又は変性ポリシロキサンを含むポリシロキサンを挙げることができる。変性ポリシロキサンが好ましく、特に（メタ）アクリロイル基含有ポリシロキサンが好ましい。（メタ）アクリロイル基はポリアルキレンオキシドを介してポリシロキサンに結合していても良い。
【０１１５】
ナノインプリントプロセス法等の微細な凹凸パターンの形成方法においては、上記のように生産性向上、コスト低減のためにタクトを短くすることが重要であるが、スタンパとの剥離が良好でないと、タクト短縮が困難となる。またスタンパの剥離後に得られる光硬化した転写層を有するシートは、その膜自立性が十分で無く、柔らかすぎて腰がないため、得られたシートの移動、巻き取り等のハンドリング性が十分でないとの問題がある。上記滑剤を用いることにより大幅に改善される。
【０１１６】
ポリシロキサンの例としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、メチルハイドロジェンシリコーンを挙げることができる。また、変性ポリシロキサンの例としては、上記ポリシロキサンの、側鎖、両末端又は片末端に官能基を有する物であり、その官能基の例としては、アミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基を挙げることができる。変性ポリシロキサンが好ましく、特にアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基変性ポリシロキサンが好ましい。また（メタ）アクリロイル基はポリアルキレンオキシドを介してポリシロキサンに結合していても良い。
【０１１７】
滑剤としてポリシロキサン又は変性ポリシロキサンを用いる場合、それは、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．１〜２０質量％、特に０．５〜１５質量％の範囲で含まれている。２０質量％より多い場合は、透明フィルムへの接着性が低下し、０．１質量％より少ない場合は、スタンパ等からの剥離性が十分に良好とは言えない。
【０１１８】
滑剤としてリン原子含有化合物も好ましい。リン原子含有化合物としては、例えば、リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物及びリン酸アルキルエステル化合物等のリン酸アルキルエステル系化合物、リン酸塩及びリン酸アミド等を挙げることができる。
【０１１９】
リン酸アルキルエステル化合物としては、例えば、リン酸トリアルキルエステル（例、トリオクチルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリスクロロエチルホスフェート）、リン酸トリアリールエステル（例、トリクレジルホスフェート、トリトリルホスフェート）等を挙げることができる。リン酸塩としては、例えば、リン酸のナトリウム塩（例、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、ピロリン酸四ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム）を挙げることができる。またリン酸アミドとしては、例えば、トリス（エチレンイミノ）リン酸アミド、トリス（メチルエチレンイミノ）リン酸アミド、ヘキサメチルリン酸アミド等を挙げることができる。さらにリン脂質界面活性剤（例えばレシチン）、リンの塩素化合物（例、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン）等を挙げることができる。
【０１２０】
本発明のリン原子含有化合物としては、リン酸アルキルエステル系化合物、特にリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物或いはリン酸エステル型陰イオン界面活性剤が好ましい。
【０１２１】
上記リン酸アルキルエステル系化合物としては、下記の一般式（Ｉ）：
【０１２２】
【化３】
【０１２３】
［但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１個は水素原子以外の基を表す。］
で表される化合物を使用することが好ましい。
【０１２４】
上記一般式（Ｉ）において、アルキル基としては、一般に炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、アリール基としては一般にフェニル基であり、アルキルアリール基としては一般に炭素原子数１〜３のアルキル基を有するフェニル基であり、アリールアルキル基としては、一般にフェニルアルキル基（アルキル基は炭素原子数１〜３アルキル基）であり、アルキルポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数５〜２０のアルキルポリオキシエチレン基又は炭素原子数７〜２０のアルキルポリオキシプロピレン基であり、アリールポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数１０〜３０のアルキルフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数１２〜３０のアルキルフェニルポリオキシプロピレン基、或いは炭素原子数９〜３０のフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数１１〜３０のフェニルポリオキシプロピレン基である。置換基としては、ハロゲン（特に塩素、臭素）、アルキルアンモニウム塩（特に−Ｎ+（ＣＨ3）3）、ビニル基を挙げることができる。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが水素原子以外の基をであることが好ましく、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが同一であることが特に好ましい。
【０１２５】
上記リン酸アルキルエステル系化合物（Ｉ）は、特に下記の一般式（II）：
【０１２６】
【化４】
【０１２７】
［但し、Ｒ4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
Ｒ5が、 −ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−を表し、そして
ｎが１〜２０を表す。］
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物であることが好ましい。
【０１２８】
Ｒ4において、アルキル基としては炭素原子数１〜２０のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、セチル）、特に炭素原子数４〜１８のアルキル基が好ましく、アリール基としてはフェニル基が好ましく、アルキルアリール基としては炭素原子数１〜３のアルキル基を有するフェニル基（特にメチルフェニル）が好ましく、アリールアルキル基としてはフェニルアルキル基（特にアルキル基は炭素原子数１〜３のアルキル基）が好ましい。置換基としては、ハロゲン（特に塩素、臭素）を挙げることができるが、有しないことが好ましい。
【０１２９】
またＲ5は−ＣＨ2ＣＨ2−が好ましい。ｎは、１〜１０、特に２〜５が好ましい。
【０１３０】
上記一般式(II)で表されるリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物は、商品名：ＬＴＰ−２（川研ファインケミカル（株）製）、商品名：Ｎ３Ａ及びＮ１０Ａ（クローダジャパン（株）製）が市場で入手可能であり、好ましい。上記Ｎ３Ａは、式(II)におけるＲ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：３である化合物、上記Ｎ１０Ａは、式（II）におけるＲ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：１０である化合物である。
【０１３１】
滑剤としてリン原子含有化合物を用いる場合、それは、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．０１〜１質量％、特に０．０１〜０．５質量％、中でも０．０２〜０．２質量％の範囲で含まれている。１質量％より多い場合は、透明フィルムへの接着性が低下し、０．０１質量％より少ない場合は、スタンパ等からの剥離性が十分に良好とは言えない。
【０１３２】
本発明の光硬化性組成物の一般的な構成要件である光重合性官能基を有する反応性希釈剤としては、例えば、（メタ）アクリルモノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、
グリセリンジアクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレートメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；
ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と、有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。
【０１３３】
前記ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）としては、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、ビニルアセテート／（メタ）アクリレート共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン及びその共重合体、ポリ塩化ビニル及びその共重合体、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、２−クロロブタジエン−１，３−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン／ブタジエン／スチレン共重合体、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、セルロースエステル、セルロースエーテル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等を挙げることができる。
【０１３４】
本発明では、良好な転写性及び優れた硬化性の点から、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、前述したように、重合性官能基を有するアクリル樹脂又はヒドロキシル基を有するアクリル樹脂であることが特に好ましい。またアクリル樹脂は、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％（特に６０〜９０質量％）含むことが、Ｔｇ８０℃以上のアクリル樹脂を得られやすく、また良好な転写性、高速硬化性も得られやすく好ましい。このような官能基を有するアクリル樹脂として、例えばＰＯＲＥＡＳ−７（大阪有機化学工業（株）製）を用いることが好ましい。
【０１３５】
上記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、一般に重合性官能基を有するアクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル（メタ）アクリレートとの共重合体で、且つ該グリシジル基に重合性官能基を有するカルボン酸が反応したもの、或いはメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、重合性官能基を有するカルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸基にグリシジル（メタ）アクリレートが反応したものである。
メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル（メタ）アクリレートとの共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に５０質量％以上（特に６０〜９０質量％）含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが好ましい。またこのような（メタ）アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜３０質量％、特に１０〜３０質量％含まれることが好ましい。グリシジル（メタ）アクリレート又は重合性官能基を有するカルボン酸は、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜２５質量％、特に５〜２０質量％含まれることが好ましい。得られた共重合体のグリシジル基又はカルボン酸基に、それぞれ重合性官能基を有するカルボン酸又はグリシジル（メタ）アクリレートを反応させる。
【０１３６】
上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂は、一般にメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種との共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に５０質量％以上（特に６０〜９０質量％）含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが好ましい。またこのような（メタ）アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜３０質量％、特に１０〜３０質量％含まれることが好ましい。アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートを挙げることができ、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜２５質量％、特に５〜２０質量％含まれることが好ましい。
【０１３７】
前記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、例えば、以下のように製造することができる。
【０１３８】
１種又は複数種の（メタ）アクリルモノマー（好ましくは上述の、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル基を１個かつ重合性官能基を１個有する化合物（好ましくはグリシジル（メタ）アクリレート）或いは重合性官能基を有するカルボン酸とを、ラジカル重合開始剤と有機溶剤の存在下で溶液重合法などの公知の方法にて反応させて共重合体であるグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）又はカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）を得る。（メタ）アクリルモノマー等のモノマー類の配合割合はグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）又はカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）の固形分換算合計量に対して１０〜４５質量％とすることが好ましい。
【０１３９】
次いで得られたグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）に重合性官能基を有するカルボン酸を加え、或いは得られたカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）にグリシジル基を１個かつ重合性官能基を１個有する化合物（好ましくはグリシジルメタクリレート）を加え、必要に応じ加熱することによりアクリル系光硬化型樹脂（Ａ）又はアクリル系光硬化型樹脂（Ｂ）を得る。この配合比は、グリシジル基とカルボキシル基のモル比が１／０．９〜１／１となるように配合するのが好ましく、より好ましくは１／１である。グリシジル基過剰では長期安定性において増粘、ゲル化のおそれがあり、カルボキシル基過剰では皮膚刺激性が上がり作業性が低下する。さらに１／１の場合は残存グリシジル基がなくなり、貯蔵安定性が顕著に良好になる。反応は塩基性触媒、リン系触媒などの存在下で公知の方法にて行うことができる。
【０１４０】
上記ＯＨ又は重合性官能基を有するアクリル樹脂を含み、本発明で用いることができるアクリル樹脂を構成する主成分として使用することができる（メタ）アクリル系モノマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルを挙げることができる。アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルの例として、メチル（メタ）アクリレート（（メタ）アクリレートとはアクリレート及びメタクリレートを示す。以下同様）、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート、２−メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルコキシアルキル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシ（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレート、ピレノキシド付加物（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。さらに不飽和基を含有する芳香族化合物（例、スチレン）も使用しても良い。
【０１４１】
本発明では、前述のように、アクリル系モノマーの主成分としては、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種を使用することが好ましい。
【０１４２】
本発明のポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）は、数平均分子量が１０００００以上、特に１０００００〜３０００００、そして重量平均分子量が１０００００で以上、特に１０００００〜３０００００であることが好ましい。
【０１４３】
さらに本発明では、ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）として、ヒドロキシル基等の活性水素を有する官能基及び光重合性官能基の両方を有するポリマーも使用することができる。このような反応性ポリマーとしては、例えば、主として前記アクリル系モノマーから得られる単独重合体又は共重合体（即ちアクリル樹脂）で、且つ、主鎖又は側鎖に光重合性官能基及び活性水素を有する官能基を有するものである。従って、このような反応性ポリマーは、例えば、メチルメタクリレートと、前記１種以上の（メタ）アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アクリレート（例、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。その際、ヒドロキシル基が残るようにイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートの量を調節して使用することにより、活性水素を有する官能基としてヒドロキシル基及び光重合性官能基を有するポリマーが得られる。
【０１４４】
或いは上記において、ヒドロキシル基の代わりにアミノ基を有する（メタ）アクリレート（例、２−アミノエチル（メタ）アクリレート）を用いることにより活性水素を有する官能基としてアミノ基を有する、光重合性官能基含有ポリマーを得ることができる。同様に、活性水素を有する官能基としてカルボキシル基等を有する、光重合性官能基含有ポリマーも得ることができる。
【０１４５】
本発明では、前記光重合性官能基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂も好ましい。
【０１４６】
上記光重合性官能基を有するポリマーは、光重合性官能基を一般に１〜５０モル％、特に５〜３０モル％含むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
【０１４７】
本発明の光硬化性組成物中に添加され得るジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げることができる。またトリメチロールプロパンのＴＤＩ付加体等の３官能以上のイソシアネート化合物等のポリイソシアネートシアネートも使用することができる。これらの中でトリメチロールプロパンのヘキサメチレンジイソシアネート付加体が好ましい。
【０１４８】
本発明のジイソシアネートは、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．２〜４質量％、特に０．２〜２質量％の範囲で含まれていることが好ましい。転写層のしみ出しを防止するために適当な架橋がもたらされると共に、スタンパ等の金型の凹凸の良好な転写性も維持される。上記化合物とポリマーとの反応は、転写層形成後、徐々に進行し、常温（一般に２５℃）、２４時間でかなり反応している。転写層形成用の塗布液を調製した後、塗布するまでの間にも反応は進行するものと考えられる。転写層を形成後、ロール状態で巻き取る前にある程度硬化させることが好ましいので、必要に応じて、転写層を形成時、或いはその後、ロール状態で巻き取る前の間に加熱して反応を促進させても良い。
【０１４９】
本発明の光硬化性組成物は、上述のように、一般に、特定の滑剤、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマー、光重合性官能基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。ポリマーと反応性希釈剤との質量比は、２０：８０〜８０：２０、特に３０：７０〜７０：３０の範囲が好ましい。
【０１５０】
本発明の光硬化性転写層の周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率は、２５℃において１×１０7Ｐａ以下であることが好ましく、特に１×１０4〜６×１０5Ｐａの範囲であることが好ましい。また８０℃において８×１０4Ｐａ以下であることが好ましく、特に１×１０4〜５×１０5Ｐａの範囲であることが好ましい。これにより、精確で迅速な転写が可能となる。さらに、本発明の光硬化性転写層は、ガラス転移温度を２０℃以下であることが好ましい。これにより、得られる光硬化性転写層がスタンパ等の金型の凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃、さらに０℃〜−４０℃の範囲にすることにより追随性がたものとなる。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な硬度が得られなくなる。
【０１５１】
また上記光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上となるように設計されていることが好ましい。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすいピット形状等のダレ発生を防止することが容易で、転写されたピット形状等を保持することができる。本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、主として、上記好ましいポリマー、以下の反応性希釈剤を使用することにより有利に得ることができる。
【０１５２】
光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系又は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。光硬化性組成物（不揮発分）中に、光重合開始剤を一般に０．１〜２０質量％、特に１〜１０質量％含むことが好ましい。
【０１５３】
光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１など、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンッゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなどが使用できる。
【０１５４】
アセトフェノン系重合開始剤としては、特に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。また、第３級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。
【０１５５】
本発明では、上記光重合性官能基を有する反応性希釈剤及び光重合開始剤に加えて、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤を添加することが好ましい。
【０１５６】
他の添加剤として、シランカップリング剤（接着促進剤）を添加することができる。このシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。これらシランカップリング剤の添加量は、上記ポリマー（固形分）１００質量部に対し通常０．０１〜５質量部で十分である。
【０１５７】
また同様に接着性を向上させる目的でエポキシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基含有化合物としては、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート；ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル；アクリルグリシジルエーテル；２−エチルヘキシルグリシジルエーテル；フェニルグリシジルエーテル；フェノールグリシジルエーテル；ｐ−ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル；アジピン酸ジグリシジルエステル；ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル；グリシジルメタクリレート；ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを添加することによっても同様の効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量は上記ポリマー（固形分）１００質量部に対し０．１〜２０質量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくとも１種を単独で又は混合して添加することができる。
【０１５８】
さらに他の添加剤として、加工性や貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。
【０１５９】
上記炭化水素樹脂等の樹脂の添加量は適宜選択されるが、上記ポリマー（固形分）１００質量部に対して１〜２０質量部が好ましく、より好ましくは５〜１５質量部である。
【０１６０】
以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲル、炭酸カルシウム、シリコーン共重合体の微粒子等の添加剤を少量含んでもよい。
【０１６１】
本発明で使用される光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートは、本発明のリン原子含有化合物、ポリマー（好ましくはＴｇ８０℃以上）、光重合性官能基を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、所望によりジイソシアネートシアネート及び、所望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることができる。一般に易接着フィルムの易接着層に上に製膜する。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により易接着層上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する方法である。
【０１６２】
また、光硬化性転写シートの厚さは１〜１２００μｍ、特に５〜５００μｍとすることが好ましい。特に５〜３００μｍ（好ましくは１５０μｍ以下）が好ましい。１μｍより薄いと封止性が劣り、一方、１０００μｍより厚いと得られる成形体の厚みが増し、成形体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがある。
【０１６３】
光硬化性転写層の厚さは、１〜３００μｍ、特に３〜１００μｍが好ましい。
【０１６４】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、一般に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層と、易接着性フィルムの無いもう一方の側の表面に剥離シートとを有する。
【０１６５】
剥離シートは、一般にプラスチックフィルム上に、シリコーン等の表面張力の低い剥離層を有する。例えば、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる剥離層、或いは不飽和２重結合基（好ましくはビニル基）を有するポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）と水素化ポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）から形成される剥離層等を挙げることができる。
【０１６６】
剥離シートのプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂フィルムを用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートのフィルムが好適に用いることができ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１６７】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、一般に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層とその一方の表面に易接着フィルム及び他方の表面に剥離シートを有するものであり、この場合、この光硬化性転写シートはアニール処理されていることが好ましい。即ち、アニール処理した光硬化性転写シートを用いて、凹凸パターンの形成に用いることが好ましい。アニール処理は、転写シートを３０〜１００℃、特に４０〜７０℃の温度で、１時間〜３０日間、特に１０時間〜１０日間に亘って保管することにより行うことが好ましい。転写シートは、一般にロール状態（巻かれた状態）でアニール処理することが好ましい。このようなアニール処理により、剥離シートの剥離層の剥離を促進する成分（離型成分）が、光硬化性転写層への移行が進み、スタンパの除去が容易になると考えられる。
【０１６８】
本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に制御したフィルム状で提供することができるため、スタンパ等の金型との貼り合わせを容易にかつ精度良くおこなうことが可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で２０〜１００℃で仮圧着した後、光により常温、１〜数十秒で硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングができるという特徴を有している。
【０１６９】
本発明の光硬化性転写シートを硬化する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、０．１秒〜数十秒程度、好ましくは０．５〜数秒である。紫外線照射量は、３００ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましい。
【０１７０】
また、硬化促進のために、予め積層体を３０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。
【０１７１】
以下に実施例を示し、本発明についてさらに詳述する。
【実施例】
【０１７２】
［実施例１］
＜光硬化性転写シートの作製＞
（ヒドロキシル基を有するポリマーＡの作製）
ポリマー配合Ａ
メチルメタクリレート ７４．６質量部
ｎ−ブチルメタクリレート １３．２質量部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート １２．１質量部
ＡＩＢＮ ５質量部
トルエン ５０質量部
酢酸エチル ５０質量部
【０１７３】
上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、７０℃に加熱して重合を開始させ、この温度で８時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するヒドロキシル基を有するポリマー１（アクリル樹脂）を得た。固形分を３６質量％に調製した（ポリマー溶液Ａ）。
【０１７４】
得られたポリマーＡは、Ｔｇが７３℃であり、重量平均分子量が１１００００であった。
【０１７５】
組成物配合Ａ
ヒドロキシル基を有するポリマー溶液Ａ（固形分） １００質量部
ヘキサンジオールジアクリレート １００質量部
（ＳＲ２３８Ｆ；サートマー（株）製）
トリメチロールプロパントリアクリレート １０質量部
（ＴＭＰ−Ａ；共栄社化学（株）製）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート １０質量部
（Ｇ−２０１Ｐ；共栄社化学（株）製）
ジイソシアネート（BXX5627、東洋インキ製造（株）製） １．５質量部
イルガキュア６５１（チバスペシャルティケミカルズ社製） ２．０質量部
ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ、
川口化学工業（株）製） ０．０５質量部
【０１７６】
上記配合Ａの混合物を均一に溶解、混練し、易接着フィルム（商品名ＨＰＥ、帝人デュポンフィルム（株）製；幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ７５μｍ）上に、全面塗布し、乾燥厚さ２５μｍの光硬化性転写層を形成し、シートの反対側に剥離シート（商品名Ａ３１、帝人デュポンフィルム（株）製；幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ５０μｍ）を貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのフルエッジタイプのロール（直径２６０ｍｍ）を得た。光硬化性転写層のＴｇは、−２５℃であった。
【０１７７】
上記易接着フィルムはＰＥＴフィルム（７５μｍ）上に易接着層（ポリエステル／アクリル樹脂混合物、層厚０．２μｍ）からなるものである。
【０１７８】
［実施例２］
実施例１において、組成物配合Ａにさらにリン酸エステル（商品名：ＬＴＰ−２；川研ファインケミカル（株）製）を０．１質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１７９】
［実施例３］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにリン酸エステル（商品名：ＣＲＯＤＡＦＯＳ Ｎ３Ａ；クローダジャパン（株）製）を０．１質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１８０】
［実施例４］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにリン酸エステル（商品名：ＣＲＯＤＡＦＯＳ Ｎ１０Ａ；クローダジャパン（株）製）を０．１質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１８１】
［実施例５］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにアクリル変性ポリシロキサン（商品名：Ｘ２２−１６０２；固形分１００質量％、信越化学工業（株）製）を１０質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１８２】
［実施例６］
実施例１において、組成物配合Ａの調製において、組成物配合Ａにさらにアクリル変性ポリシロキサン（商品名：ＢＹＫ−ＵＶ３５００；固形分９７質量％、ビックケミー・ジャパン（株）製）を１０質量部加えた以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
（１）光硬化性転写シートの評価
（１−１）ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定
得られた光硬化性転写シートから両側の剥離シートを除去し、長さ２０ｍｍ、幅４ｍｍ（厚さ２５μｍ）に裁断してサンプルとした。
【０１８３】
サンプルのＴｇを、ＴＭＡ (Thermal Mechanical Analysis) 装置ＳＳ６１００(SIIナノテクノロジー（株）製)を用いて、サンプル温度：３０〜１２０℃、昇温レート：５℃／分、引張張力：４．９×１０5Ｐａの条件で測定した。
【０１８４】
以上の条件で試験を行うと、図４に示すグラフが得られ、安定領域の接線と伸び領域の最大傾斜からの接線との交点をガラス転移温度とした。
【０１８５】
（２）微細凹凸パターンの作製及び評価
（２−１）微細凹凸パターンの作製
図４に示す装置を用いて微細凹凸パターンの作製を行った。
【０１８６】
まずマザースタンパとして、ニッケル板にレジスト（ＰＡＫ−１、東洋合成（株）製）を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形状（マイクロパターン：深さ１０μｍ、高さ１０μｍのリブ形状、及びナノパターン２：深さ５０ｎｍ、高さ５０ｎｍのリブ形状）を形成し、マザースタンパを得た。
【０１８７】
実施例で得られた光硬化性転写シートの一方の表面の剥離シートを除去し、図４に示す装置に導入し（搬送速度：１．０ｍ／分）、上下に作動するマザースタンパ部とＵＶ透過型圧着部に送り、停止し（停止時間２秒）、微細凹凸面を有する５０℃に温調された上記のニッケル製のマザースタンパ（マザースタンパ部）を押し上げることによりその凹凸面とシート表面とが接触してマザースタンパで光硬化性転写シートを押圧し、同時に易接着フィルム側から、ＵＶ透過型圧着部で保持するとともに、その内部のメタルハライドランプ（６００ｍＷ／ｃｍ）を用いて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件でＵＶ照射した。これにより、ニッケル製のスタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した転写層を硬化させ、中間スタンパを作製した。
【０１８８】
次いで、中間スタンパは、次の、上下に作動するシート設置台とＵＶ透過型圧着部に送り、停止し（停止時間２秒）、中間スタンパがシート設置台に来た時、シート設置台に置かれた前記と同じ新たな光硬化性転写シートを押し上げると共に、光硬化性転写シートとともに押し上げられた中間スタンパの裏面側の易接着フィルムはＵＶ透過型圧着部で支持される。これにより、光硬化性転写層４１は中間スタンパ４４で押圧され、同時に易接着フィルム側から、メタルハライドランプ（６００ｍＷ／ｃｍ）を用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件でＵＶ照射した。これにより、ニッケル製のスタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した転写層を硬化させ、前記マザースタンパのパターンを有するシートを作製した。
【０１８９】
［比較例１］
熱可塑性樹脂として、上記マザースタンパから、ゼオノアノフィルム（ＺＦ−１４；
オプテス（株）製）を用いて、１９０℃加熱（１０分）、１３０℃への冷却（３分）の条件で、中間スタンパを作製し、次いで、同様にして、前記マザースタンパのパターンを有するシートを作製した。
【０１９０】
［比較例２］
比較例１において、熱可塑性樹脂としてＰＣフィルム（ピュアエース；帝人化成（株）製））を用いた以外は同様にして、前記マザースタンパのパターンを有するシートを作製した。
（２−２）中間スタンパの凹凸パターンの評価
（ｉ）マイクロパターンについて、マザースタンパの形状と中間スタンパの形状を顕微鏡を用いて評価した、
◎： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に全く差が認められない
○： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状にほとんど差が認められない
△： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に若干の差が認められる
×： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に明らかに差が認められる。
【０１９１】
(ii)ナノパターンについて、マザースタンパの形状と中間スタンパの形状を透過型電子顕微鏡を用いて評価した、
◎： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に全く差が認められない
○： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状にほとんど差が認められない
△： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に若干の差が認められる
×： マザースタンパの形状と、中間スタンパの形状に明らかに差が認められる。
（２−３）凹凸パターン作成の所要時間
各ＵＶ透過型圧着部での停止時間を測定し、タクトとした。
【０１９２】
【表１】
【０１９３】
本発明の方法（実施例１〜６）は、比較例１及び２の従来の熱可塑性樹脂を用いて微細凹凸パターンを作成した場合に比べて、タクト時間を大幅に短縮できる上、得られるパターンもマザースタンパのパターンと同じまたほぼ同じであり、従来のものより優れていた。
【図面の簡単な説明】
【０１９４】
【図１】本発明に従う光硬化性転写シートの実施形態の代表例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に従う微細凹凸パターンの形成方法の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明に従う微細凹凸パターンの形成方法の一例を示す概略断面図である（図２の続き）。
【図４】本発明に従う微細凹凸パターンの連続形成方法の一例を示す概略断面図である。
【図５】ガラス転移温度（Ｔｇ）の決定に用いられるグラフである。
【符号の説明】
【０１９５】
１１、２１ 光硬化性転写層
１２、２２ 易接着フィルム
１２ａ、２２ａ 易接着層
１２ｂ、２２ｂ ポリマーフィルム
１３ 剥離シート
１４、２４ スタンパ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の工程（１）〜（４）：
（１）表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する光硬化性転写シートの当該転写層に、該スタンパの凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（２）スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する光硬化性転写シート（中間スタンパ）を得る工程；
（３）中間スタンパの微細な反転凹凸パターンの表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する別の光硬化性転写シートの当該転写層に、該中間スタンパの反転凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が反転凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；及び
（４）中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；
を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。
【請求項２】
工程（１）の載置、押圧と及び（２）の紫外線照射、及び／又は工程（３）の載置、押圧と及び（４）の紫外線照射を、同時に行う請求項１に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項３】
工程（１）及び（３）で使用される光硬化性転写層が加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる請求項１又は２に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項４】
少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写層が滑剤を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項５】
滑剤が、リン原子含有化合物又は変性ポリシロキサンである請求項４に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項６】
変性ポリシロキサンが（メタ）アクリロイル基含有ポリシロキサンである請求項５に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項７】
透明フィルムが、表面に易接着層を有するポリマーフィルムである請求項１〜６のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項８】
易接着層が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂及びアクリル樹脂から選択される少なくとも１種からなる請求項７に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項９】
易接着層の厚さが、０．０１〜０．３μｍの範囲にある請求項７又は８に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１０】
光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１１】
光硬化性組成物が、滑剤を０．０１〜２０質量％含む請求項４〜１０のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１２】
光硬化性組成物がさらにジイソシアネートを含む請求項１〜１１のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１３】
光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１４】
光硬化性転写層の厚さが１〜３００μｍである請求項１〜１３のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１５】
少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写シートが長尺状である請求項１〜１４のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１６】
長尺状の透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する長尺状の光硬化性転写シートを送り出す送出手段、
送出された長尺状の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面の凹凸パターンが接触するように載置、押圧する第１の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射して転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する長尺状の光硬化性転写シート（中間スタンパ）を形成するための第１の紫外線照射手段、及び
別の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有する中間スタンパを、その微細な反転凹凸パターン面と転写層の表面が接触するように載置、押圧する、第２の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射する第２の紫外線照射手段、
を含む凹凸パターンの製造装置。
【請求項１】
下記の工程（１）〜（４）：
（１）表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する光硬化性転写シートの当該転写層に、該スタンパの凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（２）スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する光硬化性転写シート（中間スタンパ）を得る工程；
（３）中間スタンパの微細な反転凹凸パターンの表面を、透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する別の光硬化性転写シートの当該転写層に、該中間スタンパの反転凹凸パターン面が転写層の表面に接触するように載置、押圧して、転写層の表面が反転凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；及び
（４）中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；
を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。
【請求項２】
工程（１）の載置、押圧と及び（２）の紫外線照射、及び／又は工程（３）の載置、押圧と及び（４）の紫外線照射を、同時に行う請求項１に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項３】
工程（１）及び（３）で使用される光硬化性転写層が加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる請求項１又は２に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項４】
少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写層が滑剤を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項５】
滑剤が、リン原子含有化合物又は変性ポリシロキサンである請求項４に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項６】
変性ポリシロキサンが（メタ）アクリロイル基含有ポリシロキサンである請求項５に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項７】
透明フィルムが、表面に易接着層を有するポリマーフィルムである請求項１〜６のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項８】
易接着層が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂及びアクリル樹脂から選択される少なくとも１種からなる請求項７に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項９】
易接着層の厚さが、０．０１〜０．３μｍの範囲にある請求項７又は８に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１０】
光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１１】
光硬化性組成物が、滑剤を０．０１〜２０質量％含む請求項４〜１０のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１２】
光硬化性組成物がさらにジイソシアネートを含む請求項１〜１１のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１３】
光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１４】
光硬化性転写層の厚さが１〜３００μｍである請求項１〜１３のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１５】
少なくとも工程（１）で使用される光硬化性転写シートが長尺状である請求項１〜１４のいずれか１項に記載の凹凸パターンの形成方法。
【請求項１６】
長尺状の透明フィルムとその上の光硬化性転写層とを有する長尺状の光硬化性転写シートを送り出す送出手段、
送出された長尺状の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面の凹凸パターンが接触するように載置、押圧する第１の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射して転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する長尺状の光硬化性転写シート（中間スタンパ）を形成するための第１の紫外線照射手段、及び
別の光硬化性転写シートの転写層の表面に、微細な凹凸パターンを有する中間スタンパを、その微細な反転凹凸パターン面と転写層の表面が接触するように載置、押圧する、第２の押圧手段、及び同時に転写層に紫外線を照射する第２の紫外線照射手段、
を含む凹凸パターンの製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−８０６８０（Ｐ２０１０−８０６８０Ａ）
【公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２４７４３９（Ｐ２００８−２４７４３９）
【出願日】平成２０年９月２６日（２００８．９．２６）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月２６日（２００８．９．２６）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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