【課題】 焦点深度ラチチュード（Ｄｅｐｔｈ Ｏｆ Ｆｏｃｕｓ）が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物（Ａ）として、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−１）、又は、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−２）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】太陽電池として実際に使用される環境だけでなく、太陽電池モジュールを評価する際に検討される高温多湿の雰囲気中における促進試験を行なった場合であっても、太陽電池に用いられる充填材に対する接着性および耐候性に優れ、電気出力特性を維持し、バックシートの外観不良が生じがたい太陽電池モジュール用接着剤、太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池を提供すること。
【解決手段】太陽電池モジュールに用いられるバックシートと充填材と貼り合わすために用いられる接着剤であって、ヘテロ原子を含む１，５−ジエン構造含有単量体およびヘテロ原子を含む１，６−ジエン構造含有単量体からなる群より選ばれた少なくとも１種のジエン構造含有単量体を含有する単量体成分を環化重合させてなるヘテロ原子を含む環構造を主鎖に有する重合体を含有することを特徴とする太陽電池モジュール用接着剤。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】光配向法に適した化合物および該化合物を重合して得られる感光性ポリマーおよび該ポリマーからなる光配向剤、該配向剤を用いた液晶配向膜の提供する。
【解決手段】式（１−１）または（１−２）で表される化合物、およびこれらを重合して得られるポリマー。
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【課題】光配向法に適した感光性化合物および該化合物からなる感光性ポリマーの提供。
【解決手段】式（１）で表される、感光性化合物。


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【課題】非極性溶媒中において安定した分散性及び帯電特性を有し、帯電極性の異なる複数種類の粒子の存在下でも凝集が抑制された着色樹脂粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】顔料１〜３０重量％と、（メタ）アクリレート化アミン０．５〜２５重量％と、前記（メタ）アクリレート化アミン以外のビニル系単量体４５〜９８．５重量％とを含む重合性単量体組成物の重合体を含むことを特徴とする着色樹脂粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】種々の基材に対して、特にプラスチック基材に対して、硬化膜が耐擦傷性、防汚性、透明性、密着性及び耐カール性に優れる光硬化型塗料組成物の提供。
【解決手段】下記（Ａ）成分、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、有機溶剤（Ｄ）及び金属酸化物微粒子又は金属酸化物複合微粒子（ｅ２）を重合性不飽和基とアルコキシシリル基を有する有機化合物（ｅ１）で修飾した微粒子であって、（ｅ１）及び（ｅ２）成分の合計重量に対して（ｅ１）成分を１．０〜４５．０重量％の割合で反応させたもの（Ｅ）を含有する光硬化型塗料組成物。
（Ａ）成分：（メタ）アクリロイル基を２個以上有し水酸基を１個以上有する（メタ）アクリレートとポリイソシアネートとの付加反応物及び（メタ）アクリロイル基を３個以上有し水酸基を有さない（メタ）アクリレートから構成される(メタ)アクリレート混合物 （もっと読む）

【課題】螺旋誘起力が大きく、他の液晶化合物との溶解性に優れ、重合性を有する液晶性化合物及び重合体を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。この化合物を含有する液晶組成物、およびこの化合物または組成物を重合させることによって得られる重合体。


式（１）において、Ｑ^１〜Ｑ^４は独立して、式（２）、水素、ハロゲン、アルキルなどであり、Ｑ^１〜Ｑ^４の少なくとも２つはそれぞれ異なる基を表してもよい式（２）であり；式（２）において、Ａは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレンなどであり；Ｘは独立して、単結合、アルキレンなどであり；Ｚは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−などであり；ｎは、０〜３の整数であり；Ｐは、３種類の重合性基である。 （もっと読む）

【課題】パターン転写性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】インプリント用硬化性組成物において、（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）重合開始剤を含有し、かつ、前記（Ａ）重合性単量体の少なくとも１種を繰り返し単位として含むポリマーを実質的に含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】 フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含み、前記組成物は、（ａ）酸の作用により前記現像液に対する溶解度が減少する樹脂であって、酸素原子を含んだ基がエステル結合及び芳香環基の何れも含んでいない２価の連結基又は単結合を介して主鎖と結合している繰り返し単位を備え、前記樹脂に占める前記繰り返し単位の含有率は、前記樹脂中の全繰り返し単位に対して２０ｍｏｌ％乃至１００ｍｏｌ％の範囲内である樹脂と、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｄ）溶剤とを含有している。 （もっと読む）

【課題】樹脂や有機溶媒との相溶性が良好であり、非水溶性で耐加水分解性が高く、ハロゲンフリーで環境への負荷が少なく、各種電気化学デバイスにも好適に用いられる、帯電防止効果の優れた４級カチオン性ビニルモノマー、該モノマーからなる帯電防止剤及び帯電防止性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】正イオンとしてアンモニウム、負イオンとしてテトラフェニルホウ酸イオンから構成されたオニウム塩の一般式（１）(式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基を、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ_４は炭素数１〜３のアルキル基もしくはアルケニル基、またはベンジル基を表し、Ｙは酸素原子または−ＮＨ−を表し、Ｚは炭素数１〜３のアルキレン基を表す。)で示されるカチオン性ビニルモノマーを合成し、該モノマー、そのオリゴマー又はポリマーを帯電防止の有効成分として、基材上にコーティングすることで帯電防止層を形成させる。
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【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは−Ｙ−Ａで示され、複数のＸが存在する場合、Ｘは同一または異なっていてもよく、Ａはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Ｙは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される３〜１０個の元素からなる連結基である）で示されるＴ単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】２−メチルー２ーアダマンチルアクリレート、２-エチルー２-アダマンチルアクリレート、及び１，３−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも１種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも１つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料。 （もっと読む）

【課題】配向処理した支持基板に塗工することにより、均一なホメオトロピック配向が形成可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】トリプチセン−１，４−ジイルを含む下式（１−１）、（２−１）で代表される化合物、硫黄を含む化合物、ＣＮを含む化合物および縮合環を含む化合物からなる重合性化合物の混合物とアミン系シランカップリング剤とを含有する組成物であって、これを支持基板上に塗布することによってホメオトロピック配向の重合性液晶層を形成することができる重合性液晶組成物。


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【課題】高耐熱性を有するアクリル系共重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】高耐熱性アクリル系共重合体は、下記式（１）：


［式中、ｘは１〜３であり、ｙは０〜３である］で示されるモノマーからなる繰り返し単位とメタクリル系モノマー誘導体からなる繰り返し単位とを有する。この高耐熱性アクリル系共重合体は、下記式（２）：


［式中、ｘは１〜３であり、ｙは０〜３である］で示される化合物とメタクリル系モノマーとを、過酸化物重合反応開始剤の存在下で、共重合することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】低屈折率かつ高耐擦傷性の反射防止フィルムの提供。
【解決手段】下記一般式（１）の化合物、および無機微粒子を含む組成物を硬化してなる層を含有する。（式（１）中、Ｙは式（２）で表される基（但し、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、又は水酸基を表す。）又はビニル基を表し、Ｌ_１は式（３）又は（４）で表される基を表し、Ｌ_２及びＬ_３は、式（５）、（６）又は（７）で表される基を表し、Ｒｆ_１は飽和パーフルオロアルキル基、Ｒｆ_２はパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ_３は、パーフルオロアルキル基又は塩素原子を表す。）
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【課題】フフォトリソグラフィーによりアスペクト比が大きいパターン加工が可能で、かつ絶縁性に優れている絶縁層形成用材料を提供すること。
【解決手段】（Ａ）平均粒子径１ｎｍ以上４０ｎｍ以下の硫酸バリウム粒子、（Ｂ）重合性基およびカルボキシル基を有する化合物、または重合性基を有するリン酸エステル化合物を含むペースト状または未硬化シート状の絶縁層形成用材料。 （もっと読む）

【課題】良好なインプリント性と光硬化性を有し、機械的特性や各種耐久性、中でも光硬化性、耐熱性および弾性回復率に優れたインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。
【解決手段】光重合性単量体と、光重合開始剤と、酸化防止剤と、含有する光インプリント用組成物であって前記光重合性単量体の含有量が８０〜９９質量％であり、前記酸化防止剤の含有量が０．３〜７．質量％であり、前記酸化防止剤が、ヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とセミヒンダードフェノール系酸化防止剤の混合物、またはヒンダードアミン系酸化防止剤のみ、のいずれかであることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理を行わずに偏光または非偏光の放射線照射によって少ない露光量でも良好な液晶配向能を有する液晶配向膜を与えることができ、しかもポストベーク時に熱分解の問題を起こさない液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式（１−１−１）


で表される化合物に代表される特定の化合物の（共）重合体を含有し、好ましくはさらにポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種の重合体またはポリシロキサンを含有する。 （もっと読む）