【課題】薄い膜厚で密着性の高い膜を形成する鉄基材の表面処理方法を提供する。
【解決手段】基材１０の表面処理方法であって、基材１０の表面にフラーレン２０を塗布し、フラーレン２０を塗布した基材１０の表面に窒素イオンを照射し、窒素イオンを照射した鉄基材１０の表面に再度フラーレン３０を塗布し、再度フラーレン３０を塗布した基材１０の表面を加熱する。また、基材１０の表面に窒素イオンを照射するときには、フラーレン２０が窒素イオンの照射によってアモルファス化される前に、フラーレン２０がアモルファス化しない所定のイオンエネルギー以下の窒素イオンを少なくとも１回照射する。 （もっと読む）

【課題】 エンジンの運転時に加わる熱によって消滅する、エンジンの運転時に加わる振動によって排気管の破損を引き起こす等の不具合が発生しない情報表示を備えた排気管を提供する。
【解決手段】 金属からなる基材と、上記基材の表面上に形成された非晶質無機材を含む表面被覆層と、文字部と背景部からなる情報表示とを有し、上記文字部及び上記背景部の少なくとも一方は上記表面被覆層に含まれていることを特徴とする排気管。 （もっと読む）

【課題】本発明は、向上した防食性を有するマグネシウム部品に関する。
【解決手段】この部品は、Ｘが元素周期律表の第ＩＩＩ族主族の元素、第ＩＩＩ族の遷移元素、または希土類元素からなる群から選ばれた元素であり、Ｙが元素周期律表の第ＩＩＩ族または第ＩＶ族主族の元素、第ＩＩＩ族または第ＩＶ族の遷移元素、または希土類元素からなる群から選ばれた元素である、ガラス質の二元系Ｍｇ−Ｘ合金またはガラス質の三元系Ｍｇ−Ｘ−Ｙ合金が塗布されたものである。塗膜は、陰極線アトマイゼーションのような物理蒸着法により作製される。 （もっと読む）

【課題】防錆性、密着性、耐熱性等の必要な諸性能を有し、打抜き加工後に酸化性を有する雰囲気で歪取り焼鈍を行ってもスティッキングを生じないクロム不含の絶縁皮膜を備えた電磁鋼板。
【解決手段】ＳｉＯ₂およびシリカと共働してガラス化可能な酸化物（例、ＣａＯ、Ａｌ₂Ｏ₃）よりなる群から選ばれる１種または２種以上の酸化物から構成された酸化物層のみからなるか、または酸化物層の上に水溶性多価金属塩を含む液の塗布と焼き付けにより形成された上層を備えた絶縁皮膜を形成する。酸化物層の付着量は該酸化物の合計付着量として０.３〜１.５ｇ／ｍ²、上層の付着量が１.５ｇ／ｍ²以下である。上層は合成有機樹脂を含んだ半有機皮膜でもよい。 （もっと読む）

【課題】炭素共析型電気Ｃｒめっき膜をアンダーコートとしてその上に積層される高品質ＤＬＣ膜の密着性を向上させること、とくに膨れ現象を発生させることのないＤＬＣ膜被覆部材とそれの製造方法を提供する。
【解決手段】金属製基材と、その表面に被覆形成された、被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜と、その被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜表面に被覆形成されたＤＬＣ膜とからなるＤＬＣ膜被覆部材およびその部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基材の表面に被覆膜を被覆した被覆部材に関し、基材と被覆膜との密着性を向上させるための新規の手法を用いた被覆部材の製造方法およびその製造方法により得られる被覆部材を提供する。
【解決手段】本発明の被覆部材は、基材の表面の少なくとも一部に被覆膜を形成する被覆膜形成工程と、基材の表層部および被覆膜のうち引張り残留応力が発生したいずれか一方を塑性変形させて該被覆膜にかかる残留応力を緩和させる応力緩和工程と、を経て製造される。被覆膜にかかる残留応力が緩和されることで、基材と被覆膜との密着性が向上する。被覆膜の表面に適切な条件の下でショットピーニングなどを施すことで、基材の表層部および被覆膜のいずれか一方のみを簡便に塑性変形させることができる。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性を有し、平面、曲面を問わず製作可能であり、Ｂ５サイズ以上の面積の大きな面積であっても作製可能な入れ子を備え、極めて高い平滑性を有する成形品を成形するための金型組立体を提供する。
【解決手段】金型組立体10は、（Ａ）第１金型部11、第２金型部12、溶融樹脂射出部14A, 14B、キャビティ13を備えた金型、並びに、（Ｂ）入れ子20A, 20Bを備えており、入れ子20A, 20Bは、（ａ）金属製ブロック31A, 31B、（ｂ）厚さ０．０３ｍｍ乃至１ｍｍの金属下地層32A, 32B、及び、（ｃ）金属下地層32A, 32B上に形成された、セラミックスから成る溶射皮膜33A, 33Bから構成されており、溶射皮膜は厚さ方向に変化した気孔率を有し、気孔率は溶射皮膜表面に近い側ほど低い値であり、溶射皮膜の表面には、１０原子％乃至４５原子％の水素原子を含有する炭素水素固形物から成る炭素水素固形物被膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】特に陽極において酸素発生を伴う電解銅箔製造、アルミニウム液中給電、連続電気亜鉛メッキ鋼板製造等の工業電解において優れた耐久性を有する電解用電極の製造方法の提供。
【解決手段】バルブメタル又はバルブメタル基合金よりなる電極基体１の表面にAIP法により結晶質Ta及び結晶質Ti成分を含有するバルブメタル基合金よりなるAIP下地層２を形成する工程、AIP下地層２表面にバルブメタル成分を主として含有する金属化合物の溶液を塗布後加熱焼成処理し、AIP下地層２のTa成分のみを非晶質に変換するとともに、非晶質に変換されたTa成分及び結晶質Ti成分を含有するAIP下地層２の表面にバルブメタル酸化物成分を主として含有する酸化物中間層４を形成する加熱焼成処理工程、酸化物中間層４の表面に電極触媒層３を形成する工程よりなる電解用電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、コールドスプレー法で得られる従来の積層体と比較して皮膜の強度および基材に対する皮膜の接合強度に優れる積層体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、コールドスプレー法によって基材２の表面に皮膜３を形成する積層体１の製造方法において、前記基材２の表面に、この基材２の物性と前記皮膜３の物性との間の物性を示す素材からなる中間層Ｍを少なくとも１層形成した後に、この中間層Ｍ上に前記皮膜３を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の表面の少なくとも一部をＤＵＶ放射の効果から保護することである。
【解決手段】コーティングが開示される。コーティングは、放射源を有する装置、例えばリソグラフィ装置に使用することができる。コーティングは元素Ｓｉ、Ｏ、Ｆ及び任意選択でＣ及びＨを含む。物品も開示される。物品は、基板テーブル、光学要素、シャッタ部材、センサ、投影システム、及び封じ込め構造で構成されたグループのいずれか１つでよい。物品の表面の少なくとも一部がコーティングで被覆される。コーティングは元素Ｓｉ、Ｏ、Ｆ及び任意選択でＣ及びＨを含む。コーティングは元素Ｓｉ、Ｏ、Ｃ及びＨを含んでよい。 （もっと読む）

【課題】変圧器に使用した場合に板の個々の層の電気的絶縁を確実なものとする、方向性電磁鋼板の最終アニーリング処理後の電気的絶縁被覆およびその電気的絶縁被覆を用いた方向性電磁鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ、Ｏ、Ｎ、Ｂ又はＦの少なくとも1種のドープ元素を絶縁被覆中に１〜２０原子パーセントの範囲で含む非晶質の炭素−水素ネットワーク製の電気的絶縁被覆を含む方向性電磁鋼板とする。また、前記電気的絶縁被覆とシート基板との間に少なくとも1つの付着改善性中間層を配置する。 （もっと読む）

【課題】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、薄膜の温度を低温に保ちつつ、短時間で結晶化させて得られ、均質で、且つ、樹脂基板上に形成可能である結晶薄膜、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、該薄膜の極近傍に薄膜面と平行に導電性の電極を配置した高周波印加装置内に配置し、高周波電界が該薄膜に集中する条件でプラズマを発生させ、温度を１５０℃以下に維持しながら、及び／又は、結晶化に要する時間１５分以内で、結晶化させて得られることを特徴とする。高周波電界が、非晶質薄膜等に集中するように、プラズマを発生させるために、高周波印加装置内の気体の圧力を最適に制御することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐食性を有する希土類磁石を提供すること。
【解決手段】 好適な実施形態の希土類磁石１は、磁石素体３と、この磁石素体３の表面の全体を覆うように形成された保護層５とから構成され、保護層５は、磁石素体３側から順に、第１の層２、第２の層４及び第３の層６を備えている。第１の層は、少なくとも希土類元素、鉄及び酸素を含む層である。また、第２の層は、少なくとも希土類元素及び酸素を含み非晶質の層である。さらに、第３の層は、少なくとも鉄及び酸素を含む層である。 （もっと読む）

本方式は、１１より多い元素を含む非晶質金属源を提供するステップと、１１より多い元素を含む非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップとを含む。１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む皮膜。堆積室と、堆積スプレーを生成する堆積室の堆積源であって、１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む堆積源と、構造物に堆積スプレーを向ける系とを含む、構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗値のばらつきが小さい薄膜抵抗層付き導電性基材を安価に提供すること、及び抵抗素子を安定に残してプリント抵抗回路基板を製造することができる抵抗層付き導電性基材を提供することである。
【解決手段】 表面に抵抗層が形成されている導電性基材であって、前記抵抗層がアモルファスと結晶質が混在するＰを含有するＮｉからなる薄膜抵抗層である薄膜抵抗層付き導電性基材である。
また、表面に抵抗層が形成されている導電性基材であって、前記抵抗層が結晶質のＰを含有するＮｉからなる薄膜抵抗層である薄膜抵抗層付き導電性基材である。 （もっと読む）

基材（ギアセットのギア等）に、摩耗保護性及び耐腐食性の双方を付与することができる、基材の表面処理方法を開示する。当該方法は、基材に摩耗保護層を設ける工程、及び耐腐食層を設ける工程を具備する。この場合、摩耗保護層がギアに設けられたのち、耐腐食層が当該摩耗保護層を覆うように設けられてもよく、耐腐食層が設けられたのち、摩耗保護層が当該耐腐食層を覆うように設けられてもよい。
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【課題】例えばカムに代表される内燃機関に用いられる部品の耐磨耗特性を向上させる。
【解決手段】表面保護膜としてDCL薄膜を含んだ膜を用い、該DLC薄膜を部品の表面側に形成される第一DLC層と、該第一のDLC層の表面上に形成されて前記他の部品との当接面を構成する第二のDLC層からなるものとし、第一のDLC層の厚さが前記第二のDLC層の厚さよりも厚いこととする。 （もっと読む）

本発明は、一つの反復単位が、炭素、ケイ素および水素を主成分とする２〜１００層（Ａ、Ｂ）からなる１〜１０００の反復単位と、任意に機能性表面層（ＦＳＬ）を含む、低摩耗率かつ低摩擦係数の耐食性薄膜多層構造体に係わる。本発明は、そのような薄膜多層構造体を含む構成要素、およびそのような薄膜多層構造体を堆積する方法にも係わる。
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【課題】本発明は、摺動材の摺動面全体に微細周期構造の形成及び表面改質を行うことで優れたトライボロジー特性を有する摺動材及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】摺動材の基材１の摺動面に成膜されたＤＬＣ膜２に、低フルーエンスのパルスレーザ（フェムト秒レーザ等）を照射することで、照射領域をガラス状炭素に改質された改質領域３とするとともに微細周期構造４を形成する。こうして表面加工された領域を被覆するように潤滑層５を形成することで、摩擦係数等のトライボロジー特性が大幅に改善された摺動材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＡＤ法によって基板上に形成された膜を熱処理する際に、膜の剥離やヒロックの発生を抑制できる複合構造物の製造方法を用いた成膜装置を提供する。
【解決手段】この成膜装置は、原料粉２０をガスによって分散させることによりエアロゾル状態とするエアロゾル生成手段１〜４と、エアロゾル生成手段１〜４によってエアロゾル状態とされた原料粉２０に付着している又は含有されている不純物であって、加熱されることによりガスを発生する不純物の量を低減するために、原料粉２０を処理する処理手段６と、処理手段６によって処理されたエアロゾル状態の原料粉２０を基板３０に向けて吹き付けることにより、基板３０上に原料粉２０を堆積させる噴射ノズル９とを具備する。 （もっと読む）