本発明の例示的な実施形態は、外表面を有する溶融金属収容耐火性容器、および金属ケーシングであって、容器とケーシングとの間の空間を形成している距離を置いて容器の外表面を少なくとも部分的に取り囲んでいる内表面を有する、容器のための金属ケーシングを含む溶融金属収容構造体を提供する。空間は、ケーシングの上および下開口により構造体の外に換気されており上方に延在している非閉塞隙間を含む。断熱材料層は、好ましくは、ケーシングの内表面と容器の外表面との間の空間内に配置されており、断熱材料層が、ケーシングの少なくとも上方に延在している側面における空間よりも狭く、従って空間内に前記非閉塞隙間を形成している。容器は、金属搬送トラフ、金属フィルターのためのハウジング、金属脱ガスユニットのためのコンテナまたはルツボ等であってよい。
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【課題】 下流側の成形型に溶融させた塩を連続して供給できるようにする。
【解決手段】 粒状または粉状の塩を溶融させるための塩溶融炉１であって、供給された塩を溶融した状態で貯留できる坩堝２５と、該坩堝２５を加熱する加熱手段３５と、軸線方向に昇降自在に設けられると共に、坩堝２５の底部２７に鉛直方向に形成された排出孔２８に、先端部が離接して該排出孔２８を開閉する棒４１とを備え、坩堝２５の内面２５ａにケイ酸質の材料で構成すると共に、棒４１の少なくとも表面をケイ酸質の材料で構成する。 （もっと読む）

【課題】鋳造欠陥の発生を抑制でき、健全な大型の鋳塊を製造することができる鋳塊の製造方法およびコールドクルーシブル誘導溶解装置を提供する。
【解決手段】ＣＣＩＭ法で、溶解原料３を供給しつつ、るつぼ底１を下方に引き抜いて鋳塊６を製造する方法において、高周波コイル４の高さ寸法を、水冷銅製るつぼ２の内径寸法の０．５〜０．８倍として鋳塊６を製造する。また、その鋳塊６を製造するコールドクルーシブル誘導溶解装置Ａにおいて、高周波コイル４の高さ寸法を、水冷銅製るつぼ２の内径寸法の０．５〜０．８倍とする。 （もっと読む）

【課題】鋳造欠陥の発生を抑制でき、健全な大型の鋳塊を製造することができる鋳塊の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ＣＣＩＭ法で、溶解原料３を供給しつつ、るつぼ底１を下方に引き抜いて鋳塊６を製造する方法において、水冷銅製るつぼ２を構成する銅製セグメント７間に形成されているスリット８の下端位置を、高周波コイル４の下端位置より下方に配置すると共に、溶湯プール５と鋳塊６との凝固界面が水冷銅製るつぼ２の内面に接する位置が、高周波コイル４の下端位置と高周波コイル４の高さの半分の高さ位置の間に収まるようにして鋳塊６を製造する。 （もっと読む）

【課題】コールドクルーシブル溶解に際し、スターティングブロックによる溶湯の汚染を防止するとともに、スターティングブロックの縁切りや再使用を可能にする。
【解決手段】金属原料を追装しつつ該金属原料を溶解させる溶解炉の炉底部を引き抜いて金属鋳塊を製造するコールドクルーシブル溶解法において、前記炉底部上に、金属鋳塊の最終組成と略同じ組成からなるスターティングブロックを配置しておき、前記溶解初期には該スターティングブロック上で該スターティングブロックの一部とともに前記金属を溶解させ、その後は、前記金属原料を追装しながら該金属原料を溶解して前記引き抜きを行う。溶湯に不純物元素が入り込んで汚染することなく金属鋳塊を得られる。溶湯とスターティングブロックとの縁切れもなく、円滑に溶解作業を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】溶解室の上部の耐火材粉体層と、湯口を形成する耐火セメントとの接合部に生じた隙間から、出湯時に溶解金属が浸入することによる湯漏れ検出網の誤作動を防止した誘導溶解炉を提供するものである。
【解決手段】内側を耐火材焼結層１Ａで、外側を耐火材粉体層１Ｂでルツボ形に形成された溶解室２の外周に、コイル４をスパイラル状に巻回し、このコイル４を保持する円筒状のコイルセメント３の内側の、前記溶解室２の外周の耐火材粉体層１Ｂとの間に、湯漏れ検出網６を設けて、耐火セメント８で形成された湯口９から溶解金属５を出湯するルツボ形の誘導溶解炉において、前記溶解室上部の湯口側の耐火材粉体層１Ｂを、湯口先端の出湯口１０側に膨出させて段部１２を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】光学ガラスのガラス溶融炉において、ガラス溶融槽を開閉自在に密封し、炉内部に発生したガスの炉外への流出を防止することが可能なガラス溶融炉を提供する。
【解決手段】ガラス材料を溶融する溶融槽を備えたガラス溶融炉において、溶融槽の上部は、開放され、開放された溶融槽の上部に着脱自在に装着され、該上部を閉鎖する蓋を備え、蓋は、少なくともガラス材料の溶融時には液状化して溶融槽を密封する封止材を挟んで、溶融槽の上部に装着される。 （もっと読む）

【課題】粉末シリコンなどの粉末材料をプラズマトーチによって溶融しようとすると、粉状原料を投入した際の飛散ロスが大きいために歩留りが低くなり、また、直流アーク法においては、アーク火点での高温の影響でシリコンが蒸発してしまう。
【解決手段】上部に開口を有し内部に溶融対象を収容する有底筒状の坩堝と、電極と電極を囲むノズルからなるプラズマトーチとを具備し、前記開口は、少なくともその周縁領域が導電材料からなり、プラズマトーチの電極と前記開口の周縁領域との間に電圧を印加するとき前記電極と前記領域との間に通電状態のプラズマが生成され、非通電状態のプラズマと非通電状態のプラズマが消失した後のガスとの少なくとも一方が坩堝内に吹き込まれるようにプラズマトーチと坩堝が配置されたプラズマ溶融装置。 （もっと読む）

【課題】溶解炉内において、固液界面が凹面状から水平面状となるようにし、一方向性の大粒径の結晶成長を可能とする、
【解決手段】上部より導電性の被溶解材料１３を添加しつつ、前記被溶解材料１３を加熱して溶湯を形成する溶解炉１０Ａにおいて、前記被溶解材料１３を誘導加熱して溶湯を形成する誘導加熱コイル１８を設ける。さらに、前記誘導加熱コイル１８の下部側であって前記誘導加熱コイル１８が巻回されていない溶解炉の外周領域から、前記溶湯１４に対して水平方向の直流磁場を印加する磁性体２１（磁極２１Ｎ、２１Ｓ）を設ける。 （もっと読む）

【課題】設備費を安価に抑えた誘導溶解装置を提供する。
【解決手段】誘導溶解装置１は、複数の導電性セグメント１５により形成された側壁面を有し且つ金属材料を収容する炉本体７と、炉本体７の外側に巻回され且つ金属材料を誘導加熱する誘導加熱コイルとを有する溶解炉１０と炉本体７内で形成された金属材料の凝固物を炉本体７の下端部から下方に引き抜く引抜装置４とを備えている。複数の導電性セグメント１５のそれぞれには、冷却水の流入口であるパイプ１７及びパイプ１７よりも下方に配置された流出口であるパイプ１８と、パイプ１７から流入した冷却水が流れ込む外流路１１ａと、外流路１１ａの上端部と連通し且つパイプ１８から冷却水を流出させる内流路１１ｂとが設けられている。 （もっと読む）

【課題】水冷銅ルツボ底部に出湯用ノズルを有するコールドクルーシブル溶解装置を用いて鋳塊を製造する場合において、出湯終期にルツボ内に発生する旋回流を完全に抑え、出湯流を整流化すること。
【解決手段】水冷銅ルツボ１２底部に出湯用ノズル１２ｃを有するコールドクルーシブル溶解装置１０を用いて第１の金属を溶融させ、水冷銅ルツボ１２内に第１の金属の溶湯２０を生成させる溶解工程と、溶湯２０の上方から溶湯２０に整流板１８を装入し、整流板１８の先端を出湯用ノズル１２ｃの開口部に近接させ、溶湯２０を出湯用ノズル１２ｃから鋳型２２に出湯する出湯工程とを備えたコールドクルーシブル溶解装置を用いた鋳塊の製造方法。 （もっと読む）

【課題】溶解炉で溶解した金属の溶湯を係る溶解炉の底部に配置した電磁ノズルを介して安定的に連続出湯できると共に、上記電磁ノズルのノズル閉塞時間を短縮し、出湯流の振れを確実に防止できる金属の溶解出湯装置を提供する。
【解決手段】セミレビテーション溶解炉（溶解炉）２と、係る溶解炉２の底部に配置され且つ金属の溶湯Ｍを出湯するための電磁ノズル１０と、を含み、係る電磁ノズル１０は、ほぼ逆円錐形を呈するノズル本体１１と、係るノズル本体１１の底部の中心部から垂直に垂下する出湯口１６と、係る出湯口１６の内側に配設され且つほぼ円筒形を呈する発熱体２０と、係る発熱体２０の底面および側面を覆い且つ当該発熱体２０よりも金属の溶湯Ｍとの濡れ性が低い低濡れ性部材３０と、を備えている、金属の溶解出湯装置１。 （もっと読む）

【課題】 粒状シリコンの製造工程で、溶融ルツボ底部のノズルから吐出されたシリコン融液滴が雰囲気ガスの不純物で汚染されることを極力防止できるようにする。
【解決手段】 高温加熱炉１１の下部にガス導入口２５を設けると共に、高温加熱炉１１の上部にガス排出口２６を設ける。そして、粒状シリコンの製造工程中に、ガス導入口２５から清浄な雰囲気ガスを高温加熱炉１１の下部に導入して、溶融ルツボ１３直下の雰囲気ガスをガス排出口２６から高温加熱炉１１の外部に排出することで、溶融ルツボ１３直下の雰囲気ガスを浄化する。この状態で、溶融ルツボ１３内で加熱溶融したシリコン融液１７を、該溶融ルツボ１３底部のノズル１５より降下管１６内に吐出させることで、該降下管１６内で粒状化したシリコン融液滴を落下させ、その落下中に該シリコン融液滴を放熱により冷却することで結晶成長させて粒状シリコンを製造する。
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【課題】シリコン融液を出湯させる際に下部に設置してある鋳型の周囲にシリコン融液を飛散させずに、シリコン融液を安定して鋳型６内に注湯することのできるシリコン溶解装置を提供することを目的とする。
【解決手段】内部にシリコン原料を保持し溶融させる溶融坩堝１ａと、前記シリコン原料を加熱し融液とするための加熱手段２と、前記溶融坩堝１ａの底部に設けられた出湯口３と、前記出湯口３の下方に配置された鋳型６とから成るシリコン溶解装置であって、前記溶融坩堝１ａは、その出湯口３に、一端が出湯口３に直結し且つ他端が融液出口となるとともに、前記融液出口におけるシリコン融液の表面張力を抑える貫通孔８を有する融液ガイド７を設けたことを特徴とするシリコン溶解装置。 （もっと読む）

【課題】 結晶性の高い無機物粒子を安定して、かつ低コストで製造することができる無機物粒子作製用坩堝を提供する。
【解決手段】 無機物の融液４を排出して粒状にするノズル部３を備え、坩堝１は無機物の融点よりも溶融温度が高い材料からなり、ノズル部３とともに融液４を保持する内坩堝２ａと、内坩堝２ａよりも溶融温度が高い材料から成り、内坩堝２ａおよびノズル部３を保持する外坩堝２ｂとからなる無機物粒子作製用坩堝１である。坩堝１の強度を確保でき、坩堝１の熱安定性が増し、組み立て精度が向上し、複数回の使用にも耐えうるものとできる。また、この坩堝１のノズル部３から無機物の融液４を排出して粒状にして落下させ、この粒状の融液５を落下中に凝固させることによって無機物粒子を作製することにより、不純物元素の凝縮による欠陥の発生や無機物の物性に影響を与えることを抑えることができ、高品質な無機物粒子を得ることができる。
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